particle beam diffractionとは 意味・読み方・使い方

To provide a manufacturing method of a blazed diffraction grating for the charged particle beam in electron beam lithography, that can manufacture a high precision blazed diffraction grating, having desired cross section by making the number of the charged particle beam scanning in each step, change based on a predetermined rule.例文帳に追加

本発明は、ＥＢ描画装置等の荷電粒子ビームを用いたブレーズド型回折格子の作製方法において、格子深さの制御を従来より厳密に行えるようにするものである。 - 特許庁

To provide a method of producing a diffraction grating by direct plotting using charged particle beam such as electron beam or ion beam and in detail, a method of precisely plotting the diffraction grating having an optional spatial frequency without depending on beam irradiation position control resolution of the plotting device.例文帳に追加

本発明は、電子ビームやイオンビーム等の荷電粒子ビームを用いた、直接描画による回折格子の形成方法に係り、さらに詳しくは、描画装置のビーム照射位置制御分解能によらず、任意の空間周波数の回折格子を精度良く描画する方法に関するものである。 - 特許庁

A particle diameter of the colloidal silica is expressed by an average primary particle diameter calculated on the basis of BET modulus and an average secondary particle diameter measured on the basis of a laser beam diffraction modulus.例文帳に追加

前記コロイダルシリカの粒子径は、ＢＥＴ法に基づいて算出された平均一次粒子径と、レーザー光回折法に基づいて測定された平均二次粒子径とで示される。 - 特許庁

A particle size of the colloidal silica is indicated by a mean primary particle size calculated on the basis of a BET method and a mean secondary particle size measured on the basis of a laser beam diffraction method.例文帳に追加

前記コロイダルシリカの粒子径は、ＢＥＴ法に基づいて算出された平均一次粒子径と、レーザー光回折法に基づいて測定された平均二次粒子径とで示される。 - 特許庁

The diffraction grating for precisely realizing the spatial frequency by properly changing the interval of grating lines (the number of address grids)in the charged particle beam scanning, and the method of forming the diffraction grating are provided.例文帳に追加

荷電粒子ビーム走査時に格子線間隔（アドレスグリッド数）を適宜変化させることで、空間周波数を精度良く実現した回折格子及びその回折格子の作製方法を提供する。 - 特許庁

Before starting length measurement, a diffraction pattern is obtained from a single crystal part of the specimen to offset the inclined angle of the specimen against a charged particle beam based on the obtained diffraction pattern.例文帳に追加

測長前に、試料の単結晶部分から回折パターンを取得し、取得された回折パターンに基づいて荷電粒子線に対する試料の傾斜角を補正する。 - 特許庁

To obtain such images that can make selection of each contrast or color a diffraction contrast part to clearly display it, by distinguishing diffraction contrast and Z contrast from dark-field signal images formed by dark-field signal particles transmitting inside a sample in dispersion, in a charged particle beam device.例文帳に追加

荷電粒子線装置において、試料内を散乱して透過した暗視野信号粒子によって形成される暗視野信号像から回折コントラストおよびＺコントラストを識別し、各コントラストの取捨選択や回折コントラスト部に色をつけ回折コントラスト部を明示できるような像を取得する。 - 特許庁