colloidal semiconductorとは 意味・読み方・使い方

To provide colloidal silica for use in mirror surface polishing for a semiconductor wafer, which can obtain good surface roughness while suppressing excessive etching occurred on the surface of the semiconductor wafer and maintaining a high polishing speed, and to provide a method for producing the colloidal silica.例文帳に追加

半導体ウエハ表面に生じる過剰エッチングを抑制し、かつ高い研磨速度を維持しつつ、良好な面粗さが得られる半導体ウエハの鏡面研磨用コロイダルシリカおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain both a high-purity colloidal silica usable for polishing processing of an electronic material such as a silicon wafer, a compound semiconductor wafer, a semiconductor device wafer, a magnetic disk substrate or a rock crystal substrate, containing a trace amount of metal impurities and producible at a low cost, and to provide a method for producing the colloidal silica.例文帳に追加

シリコンウエハ、化合物半導体ウエハ、半導体デバイスウエハ、磁気ディスク基板、水晶基板等の電子材料の研磨加工に用いることのできる，極めて少量の金属不純物量の，且つ低コストで製造できる高純度コロイダルシリカ及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The polishing slurry for polishing a barrier layer of a semiconductor integrated circuit contains persulfate, colloidal silica and amine derivative.例文帳に追加

半導体集積回路のバリア層を研磨する為の研磨液であって、過硫酸塩とコロイダルシリカと、アミン誘導体とを含むバリア層用研磨液。 - 特許庁

A semiconductor thin film 15, wherein semiconductor colloidal nanodots 30 is modified with organic molecules in the surface of semiconductor nanodots, is arranged regularly in two-dimension, and is formed into a structure used for a channel between a source electrode 12 and a drain electrode 13.例文帳に追加

半導体ナノドットの表面を有機分子で修飾した半導体コロイダルナノドット３０を二次元的に規則配列させた半導体薄膜１５を、ソース電極１２−ドレイン電極１３間のチャネルに利用した構造とする。 - 特許庁

To provide a flocculation treatment method for silicon particulates and/or colloidal silica containing waste water capable of obtaining treated water having good water quality by subjecting the waste water containing the silicon particulate and/or colloidal silica generated in a semiconductor manufacturing process or the like to flocculation treatment and efficiently recovering the silicon particulates and/or the colloidal silica.例文帳に追加

半導体製造プロセスなどにおいて発生するシリコン微粒子及び／又はコロイドシリカを含有する排水を凝集処理して、シリコン微粒子及び／又はコロイドシリカを効率的に回収し、水質の良好な処理水を得ることができるシリコン微粒子及び／又はコロイドシリカ含有排水の凝集処理方法を提供する。 - 特許庁

In the method of forming the organic semiconductor film to the polysilsesquioxane thin film, an organic semiconductor solution containing phenyl group-modified colloidal silica is applied onto the polysilsesquioxane thin film, and a coating film is dried.例文帳に追加

フェニル基修飾コロイダルシリカを含有する有機半導体溶液をポリシルセスキオキサン薄膜上に塗布し、塗膜を乾燥させることを特徴とする、ポリシルセスキオキサン薄膜への有機半導体膜の製膜方法。 - 特許庁

To provide a polishing agent and a polishing method for improving a polishing speed in a method for polishing a semiconductor wafer until it becomes a mirror plane with a colloidal silica.例文帳に追加

コロイダルシリカで半導体ウェーハーを鏡面状にまで研磨する方法において、研磨速度を著しく向上せしめる如き研磨剤及び研磨方法を提供すること。 - 特許庁

This method is provided for polishing the semiconductor wafer by abrasives made of colloidal silica having the distorted shape having the long diameter of 7 to 10000 nm and the short/long diameter of 0.3 to 0.8, and the abrasives are provided.例文帳に追加

７〜1000 nm の長径と0.3〜0.8 の短径／長径を有する歪な形状を有するコロイダルシリカからなる研磨剤で半導体ウェーハーを研磨する方法、及びその研磨剤。 - 特許庁