m exとは 意味・読み方・使い方

An aligner EX includes: a mask stage MST that moves a mask M together with a space defining member 1 defining a space bounded by the mask face; a pressure controller controlling the pressure in the space; and an operating mechanism ML for combining the mask M with a space defining member suitable for the mask M to be used in an exposure process, wherein the space defining member selected from a plurality of space defining members 1.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、マスク面を境界とする空間を定義する空間定義部材１とともにマスクＭを移動させるマスクステージＭＳＴと、前記空間の圧力を制御する圧力制御器と、複数の空間定義部材１のうち露光処理に使用すべきマスクＭに適合した空間定義部材を当該マスクＭに組み合わせるための操作機構ＭＬとを備える。 - 特許庁

An aligner EX comprises mask stage MST for moving the mask M along with the space definition member 1 for defining the space with the mask surface as the boundary; a pressure controller for controlling pressure in the space; and an operation mechanism ML for combining the space definition member conforming to the mask M to be used for exposure treatment in a plurality of space definition members 1 with the mask M.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、マスク面を境界とする空間を定義する空間定義部材１とともにマスクＭを移動させるマスクステージＭＳＴと、前記空間の圧力を制御する圧力制御器と、複数の空間定義部材１のうち露光処理に使用すべきマスクＭに適合した空間定義部材を当該マスクＭに組み合わせるための操作機構ＭＬとを備える。 - 特許庁

The aligner EX is provided with a lighting optical system IL for illuminating a mask M forming a pattern by exposure light EL from the light source 10, and a projection optical system PL for transferring a pattern image on a photosensitive substrate P.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、光源１０からの露光光ＥＬで、パターンが形成されたマスクＭを照明する照明光学系ＩＬと、パターンの像を感光基板Ｐ上に転写する投影光学系ＰＬとを備えている。 - 特許庁

The image forming method includes an exposure step and a charging step of forming an electrostatic latent image on an exposed electrophotographic photoreceptor, wherein exposure in the above steps is carried out at a charging potential V_0 (V) and an exposure dose Ex (mJ/m^2), satisfying Formula (1).例文帳に追加

露光した電子写真感光体上に静電潜像を形成する露光工程と、帯電工程における帯電および露光工程における露光を、式（１）を満たす帯電電位Ｖ_０（Ｖ）および露光量Ｅｘ（ｍＪ／ｍ^２）ですること。 - 特許庁

This exposing apparatus EX includes: a measuring system M for performing measurement for controlling exposure via a first mark Rm positioned in an original plate stage RS and a second mark wm positioned in a substrate stage WS; and a control part CNT capable of setting a lightening condition different from a lightning condition under measurement by a measuring system M for exposing a substrate to a light.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、露光の制御のための計測を原版ステージＲＳに配置された第１マークＲｍと基板ステージＷＳに配置された第２マークｗｍとを使って行なう計測システムＭと、ある照明条件で基板の露光を行なうために計測システムＭによって計測が行なわれる際に当該照明条件とは異なる照明条件を設定可能な制御部ＣＮＴとを備える。 - 特許庁

The aligner EX comprises: a mask stage MST for supporting a mask M having a plurality of pattern regions; a substrate stage PST for supporting a photosensitive substrate P; a storage device MRY prestoring the error information of the measurements of respective shapes of the plurality of patterns and a target shape; and a controller CONT for controlling the mask stage MST and substrate stage PST.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、複数のパターン領域を有するマスクＭを支持するマスクステージＭＳＴと、感光基板Ｐを支持する基板ステージＰＳＴと、複数のパターンそれぞれのの形状計測結果と目標形状との誤差情報を予め記憶した記憶装置ＭＲＹと、マスクステージＭＳＴ及び基板ステージＰＳＴを制御する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。 - 特許庁