colloidal processingとは 意味・読み方・使い方

The method for forming an image includes forming an image portion by providing an ink composition containing color material on the porous layer of a recording medium which has the porous layer containing at least inorganic particles on a support body, and providing thereafter a processing solvent containing colloidal silica with a primary average particle diameter of 5 to 60 nm.例文帳に追加

支持体上に無機微粒子を少なくとも含む多孔質層を有する記録媒体の該多孔質層上に、色材を有するインク組成物を付与して画像部を形成後、平均一次粒子径が５〜６０ｎｍのコロイダルシリカを含む処理液を付与する画像形成方法。 - 特許庁

In the processing method, a silver halide photographic sensitive material having a hydrophilic colloidal layer on at least one side of the support and also having a layer containing compounds of formulae 1-4 (where W is an electron withdrawing group; D is an electron donative group; and H is a hydrogen atom) is processed with a developing solution containing reductones.例文帳に追加

支持体の少なくとも一方の側に親水性コロイド層を有し、かつ一般式（１）〜（４）の化合物を含有する層を有するハロゲン化銀写真感光材料を、レダクトン類を含有する現像液で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 特許庁

In the processing method, the silver halide photographic sensitive material with a hydrophilic colloidal layer containing flat platy silver halide grains which satisfy conditions described in this specification is developed with a developing solution containing a polyhydric alcohol.例文帳に追加

本明細書中記載の条件を満たす平板状ハロゲン化銀粒子を含有する親水性コロイド層を有するハロゲン化銀写真感光材料を多価アルコールを含有する現像液で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 特許庁

When necessary processing is performed on the glass substrate and rough polishing and then finish polishing are performed on the surface of the glass substrate, a finish polishing process comprises an ultra-precision polishing step of polishing the surface of the glass substrate by using a polishing liquid (polishing slurry) comprising colloidal silica abrasive grains produced by hydrolysis of an organosilicon compound.例文帳に追加

ガラス基板に必要な加工処理を施し、表面を粗研磨した後に仕上研磨を行う方法において、その仕上研磨工程の中に、有機ケイ素化合物を加水分解することで生成したコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液（スラリー）を用いて研磨する超精密研磨工程を設ける。 - 特許庁

In a process comprising subjecting the glass substrate to necessary processing, roughly polishing a surface thereof, and then conducting finish polishing thereof, a super-fine polishing step of polishing the surface using a polishing liquid (slurry) containing colloidal silica abrasive grains produced by hydrolysis of an organic silicon compound is provided in the finish polishing step.例文帳に追加

ガラス基板に必要な加工処理を施し、表面を粗研磨した後に仕上研磨を行う方法において、その仕上研磨工程の中に、有機ケイ素化合物を加水分解することで生成したコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液（スラリー）を用いて研磨する超精密研磨工程を設ける。 - 特許庁

The hair fiber is obtained by processing fiber selected from the group consisting of protein fiber, synthetic fiber and their combination, with a processing solvent containing 0.01-0.8 wt.% of a compound selected from the group consisting of aqueous resin, colloidal silica-containing silicone oil, and their combination.例文帳に追加

本発明の頭髪用繊維は、蛋白繊維、合成繊維、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される繊維を、水性樹脂、コロイダルシリカ含有シリコーンオイル、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される化合物０．０１重量％〜０．８重量％含有する処理液で処理して得られる。 - 特許庁

In the inkjet recording gloss paper, whereon a cast coating processing is performed by a coagulating method, a gloss developing layer coating liquid contains, as a pigment, a colloidal silica having a shape wherein a plurality of particles are randomly coagulated, 97 mol% or less saponified polyvinyl alcohol in a binder, and a 20° glossiness corresponding to JIS Z 8741 is 20% or more.例文帳に追加

この課題は、キャストコート加工が凝固法で行われており、光沢発現層塗工液が顔料として複数個の粒子がランダムに凝集した形状を持つコロイダルシリカを含有し、かつ結着剤中に鹸化度が９７ｍｏｌ％以下のポリビニルアルコールを含有し、かつＪＩＳ Ｚ ８７４１に準ずる２０°光沢度が２０％以上であるインクジェット記録用光沢紙によって解決される。 - 特許庁

The insulating layer on the semiconductor wafer is polished in an interlevel insulating material processing by a water composite consisting of 0.001-1 wt% of quaternary ammonium compounds, 0.01-20 wt% of colloidal silica, 0-5 wt% of surfactants, 0-5 wt% of carboxylic acid polymer, and water as a residue.例文帳に追加

第四級アンモニウム化合物０．００１〜１重量％、コロイダルシリカ０．０１〜２０重量％、界面活性剤０〜５重量％、カルボン酸ポリマー０〜５重量％及び残余としての水を含む水性組成物によりインターレベル絶縁材加工において半導体ウェーハ上の絶縁層を研磨する。 - 特許庁