electron systemsとは 意味・読み方・使い方

This pattern inspection device of the present invention is arranged with at least three or more of electronic optical systems, and a degree of vacuum in the vicinity of a plurality of electron sources is kept high all the time by vacuum-evacuating an electron gun chamber mounted with the plurality of electron sources independently from a sample chamber.例文帳に追加

電子光学系を少なくても３本以上配置し、複数の電子源を搭載した電子銃室を試料室とは独立に真空排気することによって複数の電子源近傍の真空度を常に高真空に保つ。 - 特許庁

The electron multiplier (500) is provided with a structure for retaining at least dynode groups of two systems arranged in a state with a tube axis (AX) pinched in between of a closed vessel (100) with the electron multiplier (500) stored.例文帳に追加

この電子増倍部(500)は、該電子増倍部(500)が収納された密封容器(100)の管軸（ＡＸ）を挟んだ状態で配置された少なくとも２系統のダイノード郡を保持する構造を備える。 - 特許庁

When moving an observation position while watching an observation image, one sample stage 2 is moved in a direction corresponding to respective coordinate systems of a focused ion beam image-displaying section and an electron beam image-displaying section with respect to the moving direction of the sample stage 2 specified by the respective coordinate systems of the focused ion beam image-displaying section and the electron beam image-displaying section.例文帳に追加

観察像を見て観察位置を動かす際、集束イオンビームと電子ビームの像表示部のそれぞれの座標系で指定した試料ステージ２の移動方向に対して、一つの試料ステージ２をそれぞれの座標系に対応した方向に移動する。 - 特許庁

To provide an electron beam apparatus capable of easily adjusting a distance between optical axes of adjacent optical systems corresponding to a change in the size of a chip even when the size is changed.例文帳に追加

チップの寸法が変化しても、それに対応して隣接する光学系の光軸間の距離を容易に調整可能にした電子線装置を供給する。 - 特許庁

Especially, first dynodes (DY1) each belonging to the dynode groups of two systems, are arranged in opposition with a back face opposing to a secondary electron emission face pinching the tube axis (AX).例文帳に追加

特に、２系統のダイノード郡それぞれに属する第1ダイノード(DY1)は、二次電子放出面と対向する背面が管軸(AX)を挟んで互いに対面するよう配置されている。 - 特許庁

This evaluating device is provided with electron beam generating means 1 to 9 for supplying plural electron beams to a surface of a sample 10 via the primary optical system, the secondary optical systems 14 and 15 for introducing a secondary electron beam emitted from the surface of the sample 10 to a detector 17, and moving means 12 and S for relatively moving the sample 10 to the plural electron beams.例文帳に追加

評価装置は、試料１０の表面に一次光学系を介して複数の電子線を供給する電子ビーム生成手段１〜９と、試料１０の表面から放出される二次電子線を検出器１７に導く二次光学系１４、１５と、試料１０を複数の電子線に対して相対的に移動させる移動手段１２、Ｓとを具備する。 - 特許庁

To provide a multistage and multiplex magnetic pole lens system, used in an energy analyzer for an electron microscope and an electron energy analyzer using the same, for simplifying the alignment of the center axes of a plurality of axially symmetrical lens systems to the track of a beam, as much as possible.例文帳に追加

電子顕微鏡用のエネルギーアナライザーに用いる多段多重磁極子レンズ系及びそれを用いた電子エネルギー分析器において、複数の軸対称レンズ系の中心軸を、ビームの軌道に合わせる調整をできるだけ簡便にする。 - 特許庁

The optical axis direction position of the sample face is detected on the basis of the deflection voltage ratio of the deflection systems 19, 20 when the left and right of a secondary electron image of the marker obtained while a primary electron beam is deflected by the electrostatic deflection systems 19, 20 to scan on the marker 18, are just reversed, or the magnification substantially becomes infinite.例文帳に追加

静電偏向器１９及び２０により一次電子線を偏向してマーカ１８上を走査する間に得られた該マーカの二次電子画像の左右が丁度反転するとき又はその倍率が実質的に∞になるときの偏向器１９及び２０の偏向電圧比に基づいて、試料面の光軸方向の位置を検出する。 - 特許庁