irradiation defectsとは 意味・読み方・使い方

To provide a method of smoothening the surface of a glass substrate having concave defects with the brief irradiation of laser beams and reducing burdens to a laser irradiation device to be used.例文帳に追加

レーザ光の短時間の照射で凹欠点を有するガラス基板表面を平滑化することができ、かつ、使用するレーザ照射装置への負担を軽減することができる新規の方法の提供。 - 特許庁

At the irradiation step, an irradiation condition for ions of light elements or electron beams is so set that the content of a silicon cluster may exceed 0.06 times the content of carbon-oxygen composite defects in the region to be irradiated with ions of light elements or electron beams.例文帳に追加

この照射工程では、前記照射対象領域においてシリコンクラスタの含有量が炭素−酸素複合欠陥の含有量の０．０６倍を超えるように、軽元素イオン又は電子線の照射条件を設定する。 - 特許庁

The black defect which remains without being removed by the action of the fluid is locally irradiated with energy beam by an energy beam irradiation means 10, and then the black defect is removed, and thus defects including foreign matters and black defects are removed to correct the mask.例文帳に追加

そして、エネルギービーム照射手段１０により、先の流体の作用によっても除去されずに残った黒欠陥に局所的にエネルギービームが照射されることにより、黒欠陥が除去され、これにより、異物および黒欠陥を含む欠陥が除去されてマスクが修正される。 - 特許庁

To surely detect defects of a large structure from a remote position with a simple device configuration, without having to construct scaffolds for detecting defects, a heating means such as infrared irradiation, and an applying means for a load to a structure, such as an excitation system.例文帳に追加

大型の構造物の欠陥を、欠陥検出作業用の足場を組むことなく、赤外線照射等の加熱手段を必要とせずに、かつ加振装置などの構造物への荷重負荷の付与手段を必要とせずに、簡単な装置構成によって、遠隔位置から容易かつ確実に検出すること。 - 特許庁

In an inspection method of surface defects of a transparent resin film, by using a reflection optical system composed of an irradiation device 1 for ultraviolet rays having a wavelength of 350 to 380 nm and a detection device 5 having the detection capability for the wavelength, defects on the surface of a resin film 2 on the ultraviolet irradiation side, which is transparent in visible light and opaque at the wavelength, are detected.例文帳に追加

波長３５０〜３８０ｎｍの紫外線の照射装置１と、当該波長に検出能力を有する検出装置５からなる反射光学系を用い、可視光において透明な樹脂フィルム２であって当該波長において不透明な樹脂フィルムの紫外線照射側表面にある欠点を検出する透明樹脂フィルムの表面欠陥の検査方法。 - 特許庁

As regards the projecting bump defects formed by a surface treatment such as plating on the surface of a cylindrical member, the method of manufacturing the cylindrical precision member includes: detecting the places of the bump defects by a defect detecting means; irradiating the roll face of the cylindrical member with a machining laser beam from a tangential direction by a machining laser beam irradiation means; and removing the bump defects.例文帳に追加

円筒状部材の表面にめっき等の表面処理により形成された突起状の瘤欠陥について、前記瘤欠陥の箇所を欠陥検出手段により検出し前記円筒状部材のロール面に対して接線方向から加工用レーザービーム照射手段により加工用レーザービームを照射し前記瘤欠陥を除去することを特徴とする円筒状精密部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To grow a silicon crystal at a temperature lower than in the prior art by complementarily compensating for both defects in ultraviolet laser irradiation and in visible laser irradiation, in a method and apparatus of growing a silicon crystal by irradiating an amorphous or polycrystalline silicon with laser light.例文帳に追加

非晶質シリコンまたは多結晶シリコンにレーザ光を照射してシリコン結晶を成長させるシリコン結晶成長方法及び装置において、紫外光レーザ照射及び可視光レーザ照射の欠点を相補的に補い合い、従来より低い温度でシリコン結晶を成長させる。 - 特許庁

The method of manufacturing an electronic device comprises steps of forming an Si3N4 film 2 as a mask having opened laser irradiation regions, and introducing lattice defects 8 for gettering metal impurities in the laser irradiation regions by irradiating it using an excimer laser 4.例文帳に追加

電子デバイスの製造工程に、レ−ザ−照射領域が開口されたマスクとしてのＳｉ_3 Ｎ_4 膜２を形成する工程、エキシマレ−ザ−４を照射することによりレ−ザ−照射領域に金属不純物ゲッタリング用の格子欠陥８を導入する工程を含ませる。 - 特許庁