beam mass systemとは 意味・読み方・使い方

The state of the system made up of the mass damper and beam is adjusted to allow measurement of a quantity indicating a resonance of the beam (1), and the position of the mass (5) in the damper (3) is varied so that an optimum damping is generated for at least one impulse.例文帳に追加

マスダンパ及びビームにより形成される系の状態は、ビーム（１）の共振を表す量が測定されるように調整され、ダンパ（３）におけるマス（５）の位置が最適な減衰が少なくとも１つのインパルスに対して生成されるように変化される。 - 特許庁

A pattern is projected onto a target through a projection system by a beam of highly energetic charged particles of largely a species of a nominal mass having a nominal kinetic energy.例文帳に追加

パターンが、主に、名目運動エネルギーを有する名目質量の種の高エネルギー荷電粒子のビームを用いて、投射システムを介して対象に投射される。 - 特許庁

To install a micromachining function of an FIB (focused-ion beam) system and a non-destructive and excellent image forming function of an SEM (scanning electron microscope) into a single apparatus suitable for mass production of high-precision nanodevices.例文帳に追加

ＦＩＢシステムのマイクロマシニング機能と、ＳＥＭの非破壊かつ優れた像形成機能とを、高精度なナノデバイスの大量生産に適した１台の装置に組み込む。 - 特許庁

This apparatus is provided with an ion gun 6 for ejecting an ion beam and a treatment room 4, through a mass separation machine 2 for selecting ions, a post-acceleration tube 3, a Q lens system 15 and a deflector 16.例文帳に追加

イオンビーム６を放出するイオン源と、イオン選別用質量分離２、後段加速管３、Ｑレンズ系１５、偏向器１６などを経て処理室４が設置されている。 - 特許庁

The suspension system includes at least one flexure connecting at least one proof mass to the substrate and at least one anchored suspension element with a split support beam.例文帳に追加

吊り下げシステムは、少なくとも１つのプルーフマスを基板に接続する少なくとも１つの屈曲部を有し、また、分割支持梁を備える、少なくとも１つのアンカー吊り下げ素子を有する、分割支持梁は、第１分割部分と第２分割部分とを有する。 - 特許庁

The film formation device is provided with: a vacuum tank 11 having an N2 gas introduction means; hearths 31, 31 for M (M denotes Ti or Cr) or for Al; hollow cathode-shaped electron guns 20, 20; an electron beam source; a bias source for workpieces W, W, ...; a mass analyzer 50; and a compositional ratio control system.例文帳に追加

Ｎ2 ガスの導入手段を有する真空槽１１と、Ｍ（Ｍは、Ｔi またはＣr ）用、Ａl 用のハース３１、３１と、ホローカソード形の電子銃２０、２０と、電子ビーム電源と、ワークＷ、Ｗ…用のバイアス電源と、質量分析計５０と、組成比制御系とを設ける。 - 特許庁

To provide an Fe-Co-V soft high magnetic flux-density material which is used, e.g., for a ball piece and a yoke of an electron lens for an electron microscope, an electron beam lithography system, etc., and a ball piece and a yoke of an electromagnet for a magnetic resonance apparatus, a mass spectroscope, etc., and also to provide its manufacturing method.例文帳に追加

電子顕微鏡、電子ビーム描画装置等の電子レンズのボールピース、ヨーク、および磁気共鳴装置、質量分析装置等の電磁石のボールピース、ヨーク等に使用するＦｅ−Ｃｏ−Ｖ軟質性の高磁束密度材料およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Further, since only a laser beam reflection part 26 requiring no power source is to be set on the ground or rock mass of the site subject to sediment disaster when setting the sediment disaster monitoring system 20 therein, facilities to be set in the site subject to sediment disaster can be simplified, and the setting work performed in the site can be facilitated and shortened in construction schedule.例文帳に追加

また、土砂災害監視システム２０を設置する際、土砂災害危険個所の地盤や岩盤に設置するのは、電源が不要なレーザ光反射部２６のみであるため、土砂災害危険個所に設置する設備の簡素化並びに土砂災害危険個所にて行う設置工事の容易化および工期短縮を図ることができる。 - 特許庁