temp. exposedとは 意味・読み方・使い方

To protect a high temp. exposed member over a long period of time by preventing the early peel phenomenon of the topcoat of the heat barrier film formed on the high temp. exposed member of a gas turbine and a jet engine.例文帳に追加

ガスタービンおよびジェットエンジンの高温被曝部材に形成されている熱遮蔽皮膜のトップコートの早期剥離現象を防止し、長期間にわたって高温被曝部材を保護すること。 - 特許庁

Herein, the barrier layer prevents the formation of a gaseous Si compd. when the article is exposed to a moisture present condition at high temp.例文帳に追加

ここで、バリア層は、前記物品が高温で水分の存在する条件にさらされたときにガス状Si化合物の形成を防ぐものである。 - 特許庁

To provide a diffusion aluminide bond coat which is heat insulating coating film for parts to be exposed to high temp. such as a gas turbine engine, and in which a ceramics layer is hard to peel.例文帳に追加

ガスタービンエンジンのような高温に曝される部品の断熱皮膜であるセラミックス層の剥離しにくい拡散アルミニウム化物ボンディングコートを提供する。 - 特許庁

The ceramic 1 and the 2nd thermally sprayed layer 5 are rigidly bonded to each other and hardly stripped from each other even by being exposed to the repeat of the temp. cycle.例文帳に追加

セラミックス１と銅合金またはステンレスから成る第２溶射層５とが強固に接合され、温度サイクルに繰り返し曝されたとしても両者が容易に剥離することがない。 - 特許庁

To produce and exhaust gas purifying catalyst and to provide a method for efficiently removing nitrogen oxides from exhaust gas even after the catalyst is exposed to high temp. and further converting nitrogen oxides to harmless nitrogen.例文帳に追加

触媒が高温に晒された後でも排ガスから窒素酸化物を効率的に除去し、更には無害な窒素へと転化する排ガス浄化触媒及び排ガス浄化方法を提供する。 - 特許庁

To the atmosphere at ≥1,000°C in the flowing passage introducing high temp. gas in the outside of the system in the smelting process, the material beforehand mixing the ore containing the moisture and carbon-aceous material, etc., is exposed to remove the moisture.例文帳に追加

高温ガスを製錬工程の系外へ導く流路内であって１０００℃以上の雰囲気に、水分を含む鉱石や炭材等を予め混合したものを曝して、水分を除去する。 - 特許庁

In the secondary step, hydrogen or the like is fed by a gas feed tube 14, plasma contg. hydrogen is generaged by power supply by a power source 15, the substrate is exposed to the plasma, and its temp. is held at 350 to 550°C for ≥1 min.例文帳に追加

第２ステップでは、ガス供給管１４で水素等が供給され、電源１５による給電で水素を含有するプラズマが生成され、上記基板は、当該プラズマに晒され、１分以上、３５０〜５５０℃の温度に維持される。 - 特許庁