dot etchingとは 意味・読み方・使い方

After an InAs quantum dot, fabricated by S-K mode growth on a GaAs substrate, is embedded and planarized using GaAs, molecular-layer etching for etching molecular layers layer by layer is carried out continuously, without moving from the growth container.例文帳に追加

ＧａＡｓ基板上にＳ−Ｋモード成長を利用して作製したＩｎＡｓ量子ドットをＧａＡｓで埋め込んで表面を平坦にした後、分子層を一層、一層エッチングする分子層エッチングを、成長槽内から移動せずに連続的に行なう。 - 特許庁

Successively, exposure and development are performed, a plurality of first openings discretely arranged so as to be a dot shape are formed in a first etching starting region on the first resist film, and a second opening as a perfect opening is formed in a second etching starting region (steps S12, S13).例文帳に追加

続いて、露光および現像が行われ、第１レジスト膜上の第１エッチング開始領域において網点状に離散的に配列された複数の第１開口が形成され、第２エッチング開始領域において完全な開口である第２開口が形成される（ステップＳ１２，Ｓ１３）。 - 特許庁

The hard mask of a circular dot pattern is formed on a silicon substrate (100), and a circular silicon pillar is formed by reactive ion etching.例文帳に追加

シリコン基板（１００）上に円形ドットパターンのハードマスクを形成し、反応性イオンエッチングにより円形状のシリコンピラーを形成する。 - 特許庁

The projections of the light extraction surface can be formed by etching using a dot pattern formed by phase separation of a block copolymer, as a mask.例文帳に追加

この光取り出し面の凸部は、ブロックコポリマーの相分離により形成されるドットパターンをマスクとしてエッチングすることにより形成させることができる。 - 特許庁

A dot hole 4 is formed at a place where a liquid droplet is applied by putting the same, capable of effecting wet etching, on the surface of the substrate 1.例文帳に追加

ウェットエッチング可能な液滴を基板１表面に載せることにより、液滴を塗布した場所に対してウェットエッチングによりドット穴４が形成され、マーキングが行われる。 - 特許庁

To provide a resist which has excellent adhesive properties to a substrate and excellent dry etching resistance, with respect to a dot pattern which is difficult to adhere to the substrate and which has a large aspect ratio.例文帳に追加

基板との密着が困難なアスペクト比の大きいドットパターンにおいて、基板との密着性に優れ、かつドライエッチング耐性に優れたレジストを提供すること。 - 特許庁

The occurrence of micropeeling between the resin layer 2 and the substrate 1 by the thermal stress due to the heat of dry etching is reduced and the occurrence of the black dot is drastically reduced.例文帳に追加

ドライエッチングの熱による熱応力により、樹脂層２と基板１との間で微小剥離が発生することが少なくなり、黒ブツの発生が大幅に削減される。 - 特許庁

The roughening method of a silicon substrate comprises: a process of applying an organic metal solution or an organic metal dispersion solution on a substrate in a dot shape with an ink jet method; a process of drying the substrate; a process of irradiating the surface of the substrate with plasma; and a process of etching the substrate.例文帳に追加

有機金属溶液あるいは有機金属の分散液を基板にインクジェット法でドット状に塗布する工程と、上記基板を乾燥する工程と、上記基板の表面にプラズマを照射する工程と、上記基板をエッチング処理する工程とを備えたシリコン基板の粗面化方法である。 - 特許庁