instrumental valueとは 意味・読み方・使い方

The standard scale 51 includes a scale 101 showing the length from the starting point and a code 102 containing an instrumental error for providing a true value of the scale 101.例文帳に追加

標準尺５１には、原点からの長さを示す目盛１０１と、目盛１０１の真値を得るための器差が内包されているコード１０２が設けられている。 - 特許庁

When rejection in the instrumental error test is determined to have failed, a control signal is outputted to the sphygmomanometer 1 in a calibration part 805, and the output value of the pressure sensor 23 is calibrated.例文帳に追加

器差検査が不合格と判定された場合、校正部８０５で血圧計１に対して制御信号を出力し、圧力センサ２３の出力値を校正させる。 - 特許庁

To provide a gas consumption estimating system wherein a gas consumption of a gas appliance is accurately estimated irrespective of a secular change, instrumental error or fluctuation in a calorific value of feed gas of the gas appliance.例文帳に追加

ガス機器の経年変化、器差、供給ガスの発熱量等の変動に拘らず、ガス機器のガス消費量を高精度に推定できるガス消費量推定システムを提供する。 - 特許庁

When an instrumental error measurement start signal is output from an automatic verification device, the electronic type water meter starts metering, and after a prescribed water feeding quantity flows, a stop signal is output from the automatic verification device, and the electronic type water meter stops metering and displays a metered value in the instrumental error measurement operation display mode.例文帳に追加

自動検定装置から器差測定開始信号が出力されると、電子式水道メータは計量を開始し、規定の通水量が流れた後に、自動検定装置から停止信号が出力されて電子式水道メータは計量を停止し、計量値を器差測定作動表示モードで表示する。 - 特許庁

To provide a technique that reduces dispersion of CD values, resulting from landing angle of electron beams to samples and a technique that reduces instrumental errors, resulting from difference in electron beam landing angle between devices, in a charged particle beam device used for measuring refined measures (CD value) of semiconductor devices and the like.例文帳に追加

半導体装置等の微少寸法（ＣＤ値）を計測するのに用いられる荷電粒子線装置において，試料への電子ビームのランディング角がばらつきことに起因するＣＤ値ばらつきを低減する方法，及び，装置間の電子ビームランディング角の差違に起因する機差を低減する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing head position adjusting method of a substrate processor capable of observing a torque value by rotation of a substrate without dispersion in polishing speed and in a polishing area even when a plurality of bevel polishing heads are furnished and stabilizing working time with less instrumental variations even in a working end detection mechanism to detect a working end and a polishing head position adjusting fixture.例文帳に追加

ベベル研磨ヘッドが複数個備えてあっても研磨速度及び研磨範囲にバラツキがなく、基板回転によるトルク値を観察し、加工終了を検出する加工エンド検出機構にも機差が少なく、加工時間が安定する基板処理装置の研磨ヘッド位置調整方法及び研磨ヘッド位置調整治具を提供すること。 - 特許庁