「かでんず」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

静電荷像現像用トナーは荷電制御剤とトナー用樹脂を含む。例文帳に追加

The toner for developing an electrostatic image comprises the charge control agent and a resin for the toner. - 特許庁

その後、荷電粒子は、プラズマから選択的に取り除かれる。例文帳に追加

Thereafter, the charge particles are selectively removed from the plasma. - 特許庁

静電塗装における過電流異常を回避可能にする制御方法例文帳に追加

CONTROL METHOD ENABLING TO AVOID OVERCURRENT ANOMALY IN ELECTROSTATIC COATING - 特許庁

位相板と位相板用レンズ系を備えた透過電子顕微鏡例文帳に追加

TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE EQUIPPED WITH PHASE PLATE AND LENS SYSTEM FOR PHASE PLATE - 特許庁

静電塗装機用高電圧出力制御方法及び装置例文帳に追加

HIGH VOLTAGE OUTPUT CONTROL METHOD FOR ELECTROSTATIC COATING MACHINE AND APPARATUS THEREFOR - 特許庁

超電導限流ヒューズおよびこれを用いた過電流制御システム例文帳に追加

SUPERCONDUCTING CURRENT-LIMITING FUSE AND OVERCURRENT CONTROL SYSTEM USING SAME - 特許庁

静電インクジェットインク組成物およびその荷電制御方法例文帳に追加

ELECTROSTATIC INKJET INK COMPOSITION AND CHARGE CONTROL METHOD THEREFOR - 特許庁

静電霧化装置は、霧化電極と冷却手段とを備える。例文帳に追加

This electrostatic atomization apparatus comprises an atomization electrode and a cooling means. - 特許庁

水を簡単に浄化するためのパイ化電導竹炭を提供する。例文帳に追加

To provide a pi-ized electroconductive bamboo charcoal for simply purifying water. - 特許庁

荷電粒子ビーム露光装置、静電偏向器およびその製造方法例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM ALIGNER, ELECTROSTATIC DEFLECTOR AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

高周波印加電極とこの電極を用いたプラズマプロセス装置例文帳に追加

HIGH FREQUENCY APPLYING ELECTRODE AND PLASMA PROCESSING SYSTEM - 特許庁

荷電粒子線レンズアレイ、露光装置及びデバイス製造方法例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM LENS ARRAY, PHOTOLITHOGRAPHIC APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

静電吸着装置及びそれを用いた荷電粒子応用装置例文帳に追加

ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE AND CHARGED PARTICLE APPLIED DEVICE USING THE SAME - 特許庁

荷電粒子線偏向器及びそれを内蔵する電磁レンズ例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM DEFLECTOR, AND ELECTROMAGNETIC LENS WITH THE DEFLECTOR BUILT THEREIN - 特許庁

ヒューズ装置の過電流状態における特性を向上させること。例文帳に追加

To improve characteristics in over-current state of a fuse device. - 特許庁

荷電粒子ビーム装置及びその対物レンズのコンタミネーション防止装置例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE AND CONTAMINATION ARRESTER OF OBJECTIVE LENS - 特許庁

荷電粒子線装置、レンズパワー調整方法、及びデバイス製造方法例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM EQUIPMENT, METHOD FOR REGULATING LENS POWER, AND PROCESS FOR FABRICATING DEVICE - 特許庁

荷電ビームレンズアレイ、露光装置及びデバイス製造方法例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM LENS ARRAY, EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE - 特許庁

車載用高電圧モータ装置用コモンモードノイズキャンセル回路装置例文帳に追加

COMMON MODE NOISE CANCELING CIRCUIT DEVICE FOR VEHICLE-MOUNTED HIGH-VOLTAGE MOTOR DEVICE - 特許庁

発泡導電消失性材料、ヒューズおよび感温電流切断方法例文帳に追加

FOAMING CONDUCTIVITY VANISHING MATERIAL, FUSE AND THERMAL SENSITIVE CURRENT INTERRUPTING METHOD - 特許庁

Ｍｇ添加電気Ｚｎめっき浴およびその浴によるめっき方法例文帳に追加

Mg-ADDED ELECTROGALVANIZING BATH, AND PLATING METHOD USING THE BATH - 特許庁

荷電粒子線露光装置におけるレンズの極性の判断方法例文帳に追加

METHOD FOR JUDGING POLARITY OF LENS IN CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM - 特許庁

陽極側での過電圧を低くできる水電解方法を提供する。例文帳に追加

To provide a water electrolyzing method by which the overvoltage on the anode side is lowered. - 特許庁

プラズマ処理装置の電界印加電極１０は２つに分割されている。例文帳に追加

The field applying electrode 10 of the plasma treating device is divided into two. - 特許庁

電気入力は、コンプレックス細分化電位図を同定するために処理される。例文帳に追加

The electrical inputs are processed to identify complex fractionated electrograms. - 特許庁

荷電粒子線露光装置及び非点ボケ、非点歪の補正方法例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF CORRECTING ASTIGMATIC BLUR AND ASTIGMATIC DISTORTION - 特許庁

過電流が流れたときヒューズが溶断して，アークが発生する。例文帳に追加

When an excessive current flows, the fuse melts, then an arc will occur. - 特許庁

荷電粒子ビーム描画装置におけるドーズ補正描画方法及び装置例文帳に追加

DOSE CORRECTION DRAWING METHOD AND DEVICE IN CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS - 特許庁

描画パターンのリサイズ方法及び荷電粒子ビーム描画方法例文帳に追加

DRAWING PATTERN RESIZING METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY METHOD - 特許庁

過電圧保護素子などを不要としながら、耐ノイズ性を大幅に向上させる。例文帳に追加

To drastically improve noise resistance while eliminating, for example, an overvoltage protection element. - 特許庁

電磁波ノイズの影響を受けない安定化電源回路を提供する。例文帳に追加

To provide a regulated power supply circuit not to be affected by electromagnetic wave noise. - 特許庁

静電型偏向器および静電型偏向器を備えた荷電粒子ビーム装置例文帳に追加

ELECTROSTATIC TYPE DEFLECTOR, AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE EQUIPPED WITH IT - 特許庁

第4-2-2-6 図 「SOBA-YA プロジェクトーホンモノの日本食文化伝播のテコ入れ」の様子例文帳に追加

Figure 4-2-2-6 "SOBA-YA project --- Support for diffusing true Japanese food culture" picture - 経済産業省

第2-3-4-13 図 タイと各国・地域ごとの家電の中間財貿易（2010 年）例文帳に追加

Figure 2-3-4-13 Intermediate goods trade of home electric appliances between Thailand and other countries/regions(2010) - 経済産業省

私の電話番号をどこで教わったのですか. 電話帳には出ていないはずですが.例文帳に追加

Where did you get my phone number? I'm sure it's not in the book.  - 研究社 新和英中辞典

ノイズ検出器１７０２は回路基板１７０３の制御下、電磁波ノイズの波長を検出する。例文帳に追加

A noise detector 1702 detects wavelength of electromagnetic wave noise under control of a circuit board 1703. - 特許庁

荷電粒子光学レンズ系は、４段の四極子レンズと、３つの開口電極から構成される。例文帳に追加

A charged particle optical lens system is formed of quadrupole lenses of 4 stages, and three aperture electrodes. - 特許庁

放電プラズマ処理装置の表面加工方法、印加電極、及び、放電プラズマ処理装置例文帳に追加

SURFACE WORKING METHOD FOR DISCHARGE PLASMA PROCESSING APPARATUS, APPLICATION ELECTRODE, AND DISCHARGE PLASMA PROCESSING APPARATUS - 特許庁

過電流状態でも電源電圧の変動に依存せずに安定した遅延時間を得ることができる。例文帳に追加

To obtain a stable delay time even in a overcurrent state, regardless of fluctuations in supply voltage. - 特許庁

押しボタン６を押圧することにより過電流引き外し機構を引き外すトリップ装置が設けられる。例文帳に追加

A trip device is provided for tripping an overcurrent trip mechanism by pressing a push button 6. - 特許庁

発光素子に無意味な過電流を与えずに効率的にＡＰＣ動作を行うこと。例文帳に追加

To perform an APC operation effectively without supplying a meaningless overcurrent to a light-emitting element. - 特許庁

炭を充満した水に浸水し高電圧印加放電で得る水の製造装置及びその利用用途例文帳に追加

MANUFACTURING DEVICE FOR WATER OBTAINED BY IMMERSING CHARCOAL IN FILLED WATER AND BY HIGH VOLTAGE APPLICATION/ DISCHARGE AND UTILIZING APPLICATION THEREOF - 特許庁

また、加熱を停止することにより、外部印加電圧によらず光透過率の値を保持することができる。例文帳に追加

Further, the value of the light transmissivity can be held irrelevantly to an externally applied voltage by stopping the heating. - 特許庁

フレームメモリを用いずに過電流を防止することができる有機ＥＬ表示装置を提供する。例文帳に追加

To provide an organic EL display device, capable of preventing overcurrent without using a frame memory. - 特許庁

電子レンズ、その電子レンズを用いた荷電粒子線露光装置、デバイス製造方法例文帳に追加

ELECTRON LENS, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM USING THE SAME AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁