plasma rotationとは 意味・読み方・使い方

To provide a plasma film-forming apparatus which can efficiently form a film on a cylindrical substrate at a high speed, and has a rotation elec trode with a cylindrical outer surface by a plasma CVD method, or to provide an in-line plasma film-forming apparatus.例文帳に追加

円筒状外周面を有する回転電極を備えてプラズマＣＶＤ法により基材上に成膜を行う装置において、円筒状基材上に高速でかつ効率良く成膜を行うことができるプラズマ成膜装置及びインライン式プラズマ成膜装置を得ること。 - 特許庁

The ignitability and the ignition stability are sufficiently enhanced by igniting an air-fuel mixture by a plasma jet of high energy, in a plasma jet ignition area P on a relatively low-load and low-rotation side.例文帳に追加

相対的に低負荷低回転側のプラズマジェット点火領域Ｐにおいて、高エネルギーのプラズマジェットにより混合気に点火することにより、その着火性、燃焼安定性を十分に高める。 - 特許庁

Since the plasma generated between the pair of main electrodes passes through the center of the wafer, rotation of the wafer enables the plasma processing condition in the wafer surface to be uniformalized.例文帳に追加

主電極対間に生成されたプラズマはウエハ中心を貫通した状態になっているので、ウエハを回転させることにより、ウエハ面内でのプラズマ処理状況を均一化できる。 - 特許庁

A grounding electrode (122a) is provided in a predetermined position of the reel (10a) for guiding plasma so that the plasma follows rotation of the reels in order to enhance amusement of the game by providing the novel performance for assisting button-pushing operation.例文帳に追加

また、リール（１０ａ）の所定位置にプラズマを誘導する接地電極（１２２ａ）を設け、リールの回転動作にプラズマを追従させることで、目押しのアシストを奇抜に演出し遊技興趣を高める。 - 特許庁

By the rotation of the substrate holding means 13, a substrate revolves among positions facing to the sputtering means 21a, 21b, a position facing to the first plasma generating means 80, and a position facing to the second plasma generating means 180A.例文帳に追加

基板保持手段１３が回転することにより基板がスパッタ手段２１ａ，２１ｂに面した位置と、第１のプラズマ発生手段８０に面した位置と、第２のプラズマ発生手段１８０Ａに面した位置との間で公転される。 - 特許庁

The wavelength has a length of a wavelength of a Faraday rotation angle due to the plasma exhibiting the Faraday rotation angle larger than a measured polarization angle resolution.例文帳に追加

該波長は、プラズマによるファラデー回転角であってその測定偏光角分解能より大きいファラデー回転角を呈する波長の長さを有する。 - 特許庁

Since the generation position of the plasma 3 is positioned at the focus of a multi-layer film rotation parabolic mirror 4, the soft X-ray is reflected by the multi-layer film rotation parabolic mirror 4 to become an X-ray parallel light flux 5, which is emitted to the outside.例文帳に追加

プラズマ３の発生位置は、多層膜回転放物面鏡４の焦点に位置しているので、この軟Ｘ線は、多層膜回転放物面鏡４によって反射されてＸ線平行光束５となり外部に放射される。 - 特許庁

The plasma processing apparatus includes an electrode for applying an excitation voltage to a discharge gas to generate plasma; a jetting mechanism provided relatively movably with the surface to be processed and jetting the plasma to the surface to be processed; and a rotary mechanism configured to rotate and move the electrode such that the axis of rotation is in the jetting direction of the plasma.例文帳に追加

放電用ガスに励起電圧を印加してプラズマを発生させる電極と、被処理面との間で相対的に移動可能に設けられ、前記プラズマを前記被処理面に噴射する噴射機構と、前記プラズマの噴射方向を回転軸方向として前記電極を回転移動させる回転機構とを備える。 - 特許庁