以磨子の英語

組成式ＡＢＯ_3で表される酸化物からなる研磨材であり、更には平均粒子径が２μｍ以下、最大粒子径が平均粒子径の４倍以下である研磨材を用いる。例文帳に追加

An abrasive material comprises an oxide of the formula: ABO3, wherein the average particle size is ≤2 μm and the maximum particle size is 4 time as large as the average particle size or smaller. - 特許庁

研磨粒子２として、ゴム、熱可塑性エラストマなどの弾性材からなり、かつ♯２０００以上の砥粒４を含有する研磨粒子２を用いて被研磨物の表面を仕上げ研磨する。例文帳に追加

The polishing particles 2 is made of an elastic material such as a rubber and a thermoplastic elastomer, and finished polishing of the surface of the polished object is carried out by using the polishing particles 2 including abrasive particles 4 with No.2000 or above. - 特許庁

本発明の研磨パッドは、研磨面側に、格子状の溝を有し、溝の内面の表面粗さが２０μｍ以下、特に１０μｍ以下である。例文帳に追加

This polishing pad has grid type grooves on the polishing surface side, and surface roughness of inner surfaces of the grooves is 20μm or less, or especially 10μm or less. - 特許庁

該ブラスト処理は、ウエットブラストで、研磨材の粒子径を１００μｍ以下とする。例文帳に追加

The blasting treatment is wet blast and the grain size of polishing material is specified so as to be less than 100μm. - 特許庁

トナー粒子と、前記トナー粒子に外添された外添剤とを含み、前記外添剤として、(1) 一次粒子径が０．１μｍ以下の凝集体からなる研磨材粒子と、(2) 一次粒子径が、研磨材粒子の凝集粒子径以下で、かつ、前記研磨材粒子の一次粒子径より大きい第２の粒子とを含む電子写真用トナーである。例文帳に追加

The electrophotographic toner includes toner particles and an external additive externally added to the toner particles, wherein the external additive includes (1) abrasive particles comprising aggregates having a primary particle diameter of ≤0.1 μm and (2) second particles having a primary particle diameter which is not over the aggregated particle diameter of the abrasive particles and larger than the primary particle diameter of the abrasive particles. - 特許庁

一次粒子径が５〜３０ｎｍで、会合度が５以下のコロイダル粒子からなる研磨粒子を含むＣＭＰ用スラリ。例文帳に追加

The CMP slurry contains polishing grain which comprises colloidal grain whose primary grain diameter is 5 to 30 nm and association degree is 5 or below. - 特許庁

有機膜を研磨する研磨液であって、この研磨液は、ｐＨが５．０以下であり、研磨液全体に対して２．０〜１５．０質量％の有機溶媒と、砥粒と、水とを含有してなり、前記砥粒は、二次粒子径／一次粒子径で求められる会合度が、２．７以下である、研磨液。例文帳に追加

A polishing liquid is used for polishing the organic film, and contains an organic solvent which is ≤5.0 in pH and 2.0 to 15.0%, by mass, for the whole polishing liquid, abrasive grains, and water, the abrasive grains being ≤2.7 in association degree found by a secondary particle size/a primary particle size. - 特許庁

モース硬度が２以上の研磨粒子が少なくとも１種類練り込まれた研磨フィルムであって、該研磨フィルムを構成するポリマーの熱分解温度または融点が４００℃以上であり、該研磨フィルムの引張強さが５００ＭＰａ以上であることを特徴とする研磨フィルムとする。例文帳に追加

The polishing film is kneaded with at least one kind of polishing particle having 2 or more of Moh's hardness, a pyrolytic temperature or melting point is 400°C or more in a polymer constituting the polishing film, and the tensile strength of the polishing film is 500 MPa or more. - 特許庁