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wet ashingとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 湿式灰化
「wet ashing」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 17件
That is, after etching its ferroelectrics film by using a resist as a mask, it is subjected to the wet processings by using the aqueous solution of the phosphoric acid, after a resist ashing or both before and after the resist ashing.例文帳に追加
レジストをマスクとして強誘電体膜をエッチングしたあと、レジストアッシング後またはアッシング前後の両方に燐酸水溶液を用いてウェット処理をする。 - 特許庁
The resist pattern film 19 and the plating seed film 18 are removed by ashing and wet etching.例文帳に追加
レジストパターン膜19とめっきシード膜18とはアッシングとウエットエッチングとによって除去される。 - 特許庁
After this, the resist is removed by dry ashing using a plasma or wet processing, using a resist-peeling liquid.例文帳に追加
その後、プラズマを用いたドライアッシングまたはレジスト剥離液を用いたウエット処理により、前記レジストを除去する。 - 特許庁
After an aluminum wiring layer 26 is formed by first wet etching like broken lines in Figure 3A, the edge 28b of a photoresist layer 28 used for the first wet etching is recessed by first ashing.例文帳に追加
第1ウエットエッチングによりアルミ配線層26を図3Aの破線のように形成した後、第1のアッシングにより第1ウエットエッチングに用いたフォトレジスト層28の縁部28bを後退させる。 - 特許庁
This method for peeling the resist left on a substrate 5 after dry etching includes a step of dry ashing the resist left on the substrate 5 and a step of wet-peeling the resist left on the substrate 5 after dry ashing with ozone water excited by ultraviolet rays.例文帳に追加
ドライエッチング後に、基板に残留するレジストを除去するレジスト剥離方法において、上記基板5に残留するレジストをドライアッシングする工程と、ドライアッシングによって基板に残留するレジストを紫外線で励起されたオゾン水によってウエット剥離する工程とを具備する。 - 特許庁
Next, after removing a natural oxide film and an ashing oxide film, a lower electrode having a designated grain spacing is formed, by processing the grain spacing of the HSG grains for wet etching with ammonia hydrogen peroxide or the like (Fig.(F)-(G)).例文帳に追加
次に、自然酸化膜やアッシング酸化膜を除去後、アンモニア過酸化水素水などでHSG粒の粒間隔をウェットエッチングし、所定の粒間隔を有する下部電極を形成する(図1(F)〜(G))。 - 特許庁
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「wet ashing」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 17件
With radiation of high frequency oxygen plasma, the surface of reaction product (4) is physically shocked and such reactive product can be removed easily with a post-processing (ashing and wet process with an organic solvent).例文帳に追加
この高周波を伴う酸素プラズマ照射により、反応生成物(4)の最表面が物理的な衝撃を受け、後処理(アッシング及び有機溶剤によるウエット処理)によって、容易に除去することができる。 - 特許庁
To provide a method for forming an insulating film and the insulating film, wherein the insulating film at a low relative dielectric constant and excellent in resistance or the like to a process such as etching, ashing or wet cleaning can be formed.例文帳に追加
低比誘電率であり、エッチング,アッシングあるいはウエット洗浄などのプロセスに対する耐性などにも優れた絶縁膜を形成することができる絶縁膜の形成方法および絶縁膜を提供する。 - 特許庁
To cause less change of quality of an inorganic anti-reflective film even when subjected to a wetting (wet peeling-off) process or a plasma ashing process when it is desired to reprocess the film.例文帳に追加
再工事が必要な場合に、ウェット処理(湿式剥離)や、プラズマアッシング処理を行っても、無機反射防止膜の膜質が変化しにくいようにする - 特許庁
The method has: a step in which SiOC films are formed on Si substrates 1 or on foundation films 2 and 3 formed on the Si substrates and containing Si; a step in which an ashing process is carried out to the SiOC films; and a step in which the SiOC films 4' receiving the ashing treatment are removed selectively by a wet process containing F.例文帳に追加
Si基板1上又は前記Si基板上に形成されたSiを含む下地膜2、3上に、SiOC膜を形成する工程と、前記SiOC膜に、アッシング処理を施す工程と、前記アッシング処理を施したSiOC膜4’を、Fを含むウエット処理により選択的に除去する工程を備える。 - 特許庁
To prevent surface roughness in an insulating film when the insulating film is subjected to wet cleaning after a polymer film is removed by ashing which polymer film is deposited on a resist pattern, when the insulating film is subjected to plasma etching using an etching gas containing carbon and fluorine.例文帳に追加
絶縁膜に対して炭素及びフッ素を含むエッチングガスを用いるプラズマエッチングを行なったときにレジストパターンの上に堆積されるポリマー膜をアッシングにより除去し、その後、絶縁膜をウェット洗浄した際に該絶縁膜に表面荒れが発生しないようにする。 - 特許庁
To prevent surface roughness in an insulating film when the insulating film is subjected to wet cleaning after a polymer film is removed by ashing which polymer film is deposited on a resist pattern, when the insulating film is subjected to plasma etching using an etching gas containing carbon and fluorine.例文帳に追加
絶縁膜に対して炭素及びフッ素を含むエッチングガスを用いるプラズマエッチングを行なったときにレジスト膜の上に堆積されるポリマー膜をアッシングにより除去し、その後、絶縁膜をウェット洗浄した際に該絶縁膜に表面荒れが形成されないようにする。 - 特許庁
A method for manufacturing a semiconductor device having a borderless wiring structure forms a borderless via-hole in which two different types of metals are exposed in an aperture, wherein prior to the wet processing for stripping a resist mask used to form the via hole, ashing is done using plasma including H_2O.例文帳に追加
ボーダレス配線構造を有する半導体装置の製造方法において、開口内で2種類の異なる金属が露出するボーダレスビアホールを形成し、前記ビアホールの形成に用いたレジストマスクを剥離する際のウェット処理に先立って、H2Oを含むプラズマでアッシングする。 - 特許庁
The surface roughness of wiring when wet-etching a sheath metal layer is eliminated by covering the wiring 13 with the metal layer 19, and the wetting properties between the substrate and etching liquid is improved by performing O2 ashing treatment before wet etching, thus surely removing the sheath metal layer.例文帳に追加
本発明は、配線13上に金属層19を被覆することにより、シースメタル金属層のウエットエッチング時における配線表面のあれをなくし、且つウエットエッチング前にO_2アッシング処理を行うことにより、基板とエッチング液のぬれ性を向上させ、シースメタル金属層を確実に除去するものである。 - 特許庁
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