oxygen transfer deviceとは 意味・読み方・使い方

To provide an oxygen reduction catalyst being a metal-coordinated polypyrrole catalyst which promotes the mass transfer of a reactant in an oxygen reduction reaction and adds an oxygen reduction site to improve the oxygen reduction activity thereof and to provide a method for producing the oxygen reduction catalyst, an electrode, a method for producing the electrode, a fuel cell, an air cell and an electronic device.例文帳に追加

金属配位ポリピロール系触媒の酸素還元反応において反応物の物質移動を促進させ、かつ酸素還元サイトを付加することで酸素還元活性を向上させる酸素還元触媒、酸素還元触媒の製造方法、電極、電極の製造方法、燃料電池、空気電池及び電子デバイスを提供すること。 - 特許庁

In the method of manufacturing a charge transfer device in which a first charge transfer electrode 35 and a second charge transfer electrode 37 are arranged, a first conductive layer 32 is formed on a gate insulating film 31 of a semiconductor substrate, an oxygen diffusing functional film 33 is formed on the first conductive layer 32, and then a second conductive layer 34 is formed.例文帳に追加

第１電荷転送電極３５と第２電荷転送電極３７とが配置された電荷転送素子の製造方法において、半導体基板のゲート絶縁膜３１上に第１導電体層３２を成膜し、この第１導電体層３２上に酸素拡散性機能膜３３を形成した後に第２導電体層３４を成膜する。 - 特許庁

To provide a membrane type air diffusion device capable of controlling the initial pressure loss, and preventing oxygen transfer efficiency from dropping by dispersing and generating bubbles evenly at the time of low air flow.例文帳に追加

初期圧力損失を抑制することができ、小風量時において気泡を分散させて均一に発生させることにより、酸素移動効率の低下を防止することが可能なメンブレン式散気装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition which gives a photoresist forming a pattern of a rectangular shape and ensures low edge roughness of a line pattern in the production of a semiconductor device and ensures a small dimensional shift in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、矩形形状のパターンを形成するフォトレジストを与え、ラインパターンのエッジラフネスが少なく、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having high resolving power in the production of a semiconductor device, also having a rectangular shape and ensuring low edge roughness of a line pattern and a small shift in dimensions in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高解像力を有し、しかも矩形形状を有し、ラインパターンのエッジラフネスが少なく、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

Solid matter in raw wastewater is crushed (B) and mixed with liquid to be treated, and the decomposition of the hardly decomposable organic materials by a high concentration activated sludge method using an automatic deforming devices (E, F, H, I) having high oxygen transfer efficiency against the mixture and an activated sludge concentration device is carried out.例文帳に追加

原排水中の固形分は粉砕(B)して被処理液に混合し、該混合物に対して酸素移動効率のよい自動消泡装置（E,F,H,I）と活性汚泥濃縮装置を用いた高濃度活性汚泥法による難分解性物質の分解処理を行う。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition which gives a photoresist forming a rectangular pattern in the production of a semiconductor device and ensures low edge roughness of a line pattern and a small dimensional shift in the transfer of a pattern to a lower layer in an oxygen plasma etching step.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、矩形形状のパターンを形成するフォトレジストを与え、ラインパターンのエッジラフネスが少なく、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型レジスト組成物をを提供すること。 - 特許庁