「exposure standard」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

STANDARD MARK FOR CHARGED PARTICLE BEAM, AND MANUFACTURE OF CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING THE STANDARD MARK例文帳に追加

荷電粒子線用標準マーク、それを有する荷電粒子線露光装置及び半導体デバイス製造方法 - 特許庁

A standard dose storage 34 stores data of standard exposure radiation dose while associating with each of plural kinds of operations.例文帳に追加

標準線量記憶部３４は、複数の術式の種類の各々に標準被曝線量を関連付けて記憶する。 - 特許庁

PROJECTION EXPOSURE DEVICE, CALIBRATION METHOD OF MEASUREMENT STANDARD IN DISPLACEMENT MEASURING MEANS, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加

投影露光装置、変位計測手段の計測基準の校正方法およびデバイス製造方法 - 特許庁

An arithmetic means 100 calculates a standard exposure value based on the luminance by a photometry means 105.例文帳に追加

演算手段１００は、測光手段１０５による輝度から、標準的な露出値を演算する。 - 特許庁

The gain of the non-standard exposure video signal 1070 after OB level adjustment is adjusted depending on the exposure time ratio.例文帳に追加

ＯＢレベル調整後の非標準露光映像信号1070に対して、露光時間比に応じてゲイン調整をする。 - 特許庁

Then a standard exposure video signal 1091 and a nonstandard exposure video signal 1092 which undergone the correction of flaws are composited together by a video signal compositing means 1100.例文帳に追加

キズ補正後の標準露光映像信号1091と、キズ補正後の非標準露光映像信号1092を、映像信号合成手段1100で合成する。 - 特許庁

In this case, at the time of executing reduction printing, the smaller the reduction ratio is, the longer the exposure time is than standard exposure time.例文帳に追加

この場合、縮小印刷を行う場合に、縮小率が小さくなるほど露光時間が標準の露光時間より長くされる。 - 特許庁

The charge profile function is determined by performing preliminary exposure for irradiating the exposure surface locally with a charged particle beam, determining a standard potential distribution on the entire exposure surface after preliminary exposure and then expressing the standard potential distribution as a function.例文帳に追加

帯電プロファイル関数を作成するには、荷電粒子線を前記露光表面に対して局所的に照射する予備露光を行い、この予備露光後における露光表面全域の標準電位分布を求め、この標準電位分布を関数化することによって求める。 - 特許庁

The signal processing apparatus synthesizes a standard luminance video signal obtained by standard luminance exposure time with a high luminance video signal obtained by high luminance exposure time shorter than the standard luminance exposure time according to synthetic proportion, and includes an exposure time setter which sets the high luminance exposure time so that the maximum value of the high luminance video signal may match the set dynamic range of the high luminance video signal.例文帳に追加

標準輝度露光時間によって得られた標準輝度映像信号と、標準輝度露光時間より短い高輝度露光時間によって得られた高輝度映像信号とを、合成割合に従って合成する信号処理装置であって、高輝度映像信号の最大値が、高輝度映像信号の設定されたダイナミックレンジと一致するように高輝度露光時間を設定する露光時間設定部を備えた信号処理装置。 - 特許庁

In a simple manner, a standard exposure time of the rear face for a semiconductor wafer having targeted standard rear face roughness is measured, the actual exposure time is measured for the rear face of the semiconductor wafer to be actually evaluated, and the actual exposure time is compared with the standard exposure time to evaluate the rear face roughness of the semiconductor wafer.例文帳に追加

簡便には、目標とする標準の裏面粗さを有する半導体ウェハについてその裏面の標準露出時間を測定しておき、実際に評価をすべき半導体ウェハの裏面についての実際の露出時間を測定し、この実際の露出時間を上記標準露出時間と比較して、当該半導体ウェハの裏面粗さを評価する。 - 特許庁

The system utilizes the image pickup device, that has a standard image pickup section, having a predetermined response to exposure and has a non-standard image pickup section having a slower response than that of the standard image pickup section to the same exposure to generate an extended effective dynamic range from a signal supplied from the image pickup element.例文帳に追加

露光に対して予め決められた応答の標準撮像部位、及び同じ露光に対して標準撮像部位より遅い応答の非標準撮像部位を有する撮像装置を利用して、撮像素子によって供給される信号から、拡張された有効ダイナミックレンジを発生させる。 - 特許庁

To provide a method for inspecting an exposure mask capable of performing the standard guarantee of the inner dimensions of the exposure mask by the dimension of a place to be truly guaranteed and monitoring the pattern dimensions in an exposure area even when the exposure mask is the exposure mask of a semiconductor integrated circuit device having a random circuit pattern.例文帳に追加

ランダムな回路パターンを持つ半導体集積回路装置の露光マスクであっても、露光マスクの面内寸法の規格保証を、真に保証すべき箇所の寸法によって行え、かつ露光エリアでのパターン寸法のモニタも可能とする露光マスクの検査方法を提供すること。 - 特許庁

A smear detection means 21 uses a standard exposure video signal 4 after gain adjustment, a nonstandard exposure video signal 6, and an exposure ratio signal 12 to detect a mean value of smear of one image pattern in a vertical direction.例文帳に追加

スミア検出手段21は、ゲイン調整後の標準露光映像信号４と、非標準露光映像信号６と、露光比信号12とを用いて１画面の垂直方向のスミアの平均値を検出する。 - 特許庁

In a standard photographing state, a lens is subjected to zooming control and the electronic dial performs exposure correction.例文帳に追加

撮影標準状態では、レンズのズーミング制御が行われ、電子ダイヤルでは露出補正を行うことができる。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR OPTIMIZING EXPOSURE DOSE IN CT ANGIOGRAPHY OF CORONARY ARTERY USING STANDARD DEVIATION OF CT VALUE例文帳に追加

ＣＴ値の標準偏差を使って冠状動脈のＣＴ血管撮影における照射線量を最適化する方法及び装置 - 特許庁

A characteristic setting circuit sets standard characteristics 90 to the gamma correction circuit when exposure time E and a gain G are small.例文帳に追加

特性設定回路は露光時間Ｅ、ゲインＧが共に小さい場合に標準特性９０をガンマ補正回路に設定する。 - 特許庁

Reference voltage data for Normal necessary to obtain standard exposure in a Normal mode is decided by measurement.例文帳に追加

Ｎｏｒｍａｌモードにおける標準露光量を得るのに必要なＮｏｒｍａｌ用基準電圧データを実測により決定する。 - 特許庁

In the course of publishing the Draft Standard, many comments were offered which requested the development of a set of practical guidance (Practice Standard) which will assist with the implementation of the Standard. The Committee made decision to further develop the Practice Standard. The Committee established a task force and requested the promotion of practical discussion and, on that basis, issued an exposure draft for the Practice Standard in November 2006. 例文帳に追加

さらに、基準案のとりまとめに際して、これを実務に適用していく上での実務上の指針 (実施基準)の策定を求める意見が多く出されたことから、内部統制部会では、引き続き、実施基準案の検討を行うこととした。同部会では、同部会の下に設置した作業部会における実務的な検討を踏まえて、平成１８年１１月、実施基準案を公開草案として公表した。 - 金融庁

At the time of controlling exposure using the standard gain value for storoboscopic photographing stored in the fixed exposure setting memory 10, diaphragm value, and electronic shutter amounts, the gain value obtained by multiplying the stored standard gain value by the correction coefficient by is obtained as the gain of the AGC amplifier 4.例文帳に追加

この後、固定露出設定メモリ１０に記憶されているストロボ撮影用の標準的なゲイン値、絞り値、電子シャッター量を用いた露出制御時には、記憶されている標準的なゲイン値に補正係数を乗じたゲイン値をＡＧＣアンプ４のゲインとする。 - 特許庁

The pattern of the mask is projected on the photosensitive substrate with an exposure light quantity substantially different from a standard exposure light quantity required for forming a pattern of desired line width on the photosensitive substrate using a standard mask having a pattern of line width same as the converted value.例文帳に追加

換算値に等しい線幅のパターンを有する標準マスクを用いて感光性基板上に所望線幅のパターンを形成するのに必要な標準露光光量とは実質的に異なる露光光量で、マスクのパターンを感光性基板上に投影する。 - 特許庁

Then the AGC amplifier 4 adopts the gain resulting from multiplying the correction coefficient with the stored standard gain in the case of exposure control employing the standard gain, aperture and electronic shutter amount for strobe photographing stored in the fixed exposure setting memory 10.例文帳に追加

この後、固定露出設定メモリ１０に記憶されているストロボ撮影用の標準的なゲイン値、絞り値、電子シャッター量を用いた露出制御時には、記憶されている標準的なゲイン値に補正係数を乗じたゲイン値をＡＧＣアンプ４のゲインとする。 - 特許庁

In this timing, the standard mark provided on the standard plate 50 is detected using the alignment system of the exposure apparatus in view of adjusting the amount of slide by controlling the drive of the measuring stage ST2 on the basis of the detected results.例文帳に追加

このとき露光装置のアライメント系を使って、基準板５０に設けられた基準マークを検出し、その検出結果にもとずいて計測ステージＳＴ２の駆動を制御して滑り量を調整する。 - 特許庁

A color synthesizing section 208 uses a plurality of image data obtained by photographing a standard body STD with a standard color (white) plural times at different exposure quantities so as to calculate synthesized color information (r^(2)_i, g^(2)_i, b^(2)_i).例文帳に追加

色合成部２０８は、標準色（白色）を有する標準体ＳＴＤを異なる露光量で複数回撮影して得られる複数の画像データを用いて、合成色情報（ｒ^（２）_ｉ，ｇ^（２）_ｉ，ｂ^（２）_ｉ）を算出する。 - 特許庁

A cell which is frequently used or a cell with a higher effect of reducing the number of shots by performing CP exposure than by performing variable shaped beam exposure is selected as the standard.例文帳に追加

このスタンダードセルには、使用頻度のより高い、あるいは、ＣＰ露光を行なうことにより可変成形ビーム露光を行なった場合よりショット数の削減効果のより高いセルを選択する。 - 特許庁

The reference voltage data for a Light mode and a Dark mode are decided by performing calculation using a difference between the standard exposure and exposure in each mode and the reference voltage data for Normal.例文帳に追加

Ｌｉｇｈｔモード用及びＤａｒｋモード用の各基準電圧データは、標準露光量と各モードの露光量との差と、Ｎｏｒｍａｌ用基準電圧データとを用いて演算を行うことにより決定する。 - 特許庁

Reticles which may be used in the exposure process are judged depending on accuracy of the relevant reticle, accuracy of the reticle used for exposure of the under-layer, and critical accuracy required for the design standard.例文帳に追加

露光時に使用可能なレチクルを、当該レチクルの精度と、下地層の露光に使われたレチクルの精度と、設計基準から要求されるクリティカルな精度とから判定する。 - 特許庁

The peripheral edge of the EB exposure reticle of the same shape with a SEMI standard wafer is supported at the three points from both above and below, so that the EB exposure reticle can be stably held.例文帳に追加

ＳＥＭＩ規格ウェハと同形状のＥＢ露光用レチクルの外周縁を３ヶ所で上下方向から支持することにより、同レチクルを安定に保持できる。 - 特許庁

The safety mode is a mode corresponding to class 1 of "safety standard for laser products" (JIS C 6802), where an exposure radiation level becomes smaller than the maximum permissible exposure level MPE.例文帳に追加

前記安全モードは、被曝放出レベルが最大許容露光レベルＭＰＥよりも小さくなる「レーザ製品の安全基準」（JIS C 6802)のクラス１に相当するモードである。 - 特許庁

When an exposure correction amount other than zero is set, a CPU 31 corrects a standard brightness value Bstd to a brightness parameter by reflecting the set exposure correction amount in the parameter.例文帳に追加

ＣＰＵ３１は、０以外の露出補正量が設定されている場合には、設定されている露出補正量を反映して明度パラメータに対する明度基準値Ｂstdを修正する。 - 特許庁

In the charged-beam exposure method by the CP method, the charged beam is shaped in a shape of a standard cell used for designing of a device by an aperture, and reduced irradiation and exposure is executed on a specimen.例文帳に追加

ＣＰ方式の荷電ビーム露光方法において、荷電ビームをアパーチャによりデバイス設計の際に用いられるスタンダードセルの形状に成形し、試料に縮小照射・露光を行なう。 - 特許庁

Moreover, a correction coefficient for turning a standard gain value for strobo photographing stored in a fixed exposure setting memory 10 into a gain value to which the converted amounts are added is stored in the fixed exposure setting memory 10.例文帳に追加

さらに固定露出設定メモリ１０に記憶されているストロボ撮影用の標準的なゲイン値を、上記換算量を加えたゲイン値とするための補正係数を固定露出設定メモリ１０に記憶する。 - 特許庁

An exposure condition determined by them is compared with the standard quantity of exposure.例文帳に追加

肉眼視における飽和と、装置側の飽和とが同時に起こると想定される露光条件を、標準露光量として設定し、これを基に光景再現の仕様を作成する。 - 特許庁

An image pickup element 1010 of this video signal processor compares the level of a nonstandard exposure video signal 1070 that is photographed in an exposure time shorter than the standard one with the level of a flaw threshold signal 1083 via a signal level flaw detection means 1080.例文帳に追加

撮像素子1010で、標準より短い露光時間で撮影された非標準露光映像信号1070のレベルと、キズしきい値信号レベル1083を、信号レベルキズ検出手段1080で比較する。 - 特許庁

When an exposure correction amount except zero is set, a CPU 31 reflects the set exposure correction amount and corrects a brightness standard value Bstd to a brightness parameter.例文帳に追加

ＣＰＵ３１は、０以外の露出補正量が設定されている場合には、設定されている露出補正量を反映して明度パラメータに対する明度基準値Ｂstdを修正する。 - 特許庁

A flicker-free wide dynamic range video image is outputted by separately removing flickers generated in a standard-exposure video image signal and flickers generated in a short-time exposure video image signal, and compositing the flicker-free video image signals.例文帳に追加

標準露光映像信号に発生するフリッカと、短時間露光映像信号に発生するフリッカを別々に除去した後、合成することでフリッカの無い広ダイナミックレンジ映像を出力する。 - 特許庁

To provide a liquid immersion exposure apparatus enabling a liquid immersion exposure with little dopant contamination by supplying standard waters such as city waters or the like from a plant and equipment, and by newly establishing pure water generating means and ultrapure water generating means.例文帳に追加

工場設備より市水等の標準水を供給し、純水並びに超純水生成手段を新たに設けることにより、不純物の混入の少ない液浸露光を可能とする液浸型露光装置を提供すること。 - 特許庁

A fixed exposure setting memory 10 stores a correction coefficient to convert the standard gain for strobe photographing stored in the fixed exposure setting memory 10 into the gain with the converted amount added thereto.例文帳に追加

さらに固定露出設定メモリ１０に記憶されているストロボ撮影用の標準的なゲイン値を、上記換算量を加えたゲイン値とするための補正係数を固定露出設定メモリ１０に記憶する。 - 特許庁

An exposure mask to be inspected is used for carrying out pattern exposure to a reference chip under standard exposure conditions, the pattern exposure is carried out to a plurality of inspection chips by changing exposure conditions, and development treatment is made, thus manufacturing a first inspection wafer where the pattern with the same layout is formed in each chip (S1 to S2).例文帳に追加

検査を行う露光マスクを用いてリファレンスチップに対して標準の露光条件でパターン露光を行い、複数の検査チップに対して露光条件を変化させたパターン露光を行った後、現像処理を行うことで各チップに同一レイアウトのパターンを形成してなる第１検査ウエハを作製する（Ｓ１〜Ｓ２）。 - 特許庁

When the ratio of the non-correlation part area is high, it is discriminated that the object has a large motion, and an exposure arithmetic block 22 selects a velocity priority program line P3, an exposure time is set shorter than a standard exposure time so as to prevent an image-shake of the object from being caused.例文帳に追加

非相関部面積比が高い場合は被写体が動きが大きい状態であるとして、露出演算ブロック２２で速度優先プログラムラインＰ３を選択し、標準の露光時間よりも短く設定し、被写体の像ぶれの発生を防止する。 - 特許庁

Contrarily, the high-precision mode is a mode corresponding to class 3R of the safety standard, where for example a laser projection frequency is increased as compared with that of the safety mode and scanning amplitude is reduced to set the exposure radiation level higher than the maximum permissible exposure level.例文帳に追加

一方、高精度モードは、安全モードに比べてレーザ投光頻度を上げたり、走査振幅を絞ったりするなどの設定により、被曝放出レベルが最大許容露光レベルより高い、安全基準のクラス３Ｒに相当するモードである。 - 特許庁

A standard waveform, having a highest matching rate with the detected waveform of an alignment mark which is detected by alignment in the case of pattern exposure, is selected from among the plural standard waveforms stored in the signal database and position data corresponding to that standard waveform are applied as a center position O of this alignment mark.例文帳に追加

そして、シグナルデータベースに格納された複数の標準波形のうち、パターン露光の際のアライメントで検出されたアライメントマークの検出波形とのマッチング率の一番高い標準波形を選択し、その標準波形に対応する位置データをこのアライメントマークの中心位置Ｏとして付与する。 - 特許庁

A reference dose memory section 203 stores reference dose information in which subject's attribute information are correlated with a reference dose used as a standard of an exposure dose.例文帳に追加

リファレンス線量記憶部２０３が、被検体に係る属性情報と、被ばく線量の基準となるリファレンス線量とを対応付けたリファレンス線量情報を記憶する。 - 特許庁

Scheduled time for stopping an electronic flash and exposure start time at standard luminance are previously set so that an electronic flash light emission stop signal is outputted when the luminance of the electronic flash light is sufficiently low.例文帳に追加

ストロボ光の輝度が十分小さいときにストロボ発光停止信号が出力されるように、ストロボ停止予定時間及び標準輝度での露光開始時間が予め定められている。 - 特許庁

A compensation control part 41 generates a compensation change value changed based on compensation data to a preliminarily set standard compensation value concerning the exposure lamp 23.例文帳に追加

補正制御部４１は、露光ランプ２３に係る予め設定された標準補正値に対し、補正用データに基づき変更した補正変更値を作成する。 - 特許庁

A mobile telephone set 1 with a camera determines combination of shutter speed, photographing sensitivity, and an aperture value using a standard program diagram, and performs exposure control, if a release button 7 is pressed in a state that the mobile telephone set 1 is closed.例文帳に追加

カメラ付き携帯電話機１は、携帯電話機１を閉じた状態でレリーズボタン７が押下されたら、標準プログラム線図を用いてシャッタ速度と撮影感度と絞り値との組み合わせを決定し、露出制御を行う。 - 特許庁