「キノン式化合物」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

(A) 特定一般式の繰返し単位を含むポリアミド(100重量部) 、および(B) 特定一般式で表されるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-4- スルフォン酸エステルおよび/ または1,2-ナフトキノンジアジド-5- スルフォン酸エステルを含むキノンジアジド系感光剤 (1 〜50重量部) よりなる感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The photosensitive resin composition comprises (A) 100 pts.wt. polyamide containing repeating units of a specified formula and (B) 1-50 pts.wt. quinonediazido sensitizer containing 1,2-naphthoquinonediazido-4-sulfonic ester and/or 1,2-naphthoquinonediazido-5-sulfonic ester of a polyhydroxy compound of a specified formula. - 特許庁

一般式Ｉ のモノアセチル化ヒドロキノン化合物の製造方法とこの化合物であって、一般式ＩＩ のジアセチルフェノール化合物と、場合により酸の存在でペルオキソ化合物とを反応させて製造する。例文帳に追加

This method for producing a monoacetylated hydroquinone compound of the general formula I comprises reaction between the corresponding diacetylphenolic compound of the general formula II and a peroxo compound optionally in the presence of an acid. - 特許庁

（ａ）ポリシロキサン（ｂ）下記一般式（１）で表されるキノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤からなる感光性シロキサン組成物。例文帳に追加

This photosensitive siloxane composition comprises (a) polysiloxane, (b) a quinone diazide compound expressed by general formula (1), and (c) a solvent. - 特許庁

該Ｎｒｆ２活性化物質としては、マイケル反応アクセプター、ｔ−ブチルハイドロキノン、クルクミンまたは下式で示される化合物が好ましい。例文帳に追加

As the Nrf2-activating substance, a Michael reaction acceptor, t-butylhydroquinone, curcumin or a compound expressed by formula (III) are preferable. - 特許庁

下記一般式（Ｉ）−Ｅで表わされる光応答性のフルギド部位と電気化学応答性のキノン部位を複合化した新奇なキノンフルギド化合物は光−電気により相互変換可能な複数の化学構造をとる。例文帳に追加

This novel quinone fulgide compound which is represented by the general formula (I)-E and in which a photochemically responding fulgide site is combined with an electrochemically responding quinone site has plural chemical structures which can be changed into each other with light-electricity. - 特許庁

一般式（Ｉ）で表されるフェノール化合物のキノンジアジドスルフォン酸エステル及びポリベンゾオキサゾール前駆体を含有する。例文帳に追加

The photosensitive resin composition contains a quinonediazidosulfonic ester of a phenol compound represented by formula (I) and a polybenzoxazole precursor. - 特許庁

１，２（または２，１）−ナフトキノンジアジド−４−（又は５−）スルホン酸と式Ｉの化合物とのエステル。例文帳に追加

An ester of 1,2(or 2,1)-naphthoquinonediazide-4-(or 5-)sulfonic acid and a compound of formula (I) is provided. - 特許庁

アルカリ可溶性ノボラック型樹脂とキノンジアジド基含有化合物とを基本組成とするポジ型フォトレジストにおいて、式（Ｉ）例文帳に追加

In a positive photoresist, consisting essentially of an alkali- soluble novolak resin and a quinonediazido-containing compound, a compound of formula I is contained further. - 特許庁

本発明のナフトキノン系化合物は、下記一般式（１）で示されることを特徴とする。例文帳に追加

The naphthoquinone compound is represented by formula (1) (wherein (a) is 3 or 4; and when (a) is 3, X is a trivalent group, and when (a) is 4, X is a tetravalent group). - 特許庁

アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド基を有する感光剤並びに硬化剤を含有する感光性樹脂組成物において、アルカリ可溶性樹脂がアクリル系樹脂であり、且つキノンジアジド基を有する感光剤が下記一般式（Ｉ）で表されるフェノール性化合物とナフトキノンジアジド化合物との反応生成物であり、硬化剤がエポキシ基を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The photosensitive resin composition containing an alkali-soluble resin, a photosensitive agent having a quinonediazide group, and a curing agent is characterized in that: the alkali-soluble resin is an acrylic resin, the photosensitive agent having a quinonediazide group is a reaction product of a phenolic compound expressed by general formula (I) and a naphthoquinone diazide compound; and the curing agent contains an epoxy group. - 特許庁

電子写真感光体であって、酸化防止剤が、下記一般式（１）で表されるフェノール系化合物であり、かつ、電子アクセプタ性化合物が、キノン化合物であることを特徴とする電子写真感光体。例文帳に追加

An oxidation inhibitor is a phenol compound expressed by General Formula (1), and an electron acceptor compound is a quinone compound, in this electrophotographic photoreceptor. - 特許庁

正帯電用感光体中の電子輸送物質に、キノン系化合物と正孔輸送物質で形成される下記一般式Ｉの電荷移動錯体の赤外吸収スペクトルで、キノン構造に帰属する１６００〜１７００ｃｍ^−１に現れる最も強い吸収ピーク位置が電荷移動錯体形成前のキノン系化合物に比して３ｃｍ^−１以上高波数シフトした電荷移動錯体を適用する。例文帳に追加

A charge transfer complex having the following properties is used for an electron transport substance in the positive charge photoreceptor. - 特許庁

一般式（Ｉ）で表される化合物を含む共重合体と１，２−キノンジアジド化合物との組成物、あるいはさらに他のアルカリ可溶性重合体を混合した組成物からなるポジ型感光性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

The positive type photosensitive resin composition contains a copolymer of a compound expressed by general formula (I) and a 1,2-quinonediazide compound, or further mixes with other alkali-soluble polymers. - 特許庁

一般式（１）で表されるビスフェノール化合物に、オキシゲナーゼの存在下、酸素を作用させることを特徴とする一般式（２）で表されるモノキノン化合物の製造方法。例文帳に追加

A method for producing a monoquinone shown by general formula (2), wherein an oxygen is made to act on a bisphenol compound of general formula (1) in the presence of oxygenase. - 特許庁

（ａ）ポリシロキサン、（ｂ）ナフトキノンジアジド化合物、（ｃ）硬化剤、（ｄ）溶剤を含むポジ型感光性組成物であって、（ｃ）硬化剤が、一般式（１）または（２）で表される化合物であることを特徴とするポジ型感光性組成物。例文帳に追加

A positive photosensitive composition contains (a) a polysiloxane, (b) a naphtoquinone-diazido compound, (c) a curing agent and (d) a solvent, where the (c) curing agent is a compound represented by the general formula (1) or (2). - 特許庁

一般式（１）で示されるフェノール化合物１モルに１、２—ナフトキノンジアジド—４—スルホン酸クロライドを仕込みで２．７〜３．０モルを反応させたジアゾキノン誘導体と一般式（２）で示されるポリアミド１００重量部とそのジアゾキノン誘導体１〜１００重量部からなるポジ型感光性樹脂組成物に関するものである。例文帳に追加

The positive photosensitive resin composition comprises 1-100 pts.wt. diazoquinone derivative prepared by reacting 1 mol phenolic compound of formula 1 with 2.7-3.0 mol 1,2-naphthoquinonediazido-4-sulfonic acid chloride and 100 pts.wt. polyamide of formula 2. - 特許庁

バインダ樹脂及び着色剤を少なくとも含むカラートナーにおいて、赤外線吸収性化合物として、式（Ｉ）、式（ＩＩ）、式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）及び式（Ｖ）のフタロシアニン系化合物、式（ＶＩ）及び式（ＶＩＩ）のナフタロシアニン系化合物ならびに式（ＶＩＩＩ）、式（ＩＸ）及び式（Ｘ）のアントラキノン系化合物の少なくとも１種を使用するように構成する。例文帳に追加

In the color toner containing at least a binder resin and a colorant, at least one selected from phthalocyanine compounds of formulae (I)-(V), naphthalocyanine compounds of formulae (VI) and (VII), and anthraquinone compounds of formulae (VIII)-(X) is used as an infrared absorbing compound. - 特許庁

ａ）ポリシロキサン、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤、（ｄ）一般式（１）で表されるオルガノシラン化合物を含有する感光性シロキサン組成物。例文帳に追加

The photosensitive siloxane composition contains (a) polysiloxane, (b) a quinone diazide compound, (c) a solvent and (d) an organosilane compound expressed by general formula (1). - 特許庁

アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、感光性ジアゾナフトキノン化合物（Ｂ）、一般式（１）で示されるケイ素化合物（Ｃ−１）を含んでいるポジ型感光性樹脂組成物を提供することにより上記課題を解決する。例文帳に追加

The positive photosensitive resin composition comprises an alkali-soluble resin (A), a photosensitive diazonaphthoquinone compound (B) and a silicon compound (C-1) represented by general formula (1). - 特許庁

一般式（１）で表される繰り返し単位を有するヒドロキシポリアミド１００質量部とアクリレート系化合物１〜１００質量部と感光性ジアゾキノン化合物１〜１００質量部を含むポジ型感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The positive photosensitive resin composition contains 100 parts by mass of a hydroxypolyamide having a repeating unit represented by formula (1), 1-100 parts by mass of an acrylate compound and 1-100 parts by mass of a photosensitive diazoquinone compound. - 特許庁

上記感放射線性樹脂組成物は、［Ａ］（ａ１）カルボキシル基を有する特定の不飽和化合物、（ａ２）脂環式エポキシ骨格を有する特定の不飽和化合物ならびに（ａ３）上記（ａ１）および（ａ２）以外の不飽和化合物の共重合体ならびに［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物を含有する。例文帳に追加

The radiation-sensitive resin composition contains: [A] a copolymer of (a1) a specified unsaturated compound having a carboxyl group, (a2) a specified unsaturated compound having an alicyclic epoxy skeleton and (a3) an unsaturated compound except for the above (a1) and (a2); and [B] a 1,2-quinonediazide compound. - 特許庁

アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００重量部、一般式（１）で示されるフェノール化合物の、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸エステル及び／又は１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸エステル（Ｂ）１〜５０重量部を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The positive type photosensitive resin composition comprises (B) 1-50 pts.wt. of a 1, 2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid ester and/or a 1, 2-naphtoquinone-2-diazide-4-sulfonic acid ester of a phenol compound represented by general formula (1) based on (A) 100 pts.wt. of an alkali-soluble resin. - 特許庁

アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００重量部、式（１）で示されるフェノール化合物の、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸エステル及び／又は１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸エステル（Ｂ）１〜５０重量部を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The positive photosensitive resin composition comprises an alkali-soluble resin (A) 100 pts.wt. and 1, 2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic ester and/or 1, 2-naphthoquinone-2-diazido-4-sulfonic ester (B) of a phenol compound shown by formula (1) 1∼50 pts.wt. - 特許庁

縮合多環式化合物またはこれを含有する物質を弗化水素・三弗化硼素の存在下で重合させて得られた光学的等方性ピッチと、ｐ-ベンゾキノン、アントラキノン、硫黄から選ばれる少なくとも１種の架橋剤とを反応させた後、８００℃以上の温度で熱処理する。例文帳に追加

After bringing into reaction an optical isotropic pitch, which is obtained by polymerizing a condensed polycyclic compound or a material containing the same under the presence of hydrogen fluoride/boron trifluoride, and at least one kind of crosslinking agent selected from p-benzoquinone, anthraquinone, and sulfur, a thermal treatment is performed at a temperature of 800°C or higher. - 特許庁

アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００重量部、一般式（１）で示されるフェノール化合物の、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸エステル及び／又は１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸エステル（Ｂ）１〜５０重量部を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The positive type photosensitive resin composition comprises 100 pts.wt. alkali soluble resin (A) and 1-50 pts.wt. 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid ester and/or 1,2-naphthoquinone-2-diazide-4-sulfonic acid ester (B) of a phenolic compound represented by formula (1). - 特許庁

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）感光性ジアゾキノン化合物、及び、（Ｃ）窒素原子を２つ以上含む複素環式化合物を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物であり、成分（Ｃ）が窒素原子を３つ以上含む複素環式化合物であることが好ましい。例文帳に追加

The positive photosensitive resin composition contains (A) an alkali-soluble resin, (B) a photosensitive diazoquinone compound and (C) a heterocyclic compound containing two or more nitrogen atoms, wherein the component (C) is preferably a heterocyclic compound containing three or more nitrogen atoms. - 特許庁

式１の化合物を、疎水性溶媒中強酸存在下（メタ）アクリル酸と加熱還流させ、留出水を除去し、除去水の量がハイドロキノン類化合物のモル数の40〜100％に達したとき終了する、式２の化合物の製造方法。例文帳に追加

This method for producing the compound of formula 2 comprises thermally reflux-reacting a compound of formula 1 with (meth)acrylic acid in the presence of a strong acid in a hydrophobic solvent to remove distilled water, and finishing the reaction, when the amount of the removed water reaches 40 to 100% based on the moles of the hydroquinone compound. - 特許庁

実質的にハイドロキノンを含まず、下記一般式（１）で表される化合物、下記（２）〜（６）から選ばれる一般式で表される化合物及び２０℃における酸解離定数ｐｋ１が９．８０以下である化合物を含む黒白ハロゲン化銀写真感光材料用現像剤。例文帳に追加

The developer for a black-and-white silver halide photographic sensitive material does not substantially contain hydroquinone and contains a compound of formula (1), a compound of one of formulae (2)-(6) and a compound having an acid dissociation constant pk1 of ≤9.80 at 20°C. - 特許庁

全水酸基の水素原子の一部が１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル基で置換されたアルカリ可溶性ノボラック樹脂と芳香族性を示す複素環化合物とを含むポジ型ホトレジスト組成物であり、前記複素環化合物は、例えば下記式で表される化合物であるポジ型ホトレジスト組成物。例文帳に追加

The positive photoresist composition contains an alkali-soluble novolak resin in which part of the hydrogen atoms of all hydroxyl groups have been substituted by 1,2-naphthoquinonediazidosulfonyl groups and a heterocylic compound which exhibits aromaticity, e.g. a compound of formula (1). - 特許庁

（ａ）ポリシロキサン、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤、（ｄ）下記一般式（１ａ）および／または下記一般式（１ｂ）で表される熱酸発生剤を含有する感光性シロキサン組成物。例文帳に追加

The photosensitive siloxane composition comprises (a) a polysiloxane, (b) a quinonediazide compound, (c) a solvent and (d) a thermal acid generator represented by general formula (1a) and/or formula (1b). - 特許庁

硬化性を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）、キノンジアジド化合物（Ｂ）、オニウムカチオンと、式（１）または式（２）で表されるアニオンとからなるカチオン重合開始剤（Ｃ）および溶剤（Ｈ）を含有する感放射線性樹脂組成物。例文帳に追加

The radiation-sensitive resin composition comprises an alkali-soluble resin (A) having curability, a quinonediazido compound (B), a cationic polymerization initiator (C) consisting of an onium cation and an anion represented by formula (1) or (2) and a solvent (H). - 特許庁

アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、感光性ジアゾキノン化合物（Ｂ）、一般式（１）または（２）で表される群より選ばれた少なくとも1種類以上の有機ケイ素化合物（Ｃ）及びフェノール化合物（Ｄ）を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The positive photosensitive resin composition contains an alkali-soluble resin (A), a photosensitive diazoquinone compound (B), at least one or more organosilicon compounds (C) selected from the group consisting of the compounds represented by formula (1) or (2), and a phenol compound (D). - 特許庁

（ａ）成分：特定の一般式で表される化合物を含むシラン化合物を、加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂、（ｂ）成分：フェノール類とナフトキノンジアジドスルホン酸とのエステル化合物、（ｃ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤、とを含有する感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The photosensitive resin composition comprises (a) a siloxane resin obtained by hydrolytic condensation of a silane compound comprising a compound represented by a specific general formula, (b) an ester compound of any of phenols and naphthoquinone diazidosulfonic acid, and (c) a photoacid generator or a photobase generator. - 特許庁

（Ａ）一般式（１）で示される構造を含むポリアミド樹脂１００重量部、（Ｂ）感光性ジアゾキノン化合物１〜１００重量部及び（Ｃ）特定のフェノール化合物から選ばれる少なくとも１種のフェノール化合物を１〜５０重量部を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。例文帳に追加

This positive photosensitive resin composition includes (A) a polyamide resin of 100 pts.wt. expressed by a general formula (1); (B) a photosensitive diazoquinone compound of 1-100 pts.wt.; and (C) at least one kind of phenolic compounds of 1-50 pts.wt. selected from a specific phenolic compound. - 特許庁

（ａ）ラジカル重合性化合物と脂環式エポキシ基含有重合性不飽和化合物の構造単位を必須成分として含む共重合体及び（ｂ）キノンジアジド基含有化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの形成方法。例文帳に追加

The photosensitive resin composition is characterized in that it contains (a) a copolymer containing structural units of a radical polymerizable compound and an alicyclic epoxy-containing polymerizable unsaturated compound as essential components and (b) a quinonediazido-containing compound, and also the method of forming a pattern using the composition is provided. - 特許庁

（Ａ）全フェノール性水酸基の水素原子の一部が１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル基で置換されるアルカリ可溶性ノボラック樹脂、（Ｂ）例えば下記式で示す化合物とナフトキノンジアジドスルホン酸化合物とのエステル化物、および（Ｃ）感度向上剤を含有するポジ型ホトレジスト組成物。例文帳に追加

The positive type photoresist composition contains (A) an alkali- soluble novolak resin having 1,2-naphthoquinonediazidosulfonyl groups substituted for part of the hydrogen atoms of all phenolic hydroxyl groups, (B) a product by the esterification of, e.g. a compound of formula (1) with a naphthoquinonediazidosulfonic acid compound and (C) a sensitivity improver. - 特許庁

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、および（Ｂ）感光性成分を含み、該（Ｂ）成分は、下記一般式（Ｉ）と１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル化合物とのエステル化物を含むポジ型ホトレジスト組成物。例文帳に追加

The positive type photoresist composition contains (A) an alkali- soluble resin and (B) a photosensitive component containing a product by the esterification of a compound of formula (I) and a 1,2- naphthoquinonediazidosulfonyl compound. - 特許庁

特定の一般式の繰返し単位を含むポリアミド１００重量部、（Ｂ）感光性キノンジアジド化合物１〜５０重量部、及び（Ｃ）特定の一般式で示されるアミドフェノール化合物１〜５０重量部を必須成分とする新規なポジ型感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The new positive type photosensitive resin composition contains (A) 100 pts.wt. polyamide containing repeating units of a specified formula, (B) 1-50 pts.wt. photosensitive quinonediazido compound and (C) 1-50 pts.wt. amidophenol compound of a specified formula as essential components. - 特許庁

（ａ）一般式（１）および／または一般式（２）で表される構造単位を主成分とするポリマーと、（ｂ）フェノール性水酸基を有する化合物と、（Ｃ）エステル化したキノンジアジド化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂前駆体組成物。例文帳に追加

The positive photosensitive resin precursor composition contains (a) a polymer based on structural units of formula I and/or formula II, (b) a compound having a phenolic hydroxyl group and (c) an esterified quinonediazido compound. - 特許庁

（Ａ）下記の一般式（１）で表される繰り返し単位を有するヒドロキシポリアミド１００質量部、（Ｂ）一般式（２）で表されるウレタン基含有化合物０．０１〜３０質量部、及び（Ｃ）感光性ジアゾキノン化合物１〜１００質量部を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The positive photosensitive resin composition contains: (A) 100 parts by mass of a hydroxypolyamide having a repeating unit represented by formula (1); (B) 0.01-30 parts by mass of a urethane group-containing compound represented by formula (2); and (C) 1-100 parts by mass of a photosensitive diazoquinone compound. - 特許庁

下記一般式（Ｉ）で表されるモノマー（Ａ）と他のラジカル重合性モノマー（Ｂ）を共重合して得られるアルカリ可溶性重合体、１，２−キノンジアジド化合物、及びナノワイヤー構造体を含有するポジ型感光性組成物である。例文帳に追加

The positive photosensitive composition includes an alkali-soluble polymer formed through copolymerization of a monomer (A) expressed by general formula (I) and another radical polymerizable monomer (B), a 1,2-quinonediazide compound, and a nanowire structure. - 特許庁

本発明は、一般式（I）で表されるモノマー（Ａ）と他のラジカル重合性モノマー（Ｂ）を共重合して得られるアルカリ可溶性重合体および１，２−キノンジアジド化合物を含有するポジ型感光性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

The positive photosensitive resin composition contains an alkali-soluble polymer obtained by copolymerizing a monomer (A) represented by formula (I) and another radically polymerizable monomer (B), and a 1,2-quinonediazido compound. - 特許庁

当該透明樹脂膜は、脂環式オレフィン樹脂からなるのが好ましく、特にキノンジアジド化合物を含有する感放射線性樹脂組成物を用いるのが好ましい。例文帳に追加

The transparent resin film is preferably constituted of an alicyclic olefin resin, and it is preferable in particular that a radiation-sensitive resin composition containing a quinone diazide compound is used therefor. - 特許庁

一般式（１）で示されるポリアミド樹脂（Ａ）１００重量部、感光性ジアゾキノン化合物（Ｂ）１〜１００重量部及び非フッ素系界面活性剤（Ｃ）０．００１〜１０重量部を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The positive photosensitive resin composition comprises 100 pts.wt. polyamide resin represented by formula (1), 1 to 100 pts.wt. photosensitive diazoquinone compound (B) and 0.001 to 10 pts.wt. fluorine-free surfactant (C). - 特許庁

（ａ）一般式（１）で表される構造単位を主成分とするポリマーと、（ｂ）キノンジアジド化合物を含有することを特徴とする感光性耐熱性樹脂前駆体組成物。例文帳に追加

The photosensitive heat resistant resin precursor composition comprises (a) a polymer based on a structural unit represented by formula (1) and (b) a quinonediazido compound. - 特許庁