chrome maskとは 意味・読み方・使い方

Blasting marks are formed on the section where the base material is exposed by the blast method while using the exposed chrome layer 101 as a mask to form the printing section.例文帳に追加

露出したクロム層１０１をマスクとして使用しつつブラスト法によって基材が露出した部分にブラスト痕を形成して画線部とする。 - 特許庁

A groove part DH is formed on a dry film 14 on a chrome layer 12 by a photolithography method by which exposure is made from the back face 11r of a glass substrate 11 of which the surface 11f is covered with the chrome layer 12 becoming a mask, and gold 15 is imbedded in the groove part DH.例文帳に追加

マスクとなるクロム層１２で表面１１ｆを覆われるガラス基板１１の裏面１１ｒから露光するフォトリソグラフィー法で、クロム層１２上のドライフィルム１４に溝部ＤＨを形成し、その溝部ＤＨに金１５を埋める。 - 特許庁

A dummy pattern of chrome or tungsten is further formed in a free space on the membrane of a conventional electron beam mask, which contains only a main pattern corresponding to the pattern of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体素子のパターンに対応するメインパターンだけを含む従来の電子ビームマスクのメンブラン上の余裕空間に、クロムまたはタングステンパターンよりなるダミーパターンをさらに形成する。 - 特許庁

This scanner characteristic evaluating device is characterized in that when receiving irradiation of a laser beam, a mask 62 of a chrome film is arranged on a color glass filter 61 having a property of emitting fluorescence, and a regular test pattern 63 for exposing the color glass filter is formed by an opening part of the mask.例文帳に追加

レーザ光の照射を受けると、蛍光を放出する性質を有する色ガラスフィルタ６１上に、クロム膜のマスク６２が設けられ、マスクの開口部によって、色ガラスフィルタが露出される規則的なテストパターン６３が形成されたことを特徴とするスキャナの特性評価用デバイス。 - 特許庁

In this manufacturing method, when a group of resist patterns are formed, a first photo mask 1 composed of a phase shift mask is used for exposure by circular illumination, and a second photo mask 6 composed of a chrome mask is used for exposing by oblique incidence deformation illumination, thus allowing accurate transfer in both the patterns to be transferred by the first and second photo masks 1 and 6.例文帳に追加

一群のレジストパターンを形成する際、まず、位相シフトマスクで構成される第１のフォトマスク１を用いて円形照明により露光し、次いでクロムマスクで構成される第２のフォトマスク６を用いて斜入射変形照明により露光することにより、第１のフォトマスク１で転写されるパターンおよび第２のフォトマスク６で転写されるパターンの両者において高精度な転写が可能となる。 - 特許庁

A chrome film 21 to be a mask 22 is formed on a lower clad layer 122, after the lower clad layer 122, a core layer 13 and an upper clad layer 14 on an etching stop layer (not shown) are removed and also after the etching stop layer is removed.例文帳に追加

マスク２２となるクロム膜２１は、エッチングストップ層（図示せず）上の下部クラッド層１２２、コア層１３及び上部クラッド層１４が除去され、かつエッチングストップ層が除去された後、下部クラッド層１２２上に形成される。 - 特許庁

Emission time control of the laser diode 3 is jointly used, thereby, the fluctuation of light quantity due to the interference which occurs when s-polarization is used in the case of chrome mask can be reduced by the contribution of the p-polarization component and the stable positional control is made possible.例文帳に追加

レーザダイオード３の発光時間制御を併用することで、クロムマスクの場合にｓ偏光だと生じる干渉による光量変動を、ｐ偏光成分の寄与によって低減することができ、安定した位置制御が可能となる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing high resolution shadow mask and a lead frame which does not use chrome compounds involving the burden on the environment, and use a high resolution water-soluble photosensitive resin which is excellent in etching resistance and adhesiveness to a metal substrate.例文帳に追加

環境負荷を伴う有害なクロム系化合物を使用しない耐エッチング性、金属基板への接着性が優れた、高解像度の水溶性感光性樹脂を使用した高解像度のシャドウマスクおよびリードフレームの製造方法の提供。 - 特許庁