water annealingとは 意味・読み方・使い方

To provide a method for producing a high tensile cold rolled steel sheet in a continuous annealing process including water quenching where, even in the case products in which annealing conditions are largely different are connected, the highly efficient production of a high tensile cold rolled steel sheet is possible.例文帳に追加

水焼入れを有する連続焼鈍プロセスにおける高張力冷延鋼板の製造において、焼鈍条件の大きく異なる製品をつなげた場合においても、高張力冷延鋼板の高能率な製造が可能な連続焼鈍プロセスにおける高張力冷延鋼板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method for producing a high tensile cold rolled steel sheet in a continuous annealing process including water quenching, as a condition changing material to be charged between products in which annealing conditions are different, a steel sheet in which the content of solid solution C is <0.02 mass% is used.例文帳に追加

水焼入れを行う連続焼鈍プロセスにおける高張力冷延鋼板の製造方法であって、焼鈍条件の異なる製品の間に装入される条件変更材として、鋼板内固溶Ｃ量が０．０２質量％未満の鋼板を用いる。 - 特許庁

After a powdery graphite nano-fiber is subjected to a vacuum annealing treatment at an annealing temperature of about 1,000°C for about 1 hour, it is dipped in pure water and then it is irradiated with 420 KHz ultrasonic wave for 3 hours by use of an ultrasonic generator under atmospheric temperature and pressure conditions of about 0 to 30°C and 1 atm..例文帳に追加

パウダー状グラファイトナノファイバを、約１０００℃のアニール温度で約１時間真空アニール処理を行った後、純水に浸漬した状態にして、おおむね０〜３０℃及び１気圧の常温常圧条件下で、超音波発生装置により４２０ＫＨｚの超音波を３時間照射する。 - 特許庁

For removing the products of impurities adhering on the electrode 17A due to the annealing step, a cleaning step using warm water (pure water) is carried out.例文帳に追加

このアニール処理により下部電極１７Ａの表面に付着している不純物生成物１９を除去するために、温水（純水）を用いた洗浄処理を行う。 - 特許庁

A header 11 of a high-pressure water spray device 10 for spraying high-pressure water with pressurized air dissolved therein toward the surface of the annealed steel strip 20 is provided on the outlet side of an annealing furnace 3.例文帳に追加

焼鈍後の鋼帯２０表面に向けて空気を加圧溶解した高圧の水を噴射する高圧水噴射装置１０のヘッダ１１を焼鈍炉３の出側に設けた。 - 特許庁

This manufacturing method includes passing the sheet while controlling oxygen concentration in an atmosphere in a water spraying facility 2 and/or a water quenching facility 3 in the outlet side of a continuous annealing furnace to 1,000 ppm or lower.例文帳に追加

連続焼鈍炉出側の水スプレー設備２および／またはウォータークェンチ設備３内部の雰囲気中の酸素濃度を、１０００ｐｐｍ以下に制御して通板する。 - 特許庁

The manufacturing method also includes controlling the concentration of dissolved oxygen in a coolant to 2 ppm or lower, which is used in the water spraying facility 2 and/or in the water quench facility 3 installed in the outlet side of the continuous annealing furnace.例文帳に追加

また連続焼鈍炉出側の水スプレー設備２および／またはウォータークェンチ設備３にて使用される冷却水の溶存酸素濃度を2ｐｐｍ以下とする。 - 特許庁

The semiconductor device manufacturing method includes a modifying process of modifying the quality of a gate insulating film formed of a high-dielectric constant film of hafnium oxide, by subjecting the gate insulating film to a water vapor annealing treatment in a water vapor atmosphere.例文帳に追加

ハフニウム酸化物系の高誘電率膜からなるゲート絶縁膜を水蒸気の雰囲気にて水蒸気アニール処理することにより膜質を改質する改質処理工程を備える。 - 特許庁