excitatedとは 意味・読み方・使い方

Desirably, the light emitting element is 1.05 times to 1.38 times the lowest excitated triplet energy level of the light-emitting material, and the light-emitting element is 68 kcal/mol (284.9 kj/mol) to 90 kcal/mol (377.1 kj/mol) in the lowest excitated triplet energy level of the host material.例文帳に追加

好ましくは、前記ホスト材料の最低励起三重項エネルギー準位が、前記発光材料の最低励起三重項エネルギー準位の１．０５倍以上１．３８倍以下である発光素子および前記ホスト材料の最低励起三重項エネルギー準位が、６８ｋｃａｌ／ｍｏｌ（２８４．９ｋJ／ｍｏｌ）以上９０ｋｃａｌ／ｍｏｌ（３７７．１ｋJ／ｍｏｌ）以下である発光素子である。 - 特許庁

The basic hydrogen peroxide solution is sprayed in the form of shower, from the jet nozzle of a nozzle plate in which a number of jet nozzles are punched at an excitation oxygen generator 3, and is made to react with nitrogen gas to generate excitated oxygen.例文帳に追加

励起酸素発生部３で、多数のジェットノズルを穿孔したノズルプレートのジェットノズルから、塩基性過酸化水素溶液を、シャワー状に噴出させながら塩素ガスと反応させて、励起酸素を発生する。 - 特許庁

To provide a fluorescent substance that emits light when excitated by a predetermined wavelength of light and a light emitting diode having a good light emitting efficiency and luminosity, comprising the fluorescent substance and a surrounding part that surrounds the LED chip.例文帳に追加

所定の波長光で励起されて発光する蛍光体、該蛍光体を含み、ＬＥＤチップを包囲する包囲部を備えており、良好な発光効率及び発光光度を有する発光ダイオードを提供する。 - 特許庁

To obtain a laser excitated X-ray source which can inhibit the adhesion of fine particles scattering from plasma, where it is easy to replace targets and which can obtain stable X-ray output.例文帳に追加

プラズマからの飛散微粒子の付着を阻止することができ、ターゲットを容易に交換できて、安定したＸ線出力を得ることができるレーザ励起型Ｘ線源を提供する。 - 特許庁

To realize supply of adequate active power/reactive power to a load, while conrolling the fluctuations of the output without generation of deviation in the output of a self-excitated type inverters which are connected in parallel to the power system without including an AC power supply.例文帳に追加

交流電源のない電力系統に複数台並列に接続された自励式インバータが、各自励式インバータの出力に偏りを生じることなく、かつ出力の動揺を抑制しながら負荷に適切な有効／無効電力を供給すること。 - 特許庁

This invention provides a transparent conductive film consisting of indium tin oxide containing nitrogen formed on a substrate in the range of 5 nm to 100 μm of film thickness, and a method of manufacturing the transparent conductive film that comprises a step of depositing vaporized indium tin oxide on the substrate which is in an excitated state in vacuum.例文帳に追加

基体上に形成され、窒素を含有するインジウムスズ酸化物からなる膜厚5nm〜100μmの透明導電性膜；および真空中で励起状態とされている基体表面に気化したインジウムスズ酸化物を蒸着させることを特徴とする透明導電性膜の製造方法。 - 特許庁

The plasma processing device guides the microwaves M transmited inside a wave guide 3 from first and second slot antennas provided to a magnetic field surface H, forms a surface wave S, produces surface wave excitated plasma P by exciting process gas inside a chamber 4 by the surface wave S and processes a processing object by the plasma P.例文帳に追加

プラズマ処理装置は、導波管２内を伝播するマイクロ波Ｍを磁界面Ｈに設けられた第１および第２のスロットアンテナからマイクロ波導入窓３に導き、表面波Ｓを形成し、表面波Ｓによってチャンバー４内のプロセスガスを励起して表面波励起プラズマＰを生成し、このプラズマＰにより被処理物を処理する。 - 特許庁