thermal gratingとは 意味・読み方・使い方

To prevent thermal deformation of diffraction grating formed in an optical semiconductor device and to improve luminous efficiency of an active layer.例文帳に追加

光半導体装置内に形成される回折格子の熱変形を防止するとともに、活性層の発光効率を向上させる。 - 特許庁

By viscosity of air at the grating holes 30, vibration energy of the air is converted to thermal energy, thereby reducing noise.例文帳に追加

格子孔３０における空気の粘性作用により、空気の振動エネルギが熱エネルギに変換され、騒音を低減できる。 - 特許庁

Also, the clad layer 7 storing the core layer 5 is formed on the substrate 21 consisting of a material having a linear thermal expansion coefficient larger than the linear thermal expansion coefficient of the core layer 5, and the grating 2 is formed in at least a part of the core layer 5 to obtain the optical waveguide grating device 1.例文帳に追加

また、コア層５の線熱膨張係数より大きな線熱膨張係数を有する材料の基板２１上にコア層５を収容するクラッド層７を形成し、コア層５の少なくとも一部にグレーティング２を形成して光導波路グレーティングデバイス１を得る。 - 特許庁

In the optical waveguide grating device 1 wherein a clad layer 7 storing a core layer 5 is formed on a substrate 21 and the grating 2 is formed in at least a part of the core layer 5, the substrate 21 is the optical waveguide grating device 1 consisting of a material having a linear thermal expansion coefficient larger than the linear thermal expansion coefficient of the core layer 5.例文帳に追加

基板２１上に、コア層５を収容するクラッド層７を形成し、コア層５の少なくとも一部にグレーティング２を形成してなる光導波路グレーティングデバイス１であって、基板２１は、コア層５の線熱膨張係数より大きな線熱膨張係数を有する材料からなる光導波路グレーティングデバイス１である。 - 特許庁

A plane diffraction grating 13 is formed from material having a proper coefficient of linear expansion, and the fluctuation of the wavelength of reflected light by a concave mirror 14 caused by thermal expansion or contraction of members other than the plane diffraction grating 13 is counterbalanced or reduced by the fluctuation of the wavelength of reflected light by the concave mirror 14 caused by thermal expansion or contraction of the plane diffraction grating 13.例文帳に追加

適切な線膨張率を有する材料で平面回折格子１３を形成して、平面回折格子１３以外の部材の熱伸縮に起因する凹面鏡１４の反射光の波長の変動を、平面回折格子１３の熱伸縮に起因する凹面鏡１４の反射光の波長の変動で相殺或いは小さくする。 - 特許庁

To obtain an optical connection member in which occurrence of large thermal stress to a fiber grating (FG) section caused by thermal expansion and contraction of a metallic flange is prevented and a stable characteristic is maintained.例文帳に追加

金属フランジの熱膨張又は熱収縮によってファイバグレーテイング（ＦＧ）部に大きな熱応力が作用することを防止し、安定した特性を維持することのできる光接続部材を得る。 - 特許庁

As a result, the thermal expansion and the change in the refractive index accompanying the temperature change of the optical fiber 3 with the diffraction grating are compensated by the fixation of the holding member 4 having the negative coefficient of thermal expansion and the occurrence of a deviation in the reflection wavelength is averted.例文帳に追加

これによって、回折格子付き光ファイバ３の温度変化に伴う熱膨張及び屈折率の変化を、負の熱膨張係数を有する保持部材４の固定によって補償し、反射波長のずれが起こらないようにする。 - 特許庁

In a process of manufacturing the optical semiconductor device, a diffraction grating is formed in an active layer, a wafer is placed in a growth device (steps S1 and S2), a thermal deformation prevention layer is formed on the surface of the diffraction grating at a first temperature (step S3), and then a temperature is raised to a second temperature for forming a buried layer of the diffraction grating (step S4).例文帳に追加

光半導体装置の製造過程において、活性層に回折格子を形成してウェハを成長装置内に配置し（ステップＳ１，Ｓ２）、この成長装置内で、第１の温度で回折格子表面に熱変形防止層を形成した後（ステップＳ３）、回折格子の埋め込み層を形成する第２の温度まで昇温する（ステップＳ４）。 - 特許庁