electron currentsとは 意味・読み方・使い方

To provide electron guns for a color cathode-ray tube capable of providing currents to a screen with high sensitivity relative to driving voltages and having little variations in chromaticity.例文帳に追加

駆動電圧に対して高感度でスクリーンへの電流を得ることができ、色度のバラツキのすくないカラー陰極線管用電子銃を得る。 - 特許庁

To provide an image forming device in which ineffective currents flowing through pertinent electron emitting elements are reduced by holding electron emitting elements which are not selected in high resistance states at the time of driving a display panel while successively selecting multiple electron beam sources which are constituted of a plurality of electron emitting elements and to provide a driving method therefor.例文帳に追加

複数の電子放出素子により構成されるマルチ電子ビーム源を順次選択しながら駆動するに際して、選択していない電子放出素子を高抵抗化状態に保持することにより、当該電子放出素子に流れる無効電流を低減する画像形成装置及びその駆動方法の提供。 - 特許庁

Then, values of constant currents to be supplied from the circuit 41 to electron emitting elements of the panel 5 are controlled in accordance with this voltage Vb.例文帳に追加

この電圧Ｖｂに応じて定電流源制御回路４１から表示パネル６の電子放出素子へと供給される定電流の値を制御する。 - 特許庁

Positions of the probes can be specified with the use of information of irradiation positions of the electron beams at the time of measurement of the absorption currents in the probes.例文帳に追加

プローブにおける吸収電流を測定した時点での電子ビームの照射位置の情報を用いて、プローブの位置を特定することができる。 - 特許庁

A current-sensor array 4 has sensors for measuring the strengths of the electron beams (currents) in the portions other than the apertures.例文帳に追加

電流検出器アレイ４は、アパーチャアレイ３の上記開口以外の部分において電子ビームの強度（電流）を計測する電流検出器を有する。 - 特許庁

To reduce luminance uneveness which is generated by a voltage drop generated to the currents from scanning circuits arranged on both sides in an electric field effect type display device that uses an MIM type electron discharging element.例文帳に追加

ＭＩＭ型電子放出素子を用いた電界効果型表示装置で、両側の走査回路からの電流による電圧降下で生じる輝度むらを低減する。 - 特許庁

When the exciting currents of the reflectors R1 and R2 are changed while the above relation is kept unchanged, the sensitivity of the point of incidence of the electron beam 3 on the wafer 5 is obtained.例文帳に追加

そして、この関係を保って偏向器Ｒ１と偏向器Ｒ２の励磁電流を変化させたときの、電子線３のウエハ５への入射位置の感度を求める。 - 特許庁

To provide an electron beam lithography system, having a proper deflected magnetic field distribution by suppressing the occurrence of eddy currents and magnetic fields which reach a magnetic body due to a deflector to a minimum.例文帳に追加

偏向器による、渦電流の発生、磁性体への到達磁場を最小に抑え、良好な偏向磁場分布を有する電子線描画装置を実現する。 - 特許庁