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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 専門用語対訳辞書 > exposure energyの意味・解説 

exposure energyとは 意味・読み方・使い方

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Weblio専門用語対訳辞書での「exposure energy」の意味

Exposure Energy

露光ヱネルギー;露光量

カテゴリ 液晶技術用語

Weblio専門用語対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「exposure energy」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 344



例文

ENERGY BEAM EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

エネルギービーム露光方法および露光装置 - 特許庁

IMAGE EXPOSURE DEVICE AND EXECUTE EXPOSURE ENERGY REGULATION METHOD例文帳に追加

画像露光装置及びその露光量調整方法 - 特許庁

DEVICE FOR CONTROL OF BEAM ENERGY AMOUNT AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

ビームエネルギー量調整装置及び露光装置 - 特許庁

A target dose in an exposure region is determined such that predetermined exposure energy larger than reference exposure energy in a non-exposure region is acquired in the specific position of the exposure region.例文帳に追加

非露光領域における基準露光エネルギーより大きい所定の露光エネルギーを露光領域の特定位置において取得するように、露光領域における目標線量は決定される。 - 特許庁

The exposure system includes a light energy servo connected to a management module of exposure parameters.例文帳に追加

露光システムは、露光パラメータの管理モジュールに接続された光エネルギ源のサーボを含む。 - 特許庁

To provide a management method of an exposure mask which uses exposure energy information of a wafer.例文帳に追加

本発明はウェーハの露光エネルギー情報を利用した露光用マスクの管理方法を提供する。 - 特許庁

例文

A beam source (7) irradiates the wafer with an energy beam for exposure through the exposure mask.例文帳に追加

ビーム源(7)が、露光マスクを介してウエハに露光用のエネルギビームを照射する。 - 特許庁

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「exposure energy」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 344



例文

LUMINOUS ENERGY CORRECTION METHOD FOR EXPOSURE MEANS AND IMAGE FORMING DEVICE例文帳に追加

露光手段の光量補正方法および画像形成装置 - 特許庁

To provide a polarization exposure device relatively simple in structure, large in exposure energy and capable of performing a large area exposure.例文帳に追加

比較的簡単な構造で、露光エネルギー量が大きく、大面積の露光が可能な偏光露光装置を提供する。 - 特許庁

In an exposure control unit 105, the exposure energy to reach the maximum gamut cover rate is decided and transmitted to an exposure device 30.例文帳に追加

露光制御部105では、ガマットカバー率が最大となる露光エネルギーを決定し、露光器30に送信する。 - 特許庁

Further, the target dose is locally increased at the margin region of the exposure region adjacent to an exposure borderline such that exposure energy whose value is larger than the predetermined exposure energy's is acquired in the margin region.例文帳に追加

また、目標線量は、所定の露光エネルギーよりも値の大きい露光エネルギーをマージン領域において取得するように、露光境界に隣接する露光領域のマージン領域で局所的に増加する。 - 特許庁

A first resist S1, which reacts to exposure of light with a first exposure energy E1 and a second resist S2 which reacts to exposure of light with a second exposure energy E2 (E2=0.5 to 0.7E1) are applied, in this sequence on a substrate G.例文帳に追加

第1、第2の露光エネルギーE1、E2(E2=0.5E1〜0.7E1)で露光反応する第1、第2のレジストS1、S2がこの順に塗布された基板Gを得ることができる。 - 特許庁

The control device 20 measures the exposure energy of each LED and adds the sum of the error between the exposure energy after the correction of the adjacent LED and ideal exposure energy and the previously calculated error to the value of this exposure energy and determines correction data so that the value after addition becomes the range of correction resolving power centering around the ideal exposure energy.例文帳に追加

制御装置20は、各LEDの露光エネルギーを測定し、この露光エネルギーの値に、隣接するLEDの補正後の露光エネルギーと理想露光エネルギーとの誤差と、前回算出した誤差との和を加算し、加算後の値が理想露光エネルギーを中心として補正分解能の範囲内になるように補正データを決定する。 - 特許庁

That is, the exposure energy is adjusted according to the number of the exposed pixels, exposure time and an exposure rate (rate of the number of exposed pixels or rate of the exposure time) and a distance (number of pixels) from the exposed pixel to the target pixel or an elapsed time of exposure.例文帳に追加

すなわち、露光済画素数や露光時間や露光率(露光画素数の比率または露光時間の比率)と、露光済画素から注目画素までの距離(画素数)または露光経過時間とに応じて、露光エネルギーを調整する。 - 特許庁

例文

This area gradation image forming method for subjecting the silver halide photosensitive material having silver halide emulsion layers on a base to development processing after scanning exposure at either of the exposure energy level of at least dot parts and the exposure energy level of cleaning parts is characterize in that the exposure energy level of clearing parts is set at the exposure energy of1/2 of the threshold at which development occurs.例文帳に追加

支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀感光材料を少なくとも1つの網点部の露光量レベルとヌケ部の露光量レベルのいずれかで走査露光後現像処理する面積階調画像形成方法において、ヌケ部の露光量レベルを現像の起こる閾値の1/2以上の露光量とする事を特徴とする面積階調画像形成方法。 - 特許庁

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