electron beam techniqueとは 意味・読み方・使い方

To provide an accurate and high-speed electron beam-plotting technique for carrying out the position correction of each beam without using reflector arrays or enormous and precise drive circuits in a multi-beam plotting system.例文帳に追加

マルチビーム描画方式において、各ビームの位置補正を偏向器アレイと膨大かつ高精度な駆動回路を用いずに高精度かつ高速な電子ビーム描画技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technique in a method for producing a metallic ingot with an electron-beam melting, with which powdery alloy raw material and granular raw material are uniformly supplied into an electron-beam melting furnace at good yield.例文帳に追加

電子ビーム溶解による金属インゴットの溶製方法おいて、粉状の合金原料と顆粒状金属原料を歩留まり良く、また均一に電子ビーム溶解炉に供給する技術を提供する。 - 特許庁

To provide an electron-beam excitation dry etching technique using a reaction gas having low toxicity and corrosiveness in the partial etching of a metallic material required in a fine machining technique.例文帳に追加

微細加工技術で必要な金属材料の局所的エッチングを毒性、腐食性の低い反応ガスを用いた電子ビーム励起ドライエッチング技術を提供する。 - 特許庁

To solve the problem of a performance enhancing technique in microfabrication of a semiconductor device using an electron beam or X-ray and to provide a negative type resist composition for an electron beam or X-ray satisfying such characteristics as sensitivity and resist shape when an electron beam or X-ray is used.例文帳に追加

電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はＸ線の使用に対して感度とレジスト形状の特性を満足する電子線又はＸ線用ネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To solve the problem of a performance enhancing technique in microfabrication of a semiconductor device using an electron beam or X-ray and to provide a negative type resist composition for an electron beam or X-ray satisfying such characteristics as sensitivity and resist shape when an electron beam or X-ray is used.例文帳に追加

電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はＸ線の使用に対して感度とレジスト形状の特性を満足する電子線又はＸ線用ネガ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a technique capable of restraining the charges generated by electron beam irradiation from accumulating in a measuring sample, in a probing device that uses an SEM (scanning electron microscope) as the observation means.例文帳に追加

ＳＥＭを観察手段として用いるプロービング装置において、電子線照射により生じる測定試料への電荷の蓄積を抑制することのできる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technique for preventing a transistor from being irradiated with radioactive rays when a metal film is deposited by means of an electron beam deposition method.例文帳に追加

電子ビーム蒸着法により金属膜を形成するにあたって、放射線がトランジスタに照射されることを防ぐ技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technique for facilitating the position adjustment of a crossover and improving the throughput of a device in the charged particle beam application device, such as an electron beam drawing device.例文帳に追加

電子線描画装置等の荷電粒子線応用装置において、クロスオーバーの位置調整を容易にし、当該装置のスループットを向上させることができる技術を提供する。 - 特許庁