flash thicknessとは 意味・読み方・使い方

To provide a method of manufacturing a flash memory element which prevents influence on the uniformity of the quality and of the thickness of a tunnel oxide film.例文帳に追加

トンネル酸化膜の質及び厚さの統一性に影響を及ぼすことを防止するフラッシュメモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

When a rail of a width in which the thickness (depth) of the sliding door of a flash of a plain plane enters is made a lintel rail, the sliding door can be opened and closed regardless of inside and outside.例文帳に追加

無地（平面のフラッシュの引戸の厚さ（見込）がスッポリ這入る幅のレールを鴨居レールにすると、裏・表・無く開閉出来る。 - 特許庁

An amount of upset at the time of flash butt welding operation is set to be more than twice as thick as a plate thickness of a welded material and further the welding part is heated by 850°C or more.例文帳に追加

フラッシュバット溶接時のアップセット量を被溶接材の板厚の２倍以上とし、さらに、該溶接部を850℃以上に加熱する。 - 特許庁

After the butt welding by flash butt welding, a pressure is applied in the abutting direction of the steel strips so that a forge length is 1.5-2.0 times as large as the strip thickness.例文帳に追加

フラッシュバット溶接による突き合せ溶接後、鋼帯同士を突き合せる方向にアップセット代が板厚の１．５〜２．０倍となるように加圧する。 - 特許庁

To easily and highly accurately adjust the thickness surface flash of a void part, to easily cut out an unnecessary part of a spacer material, and to save execution work.例文帳に追加

空隙部の厚み（チリ）の調節を容易且つ高精度で行うことができると共に、スペーサ材の不要部分の切り取りを容易にして、省施工化を図る。 - 特許庁

To provide a method of fabricating a flash memory element which allows reserving an effective thickness of a dielectric film to be formed over the floating gate electrode.例文帳に追加

フローティングゲート電極の上部に形成される誘電体膜の有効厚さを確保可能にするフラッシュメモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a flash memory device the characteristics of which can be improved by forming the film thickness of the edge portion of a tunnel oxide film formed in an active region thicker than the film thickness of the center portion and provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

アクティブ領域に形成されるトンネル酸化膜のエッジ部位の膜厚を中央部位の膜厚よりも厚く形成することによって、素子の特性が高められるフラッシュメモリ素子とその製造方法を提供する。 - 特許庁

The opacity to flash light is determined to fall within an appropriate range based on the material or thickness of the opaque quartz part 11b, taking into consideration the composition or thickness of a thin film formed on a substrate 10 and various conditions concerning the energy of the irradiation light during flash light irradiation or the like.例文帳に追加

また、閃光に対する不透明度は、基板１０上に設けられた薄膜の組成や膜厚ならびに閃光処理する際の照射光エネルギなどの諸条件との関係を考慮して、適当な範囲の値となるように不透明石英部１１ｂの材料選択や厚み設定により決定される。 - 特許庁