etching problemとは 意味・読み方・使い方

To provide a roll with pattern which solves the problem of side etching and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

サイドエッチングの問題を解消したパターン付ロール及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that a circuit formed by a semi-additive method loses physical strength due to flush etching.例文帳に追加

セミアディティブ法で形成した回路はフラッシュエッチングによって物理的強度が失われる。 - 特許庁

To solve the problem of the conventional passivation method in the vicinity of a semiconductor bonding pad that, whichever the etching time of a polyimide film 38 is long or short, it causes a trouble in wire bonding, and the margin of the etching time is small in the etching process of the polyimide film 38, failure rate is high.例文帳に追加

従来の半導体のボンディングパッド付近のパッシベーション方法は、ポリイミド膜３８のエッチング時間が長くても短くてもワイヤボンディングに支障をきたす。 - 特許庁

To provide an etching device which can have its structure simplified, generate plasma with high efficiency without any problem of interference, and obtain excellent vertical etching characteristics.例文帳に追加

構造を簡素化でき、干渉の問題が伴わず、高効率のプラズマを形成でき、良好な垂直エッチング性を得ることができるエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that etching solution enters between an element separation area and a semiconductor substrate to produce a gap when a semiconductor layer is removed by wet etching.例文帳に追加

ウェットエッチングにより半導体層を除去する際、素子分離領域と半導体基板との間にエッチング溶液が入り込み、空隙が生じる。 - 特許庁

To solve a problem that residue of etching is generated because deposited substance or altered layer is formed on a film not including oxygen after the etching of a film including oxygen.例文帳に追加

酸素含有膜のエッチング後に非酸素含有膜の上に堆積物または変質層が形成され、エッチング残さが発生する問題を解決する。 - 特許庁

To solve the problem wherein the etching rate is reduced since polymer is formed, when the upper layer of a photodetector is etched.例文帳に追加

光検出器の上部層をエッチングする際に、ポリマーが形成されるためエッチング速度が低下する。 - 特許庁

To overcome a problem due to double etching of an NMOS/PMOS boundary region when an LDD sidewall is formed.例文帳に追加

ＬＤＤサイドウォール形成時に、ＮＭＯＳ／ＰＭＯＳ境界領域の２重エッチングによる不具合を克服する。 - 特許庁