rapid oxidationとは 意味・読み方・使い方

In a step (e), a thermally oxidized porous polysilicon layer 6 is formed by oxidizing the porous polysilicon layer 5 by a rapid thermal oxidation method.例文帳に追加

急速熱酸化法によって、多孔質ポリシリコン層５を酸化して熱酸化された多孔質ポリシリコン層６を形成する（図１（ｅ））。 - 特許庁

After a Ta_2O_5 film has been deposited on (002) the surface of Ru and low-temperature oxidation is performed, rapid nitriding process is performed at about 800°C.例文帳に追加

Ｔａ_2Ｏ_5膜をＲｕの（００２）面上に堆積し、低温酸化を行なった後、約８００°Ｃで急速窒化工程を行なう。 - 特許庁

An RTO (rapid thermal oxidation) film 11 is formed along a control gate electrode CG, insulating film 7 between gates and the sidewall of a floating gate electrode FG.例文帳に追加

ＲＴＯ膜１１が、制御ゲート電極ＣＧ、ゲート間絶縁膜７、浮遊ゲート電極ＦＧの側壁に沿って形成されている。 - 特許庁

To provide a rapid oxidation method and its device which is small- sized and safe, having high oxidizing power and a large capacity and capable of being operated at a low cost.例文帳に追加

小型で安全な装置で、酸化力が強く処理能力も高く、安価に運転できる急速酸化方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

To obtain high reliability by surely preventing the oxidation of a cap film without causing a rise in a specific inductive capacity and to facilitate rapid process treatment without increasing the number of processes in multilayering wirings.例文帳に追加

比誘電率の上昇を招くことなく、キャップ膜の酸化を確実に防止して高い信頼性を実現可能とする。 - 特許庁

To provide a rapid expansion metal mixture subjected to a cold oxidation prevention treatment which can prevent the metal powder being the constitution component of the rapid expansion metal mixture from oxidizing by moisture or air at ordinary temperature during storage.例文帳に追加

急膨張金属混合物の構成成分である金属粉末が保管中に常温で湿気又は空気により酸化することを防止することができる常温酸化防止処理された急膨張金属混合物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a phosphor excellent in production stability without fracturing a baking vessel or causing oxidation unevenness even when rapid heating or rapid cooling is carried out in a production process and having a sufficient photostimulable luminous quantity and excellent erasing characteristics capable of readily carrying out the erasion.例文帳に追加

製造過程で急加熱や急冷却を行っても、焼成容器が割れたり、酸化むらが発生することがなく製造安定性に優れ、十分な輝尽発光量を有するとともに、容易に消去しうる優れた消去特性を有する蛍光体の製造方法の提供。 - 特許庁

By rapid heating method, in which the temperature-increase rate is set so that the thicknesses of the silicon oxide films 64 will be film thicknesses, in which tunneling phenomenon is generated, the strong field drift layer 6 is formed by a thermal oxidation of a porous polycrystalline silicon layer formed by a positive electrode oxidation treatment.例文帳に追加

強電界ドリフト層６は、陽極酸化処理により形成された多孔質多結晶シリコン層を、シリコン酸化膜６４の厚さが電子のトンネリング現象が発生する膜厚となるように昇温速度を設定した急速加熱法によって熱酸化することで形成する。 - 特許庁