conformallyとは 意味・読み方・使い方

After a side wall film is formed conformally, it is etched back, and also the core material film 31 is removed, to form a side wall pattern including the side wall film on the processing subject.例文帳に追加

側壁膜をコンフォーマルに形成した後、エッチバックし、さらに芯材膜３１を除去して、加工対象上に側壁膜からなる側壁パターンを形成する。 - 特許庁

A common electrode is conformally formed on the upper substrate and the insulating spacer to electrically connect the first metal layer via a discrete transparent conductive layer.例文帳に追加

共通電極が、上部基板と絶縁スペーサの上に等角に形成され、個別の透明な導電層を介して第１の金属層に電気的に接続している。 - 特許庁

In one or a plurality of embodiments, an electromagnetic tracker unit 310 is conformally installed with the medical image pickup component element 300.例文帳に追加

本明細書に記載した１つまたは複数の実現形態では、電磁気式トラッカー・ユニット（３１０）が医用画像取り込み構成要素（３００）と共形的に装着されている。 - 特許庁

Next, a second sacrificial hard mask 14 is deposited conformally and holes are interleaved on centers of respective groups of studs 13 by directional etching in order to make a final array arrangement.例文帳に追加

次に第２犠牲ハードマスク１４をコンフォーマルに堆積し、最終アレイ配置にするために上記のスタッド１３の各グループ間の中央部に方向性エッチングによる穴を交互配置する。 - 特許庁

After the surface treatment step have been completed, a first conductive film 75 is conformally formed on the entire surface on the semiconductor substrate and then a protrusion 77 is formed on upper-part side wall of the self-aligned contact hole 71.例文帳に追加

表面処理工程が完了された後、半導体基板上の全面に第１導電膜７５をコンフォーマルに形成する、この時、自己整列コンタクトホール７１の上部側壁に突出部７７が形成される。 - 特許庁

The spray coating apparatus moves back and forth to spray a first phosphor solution 130' over the LED chip so that the light emitting surface and the side surfaces of the LED chip are conformally coated by the sprayed first phosphor solution.例文帳に追加

スプレーコーティング装置は、ＬＥＤチップに第１の蛍光体溶液１３０’を噴霧するべく前後に動き、その結果、ＬＥＤチップの発光面および側面を、噴霧された第１の蛍光体溶液によってコンフォーマルコーティングすることができる。 - 特許庁

A channel region 108 of the MOS transistor 106 is provided with a distortion introduction element by a first trench structure 55a and a second trench structure 55b, and also with a silicon-nitride cap layer 130 conformally provided on a surface of the MOS transistor 106 as another distortion introduction element.例文帳に追加

ＭＯＳトランジスタ１０６のチャネル領域１０８に、第１トレンチ構造５５ａ、第２トレンチ構造５５ｂによる歪み導入要素だけでなく、別の歪み導入要素として、ＭＯＳトランジスタ１０６表面上にコンフォーマルに設けられた窒化シリコンキャップ層１３０を設ける。 - 特許庁