target massとは 意味・読み方・使い方

To provide a liquid chromatograph mass spectrometer capable of improving a detection sensitivity and a detection accuracy by efficiently introducing target ions subject to an analysis into a mass spectrometry part.例文帳に追加

質量分析部へのイオンの導入効率を向上させることにより分析精度や感度の改善を図る。 - 特許庁

A mass chromatogram is produced on mass numbers of all the peaks appearing in the mass spectrum of a target material (S1, S2), and a prescribed time width is set to a retention time of the target material, and peak detection is executed (S3).例文帳に追加

目的物質のマススペクトルに現れる全てのピークの質量数についてマスクロマトグラムを作成し（Ｓ１、Ｓ２）、目的物質の保持時間に対し所定の時間幅を設定してピーク検出を実行する（Ｓ３）。 - 特許庁

A target yaw rate setting part 70 calculates a target yaw rate by considering vehicle mass, before/behind mass distribution ratio, before/behind shaft mass, a distance between before/behind shaft and the center of gravity, equivalent cornering power of front/rear wheel, and a actual front wheel steering angle.例文帳に追加

目標ヨーレート設定部７０は、車両質量、前後質量配分比、前後軸質量、前後軸−重心間距離、前後輪の等価コーナリングパワー、実際の前輪舵角を考慮し目標ヨーレートを演算する。 - 特許庁

A mass air flow regulator 22 controls the position of an exhaust circulation valve 3 as the function of a difference between the target mass air flow MAFdes and the measured value MAFmes of the mass air flow.例文帳に追加

質量空気流量調整器22が、目標質量空気流量MAFdesと質量空気流量の計側値MAFmesとの差の関数として、排気還流弁3の位置を制御する。 - 特許庁

The sputtering target has a composition containing 1 to 20 mass% Ti and 1 to 40 mass% Cu, and the balance substantially Ni.例文帳に追加

Ｔｉを１〜２０質量％、Ｃｕを１〜４０質量％含み、残部が実質的にＮｉである組成を有するスパッタリングターゲットである。 - 特許庁

To carry out structural analysis of molecules by selecting target ions with a high mass resolution and analyzing ion fragments generated by cleaving the target ions.例文帳に追加

高い質量分解能で目的イオンを選別し、その目的イオンを開裂させたイオン断片を分析して分子の構造解析を行う。 - 特許庁

The target apparatus is an apparatus for collecting samples, and includes a plate having a number of dips, a mass spectrometric plate, or a secondary target support plate.例文帳に追加

標的装置は、試料を集めるための装置であり、多数のくぼみがあるプレート、質量分析プレート、または２次標的支持プレートを含む。 - 特許庁

The Al-based alloy sputtering target contains 0.0010-0.4 mass% of Fe and 0.0010-0.50 mass% of Si.例文帳に追加

本発明のＡｌ基合金スパッタリングターゲットは、Ｆｅを０．００１０〜０．４質量％と、Ｓｉを０．００１０〜０．５０質量％含有することを特徴とする。 - 特許庁