exposure standardとは 意味・読み方・使い方

PROJECTION EXPOSURE DEVICE, CALIBRATION METHOD OF MEASUREMENT STANDARD IN DISPLACEMENT MEASURING MEANS, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加

投影露光装置、変位計測手段の計測基準の校正方法およびデバイス製造方法 - 特許庁

An arithmetic means 100 calculates a standard exposure value based on the luminance by a photometry means 105.例文帳に追加

演算手段１００は、測光手段１０５による輝度から、標準的な露出値を演算する。 - 特許庁

The gain of the non-standard exposure video signal 1070 after OB level adjustment is adjusted depending on the exposure time ratio.例文帳に追加

ＯＢレベル調整後の非標準露光映像信号1070に対して、露光時間比に応じてゲイン調整をする。 - 特許庁

Then a standard exposure video signal 1091 and a nonstandard exposure video signal 1092 which undergone the correction of flaws are composited together by a video signal compositing means 1100.例文帳に追加

キズ補正後の標準露光映像信号1091と、キズ補正後の非標準露光映像信号1092を、映像信号合成手段1100で合成する。 - 特許庁

In this case, at the time of executing reduction printing, the smaller the reduction ratio is, the longer the exposure time is than standard exposure time.例文帳に追加

この場合、縮小印刷を行う場合に、縮小率が小さくなるほど露光時間が標準の露光時間より長くされる。 - 特許庁

The charge profile function is determined by performing preliminary exposure for irradiating the exposure surface locally with a charged particle beam, determining a standard potential distribution on the entire exposure surface after preliminary exposure and then expressing the standard potential distribution as a function.例文帳に追加

帯電プロファイル関数を作成するには、荷電粒子線を前記露光表面に対して局所的に照射する予備露光を行い、この予備露光後における露光表面全域の標準電位分布を求め、この標準電位分布を関数化することによって求める。 - 特許庁

The signal processing apparatus synthesizes a standard luminance video signal obtained by standard luminance exposure time with a high luminance video signal obtained by high luminance exposure time shorter than the standard luminance exposure time according to synthetic proportion, and includes an exposure time setter which sets the high luminance exposure time so that the maximum value of the high luminance video signal may match the set dynamic range of the high luminance video signal.例文帳に追加

標準輝度露光時間によって得られた標準輝度映像信号と、標準輝度露光時間より短い高輝度露光時間によって得られた高輝度映像信号とを、合成割合に従って合成する信号処理装置であって、高輝度映像信号の最大値が、高輝度映像信号の設定されたダイナミックレンジと一致するように高輝度露光時間を設定する露光時間設定部を備えた信号処理装置。 - 特許庁

In a simple manner, a standard exposure time of the rear face for a semiconductor wafer having targeted standard rear face roughness is measured, the actual exposure time is measured for the rear face of the semiconductor wafer to be actually evaluated, and the actual exposure time is compared with the standard exposure time to evaluate the rear face roughness of the semiconductor wafer.例文帳に追加

簡便には、目標とする標準の裏面粗さを有する半導体ウェハについてその裏面の標準露出時間を測定しておき、実際に評価をすべき半導体ウェハの裏面についての実際の露出時間を測定し、この実際の露出時間を上記標準露出時間と比較して、当該半導体ウェハの裏面粗さを評価する。 - 特許庁