unshownとは 意味・読み方・使い方

Moreover, a source area 10s of the transistor DTFT is formed with an unshown transparent electrode via a contact hole.例文帳に追加

また、トランジスタＤＴＦＴのソース領域１０ｓには、コンタクトホール２０を介して図示しない透明電極が形成されている。 - 特許庁

A space between a front substrate (unshown) and a rear substrate 1 is divided into a plurality of independent cell spaces 8 through cube type barrier ribs 2.例文帳に追加

前面基板（図示せず）と背面基板１との間の空間を、井桁状の隔壁２によって、複数の独立したセル空間８に分割する。 - 特許庁

A fence member 12 with a building module size is formed by arranging vertical steel wires 11a at fixed intervals and welding them to transverse steel wires unshown in the figure.例文帳に追加

縦鋼線１１a を一定間隔に並べて図に現れていない横鋼線１１b に溶接して建築モジュールの大きさのフェンス用部材１２ができている。 - 特許庁

An unshown front surface of a projector 2 is also provided with a receiving part for receiving the infrared synchronizing signal transmitted from the synchronizing signal transmitter 3.例文帳に追加

また、プロジェクター２の図示しない前面にも、同期信号送信装置３から送信される赤外線の同期信号を受信するための受信部が設けられている。 - 特許庁

Unshown front surfaces of liquid crystal shutter glasses 4 are respectively provided with a receiving part for receiving an infrared synchronizing signal transmitted from a synchronizing signal transmitter 3.例文帳に追加

液晶シャッターメガネ４の図示しない前面には、同期信号送信装置３から送信される赤外線の同期信号を受信するための受信部が設けられている。 - 特許庁

Then, an attractive force is generated as shown by arrows, and the measured object W_1 is attracted and held in the reference receiving part 12 and turned by an unshown driving means.例文帳に追加

次いで、矢印で示すように吸着力を発生させ、被測定物Ｗ_1 を基準受け部１２に吸着・保持し、図示しない駆動手段によって回転させる。 - 特許庁

This picture display device has a driver monolithic structure in which drivers 3, 40, 50 constituting a picture display part 1 and a driver part are formed on an insulating substrate (unshown in the figure) in one body.例文帳に追加

この画像表示装置では、画像表示部１とドライバ部をなすドライバ３,４０,５０が絶縁性基板(図示せず)上に一体的に形成されているドライバーモノリシック構造となっている。 - 特許庁

In an interlayer insulating film 11 formed on a semiconductor substrate, electrical via connection regions 121, 122 related to an unshown lower wiring layer or elements are formed.例文帳に追加

半導体基板上に設けられた層間絶縁膜１１中に、図示しない下層の配線層または素子に関係する電気的なビア接続領域１２１、１２２が形成されている。 - 特許庁