| 意味 | 例文 (216件) |
SPIN-3とは 意味・読み方・使い方
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遺伝子名称シソーラスでの「SPIN-3」の意味 |
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SPIN-3
| human | 遺伝子名 | SPIN-3 |
| 同義語（エイリアス） | Spindlin-3; DXF34; Protein DXF34; SPIN3; MGC40395; FLJ41127; bA445O16.1; Spindlin-like protein 3; spindlin family, member 3 | |
| SWISS-PROTのID | SWISS-PROT:Q99865 | |
| EntrezGeneのID | EntrezGene:169981 | |
| その他のDBのID | HGNC:27272 |
| rat | 遺伝子名 | Spin3 |
| 同義語（エイリアス） | MGC93363; Spin2c; SPI-2.2; CPi-26; Spi-2.2; SPI3; Serpina3n; CPI-26; Serine protease inhibitor 3; Contrapsin-like protease inhibitor 6 precursor; SPI-3 | |
| SWISS-PROTのID | SWISS-PROT:P09006 | |
| EntrezGeneのID | EntrezGene:24795 | |
| その他のDBのID | RGD:3747 |
本文中に表示されているデータベースの説明
「SPIN-3」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 216件
In this case, torque operating on the spin of a free layer 3 becomes zero due to a spin polarization current.例文帳に追加
この場合、スピン分極電流によってフリー層３のスピンに働くトルクが「零」となる。 - 特許庁
The blade member 61 is disposed integrally rotatably on a spin base 8 of a spin chuck 3.例文帳に追加
羽根部材６１は、スピンチャック３のスピンベース８に、一体回転可能に設けられている。 - 特許庁
A gas phase material 4 reacting with a spin coat material 3 is introduced into a spin coater cup 1 during spin coating.例文帳に追加
スピンコート中に、スピンコート材料３と反応する気相材料４をスピンコータカップ１内に導入する。 - 特許庁
After that, the spin chuck 3 is rotated to cause the semiconductor substrate 1 to dry.例文帳に追加
次に、スピンチャック３を回転させて、半導体基板１を乾燥させる。 - 特許庁
Further, all spin number of Co^3+ ion 12 is 2 and thereby, the tetragonal BiCoO_3 has magnetism.例文帳に追加
また、Co^3+イオン１２の全スピン数が２であり、正方晶BiCoO_3は磁性を有する。 - 特許庁
When a spin table 3 is rotated at the time of forming a thin film on a substrate 2, a blade 14 is rotated synchronously with the rotation of the spin table 3 to more reduce the number of rotation as compared to that of the spin table 3 and the downward flow of air is generated by the rotation of the blade 14.例文帳に追加
基板２への薄膜形成時にスピンテーブル３が回転すると、羽根１１がスピンテーブル３の回転数より減速されてスピンテーブル３の回転と同期回転し、この羽根１４の回転によって下方に向く空気流が生じる。 - 特許庁
The substrate processing apparatus 1 includes a spin chuck 3, a processing liquid nozzle, and a cup 5.例文帳に追加
基板処理装置１は、スピンチャック３、処理液ノズルおよびカップ５を備えている。 - 特許庁
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「SPIN-3」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 216件
A resist layer 7 is formed on the surface of the substrate 3 by coating a resist by a spin or spray method.例文帳に追加
基板３表面に、スピンまたはスプレー法でレジストを塗布し、レジスト層７を形成する。 - 特許庁
An air path 7, communicating with an exhaust duct 8 is provided around a substrate chuck 3 of a spin 15.例文帳に追加
スピン部15の基板チャック３の周囲に、排気ダクト８に連通する風路部７を設ける。 - 特許庁
In SC1 processing or spin-dry processing, the wafer W is held in a substrate upper portion holding section 3.例文帳に追加
ＳＣ１処理時およびスピンドライ時には、基板上保持部３にウエハＷが保持される。 - 特許庁
A spin coating apparatus includes a wafer chuck 2, a rotation device 3, a nozzle 8, and a rear surface protection disc 21.例文帳に追加
ウェハチャック２と回転装置３とノズル８と裏面保護円盤２１とを備えている。 - 特許庁
A laundry spin-drying machine is configured to put cleaning liquid in an outer drum 2 for storing a rotating inner drum 3.例文帳に追加
洗濯物脱水機は、回転する内胴３を収納する外胴２の中に洗浄液が入れられる。 - 特許庁
A wafer W held by a spin chuck 3 is contained inside the airtight chamber 2.例文帳に追加
密閉チャンバ２内には、スピンチャック３により保持されたウエハＷが収容される。 - 特許庁
The granulated and flocculated sludge of the second reaction chamber 2 is subjected to gravity dehydration in a gravity spin drying machine 3.例文帳に追加
第２反応槽２の造粒凝集汚泥は重力脱水機３で重力脱水する。 - 特許庁
After the chemical solution 4 is dropped again, the spin chuck 12 is rotated at a high speed to rotate the wafer 3.例文帳に追加
薬液４が再滴下された後、スピンチャック１２を高速回転させてウエハ３を回転させる。 - 特許庁
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