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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > クロロぎ酸メチルに関連した英語例文

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クロロぎ酸メチルの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 29



例文

1−〔(4−クロロフェニル)フェニルメチル〕−4−〔(3−メチルフェニル)メチル〕ピペラジンの左旋性二塩塩;及び1−〔(4−クロロフェニル)フェニルメチル〕−4−〔(3−メチルフェニル)メチル〕ピペラジンの右旋性二塩塩等からなる群から選ばれる、光学的な純度が98%より高い化合物。例文帳に追加

There is provided compounds with the optical purity of higher than 98% selected from the group consisting of a levorotatory dihydrochloride of 1-[(4-chlorophenyl)phenylmethyl]-4-[(3-methylphenyl)methyl]piperazine, a dextrorotatory dihydrochloride of 1-[(4-chlorophenyl)phenylmethyl]-4-[(3-methylphenyl)methyl]piperazine or the like. - 特許庁

2,2,6−トリメチルシクロヘキシルメチルケトンを次亜塩素塩によって化して2,2,6−トリメチルシクロヘキシルトリクロロメチルケトンを生成し、次いで該ケトン化合物をアルカリ分解することを特徴とする、2,2,6−トリメチルシクロヘキサンカルボン類の製造方法。例文帳に追加

This method for producing a 2,2,6- trimethylcyclohexanecarboxylic acid is characterized by comprising oxidation of 2,2,6-trimethylcyclohexyl methyl ketone with a hypochlorite to form 2,2,6- trimethylcyclohexyl trichloromethyl ketone, which is then put to alkalinolysis. - 特許庁

クロロ3−クロロメチルフェニルをカルボン又はカルボン塩を用いて加分解にかけ、次いで、この第一段階の反応生成物を使用してアルコーリシスを行う。例文帳に追加

This process for preparing the 3-hydroxybenzyl alcohol comprises subjecting 3-chloromethylphenyl chloroformate to an acidolysis with a carboxylic acid or a carboxylic acid salt and carrying out an alcoholysis using the reactional product in the first step. - 特許庁

工業的に有利な1−(4−クロロベンゾイル)−5−メトキシ−2−メチルインドール−3−酢の精製方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a purification process for 1-(4-chloro-benzoyl)-5-methoxy-2- methyl-3-acetaic acid with industrial advantage. - 特許庁

例文

式(I)の化合物として、例えばN−ベンジルオキシカルボニル−L−アスパラギン2,6−ジクロロベンゾイルオキシメチルケトンが例示される。例文帳に追加

For example, N-benzyloxycarbonyl-L-aspartic acid 2,6-dichlorobenzoyloxymethyl ketone is exemplified as the compound. - 特許庁


例文

製造方法は、例えば、(−)−(2R,4S)−4−(3,5−ビス−トリフルオロメチル−ベンジルアミノ)−2−エチル−6−トリフルオロメチル−3,4−ジヒドロ−2H−キノリン−1−カルボンエチルエステル、4−トルエンスルホン塩、炭ナトリウム、及びクロロメチルを、テトラヒドロフラン中で、約20℃〜約25℃の温度で結合させる。例文帳に追加

The method for producing the same, characterized by, for example, condensing ethyl (-)-(2R,4S)-4-(3,5-bis-trifluoromethyl- benzylamino)-2-ethyl-6-trifluoromethyl-3,4-dihydro-2H-quinoline-1-carboxylate, sodium carbonate, and methyl chloroformate in tetrahydrofuran at a temperature of about 20°C to about 25°C. - 特許庁

α−クロロアクリルエステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、アルコール溶媒Aと、メチルイソブチルケトンからなる溶媒Bとを含む。例文帳に追加

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes an alcohol solvent A, and a solvent B made of methyl isobutyl ketone. - 特許庁

安定化次亜臭素ナトリウムと、5−クロロ−2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オンおよび2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オンの混合物とを組み合わせた組成物により微生物の増殖を阻害するための相乗的な効果を発揮させることが出来る。例文帳に追加

The composition is a combination of stabilized sodium hypobromite with a mixture of 5-chloro-2-methyl 4-isothiazolin-3-one and 2-methyl-4-isothiazolin-3-one and exhibits a synergistic effect for inhibiting microbiological growth. - 特許庁

α_4β_1が関与する疾病状態の制御または予防のために、(3S)−3−[({「l−(2−クロロベンジル)−4−ヒドロキシ−5−メチル−2−オキソ−1,2−ジヒドロピリジン−3−イル」アミノ}カルボニル)アミノ]−3−(4−メチルフェニル)プロパン誘導体を使用すること例文帳に追加

(3S)-[({[1-(2-Chlorobenzyl)-4-hydroxy-5-methyl-2-oxo-1,2- dihydropyridin-3-yl]amino}carbonyl)amino]-3-(4-methylphenyl)-propanoic acid derivative is used for control or prophylaxis of disease states in which the α_4β_1 is involved. - 特許庁

例文

アセチルロイシルロイシルアルギナール(ロイペプチン)、N−(Nα−カルボニル−Arg−Val−アルギニナール)Phe(アンチパイン)、H−D−Phe−Phe−Arg−クロロメチルケトン(PPACK)、D−Phe−Pro−Arg−クロロメチルケトン(PPRACK)、ジイソプロピルフルオロリン(DFP)およびそれらの組合せで構成されるグループから選択される少なくとも1つの安定化成分。例文帳に追加

At least one stabilizing component is selected from a group constituted of acetyl-leucyl-leucyl-arginal (leupeptin); N-(Nα-carbonyl-Arg-Val-argininal) Phe (antipain); H-D-Phe-Phe-Arg-chloromethyl ketone (PPACK); D-Phe-Pro-Arg-chloromethyl ketone (PPRACK); and a diisopropyl fluorophosphate (DFP) and their combination. - 特許庁

例文

また、カチオン系高分子凝集剤としては、カチオン性多糖類、ヘキサメチレンジアミン・エピクロロヒドリン重縮合物またはジメチルアミン・エピクロロヒドリン重縮合物が好ましく用いられ、これらとポリアクリル塩との混合物も好ましく用いられる。例文帳に追加

The cationic polymer flocculant preferably comprises cationic polysaccharide, a hexamethylene diamine epichlorohydrin polycondensate or a dimethylamine epichlorohydrin polycondensate, or also preferably comprises a mixture of polyacrylate and these substances. - 特許庁

パルプチェスト5には次亜塩素ナトリウムが供給され、マシンチェスト7及び白水サイロ12には3—ブロモ−3−クロロ−5,5−ジメチルヒダントインが供給される。例文帳に追加

Sodium hypochlorite is fed to the pulp chest 5 and 3-bromo-3-chloro-5,5-dimethylhydantoin is fed to a machine chest 7 and a white water silo 12. - 特許庁

N−(フルオロジクロロメチルチオ)−フタルイミドと第二級アルカンスルホンナトリウムを併用添加することにより作業性や物性に悪影響を与えることなく、良好な防カビ樹脂組成物を提供することができる。例文帳に追加

A good antifungal resin composition is provided which adversely affects neither work efficiency nor physical properties by adding N-(fluorodichloromethylthio)-phthalimide and a sodium secondary alkane sulfonate in combination. - 特許庁

この化合物は、適量の反応溶媒中で、ジアリルイソシアヌレート、炭ビス(トリクロロメチル)及び活性化剤を適宜の反応温度で反応させることにより、合成することができる。例文帳に追加

This compound can be synthesized by reacting diallyl isocyanurate, bis(trichloromethyl) carbonate and an activator at a suitable reaction temperature in a suitable amount of a reaction solvent. - 特許庁

α−クロロアクリルエステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるアルコール溶媒Aと、酢−n−アミル又は酢エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Bとを含むレジスト現像剤。例文帳に追加

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes an alcohol solvent A, and a solvent B made of n-amyl acetate or ethyl acetate or the admixture thereof. - 特許庁

(A)クロロブタノールと共に、(B)ヒアルロン、コンドロイチン硫、アルギン、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、及びこれらの塩からなる群より選択される少なくとも1種とを併用して、シリコーンハイドロゲルコンタクトレンズ用眼科組成物を調製する。例文帳に追加

The ophthalmologic composition for a silicone hydrogel contact lens is prepared by combining (A) chlorobutanol and (B) at least one kind selected from the group consisting of hyaluronic acid, chondroitin sulfate, alginic acid, hydroxypropyl methyl cellulose, and salts thereof. - 特許庁

とトリメチルアミンの混合物の水溶液にエピクロルヒドリンを反応させて3-クロロ-2- ヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロライド水溶液を製造するに際して、副生物の生成を抑制し、反応の制御が容易で、エネルギー消費量の少ない、工業的に有利な方法を提供する。例文帳に追加

To provide an industrially advantageous method of manufacturing an aqueous solution of 3-chloro-2-hydroxypropyltrimethylammonium chloride suppressing production of by-products, easy to control reaction, low in energy consumption in a process manufacturing the aqueous solution by adding epichlorohydrin to an aqueous solution of a mixture of hydrochloric acid and trimethylamine and reacting them. - 特許庁

α−クロロアクリルエステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Aと、前記溶媒Aよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いメチルイソブチルケトンからなる溶媒Bとを含む。例文帳に追加

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes a solvent A containing fluorocarbon, and a solvent B made of methyl isobutyl ketone and higher in solubility for the resist layer than the solvent A. - 特許庁

α−クロロアクリルエステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Aと、前記溶媒Aよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Bと、メチルイソブチルケトンからなる溶媒Cとを含む。例文帳に追加

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes a solvent A containing fluorocarbon, an alcohol solvent B higher in solubility for the resist layer than the solvent A, and a solvent C made of methyl isobutyl ketone. - 特許庁

次の成分(A)及び(B);(A)クロロゲン類:乾燥固形分中に100〜300mg/g、及び(B)5−ヒドロキシメチルフルフラール:乾燥固形分中に0.33mg/g以下を含有し、乾燥固形分が10〜100質量%のコーヒー濃縮組成物。例文帳に追加

The concentrated coffee composition includes following components (A) and (B), and has a dried solid content of 10-100 mass%: (A) chlorogenic acid compounds in an amount of 100-300 mg/g in terms of the dried solid content; and (B) 5-hydroxymethylfurfural in an amount of 0.33 mg/g or less in terms of the dried solid content. - 特許庁

すなわち沸点若しくは共沸点が70℃以上である(混合)有機溶剤中で、ポリクロロプレンにメタクリルメチルを従来技術よりも高固形分の条件下でグラフト重合した後に、他種の有機溶剤により希釈して、クロロプレン系グラフト接着剤を製造することにより、有機溶剤の揮発速度が調節可能となる。例文帳に追加

The evaporating rate of an organic solvent can be adjusted by graft-polymerizing polychloroprene with methyl methacrylate in a (mixed) organic solvent of a b.pt. or an azeotropic point of70°C under a condition of a solid content higher than those of conventional techniques and diluting with another organic solvent to obtain the adhesive. - 特許庁

α−クロロアクリルエステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Aと、前記溶媒Aよりも前記レジスト層に対する溶解度が高い酢−n−アミル又は酢エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Bとを含む。例文帳に追加

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes a solvent A containing fluorocarbon, and a solvent B higher in solubility for the resist layer than the solvent A and made of n-amyl acetate, or ethyl acetate or the admixture thereof. - 特許庁

次式(3)[式中、R^1はアルキル基、クロロエチル基を表し、R^2はアルキル基を表す]の化合物のニトロ基を還元することによってアミノ基に変換した後、さらにリンエステルおよびカルボンエステルを加水分解して脱保護することを含んでなる、D,L−2−アミノ−4−(ヒドロキシメチルホスフィニル)−ブタンの製造方法。例文帳に追加

The manufacturing method of D, L-2-amino-4-(hydroxymethylphosphinyl)-butanoic acid comprises reducing a nitro group of a compound represented by formula (3) [wherein R^1 is an alkyl group or a chloroethyl group; and R^2 is an alkyl group] to convert it into an amino group followed by deprotection by hydrolysis of a phosphoric ester and a carboxylic ester. - 特許庁

α−クロロアクリルエステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Aと、前記溶媒Aよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Bと、酢−n−アミル又は酢エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Cとを含む。例文帳に追加

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes a solvent A containing fluorocarbon, an alcohol solvent B higher in solubility for the resist layer than the solvent A, and a solvent C made of n-amyl acetate or ethyl acetate or the admixture thereof. - 特許庁

制御されたNCO/OH比で不飽和モノアルコールポリエーテルおよびジイソシアネートから得られる不飽和ポリウレタンから出発し、これにオルト-ギメチルまたはエチルの存在下にクロロシランを加える有機ケイ素プレポリマー組成物の合成を含む本発明による方法によって達成される。例文帳に追加

This method for preparing the organosilicon compound includes a process where an unsaturated polyurethane which is obtained by reacting a polyether of an unsaturated monohydric alcohol with a diisocyanate under controlling an NCO/OH ratio is used as a starting material and then chlorosilane is added to the starting material in the presence of methyl orthoformate or ethyl orthoformate so that the organosilicon pepolymer composition is synthesized. - 特許庁

4、4’−ビス(クロロメチル)ビフェニルとフェノールとの縮合反応を工業的に行うに際し、急激な発熱等を抑制し、反応を制御した状態で進行させる方法を得ること、及び難燃性、耐化性,耐熱性等に優れ、再現性の良い品質のそろった4、4’−ビフェニルジイルジメチレン−フェノール樹脂を得ることを課題とする。例文帳に追加

To provide a method for carrying out a condensation reaction of 4,4'-bis(chloromethyl)biphenyl with a phenol in an industrial scale in a controlled state suppressing rapid heat evolution, and to provide a 4,4'-biphenyldiyldimethylene-phenol resin excellent in flame retardancy, oxidation resistance, thermal resistance, etc., and excellent reproducibility and uniform quality. - 特許庁

基板上に、α−クロロメタクリレートとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層にエネルギービームを照射することにより、所定のパターンの描画又は露光を行う工程と、酢−n−アミルを含む5℃以下の現像剤によって、前記描画又は露光されたレジスト層を現像する工程と、を含む。例文帳に追加

A method for forming a resist pattern includes steps of: forming a resist layer containing a polymer of α-chloromethacrylate and α-methylstyrene on a substrate; performing rendering or exposure of a predetermined pattern by irradiating the resist layer with an energy beam; and developing the rendered or exposed resist layer with a developer containing n-amyl acetate at ≤5°C. - 特許庁

有効成分として3-ヨード-2-プロピニルブチルカーバメート、4,5-ジクロロ-2-n-オクチルイソチアゾリン-3-オン及び2-ベンズイミダゾールカルバミンメチルの3種を組み合わせた場合、それぞれ単独あるいは2種合剤で用いた場合と比較して飛躍的に防カビ効力が増大し、優れた工業用防カビ組成物が得られることを見出した。例文帳に追加

When three kinds of 3-iodo-2-propinylbutylcarbamate, 4,5- dichloro-2-n-octylisothiazolin-3-one and methyl 2-benzimidazolecarbamate are combined as active ingredients, mildewproofing efficacy is greatly enhanced in comparison with single use of each component or use of combined two kinds of the components and an excellent industrial mildewproofing component is obtained. - 特許庁

例文

一般式(I):(式中、R^1は炭素数2〜8の直鎖もしくは分枝鎖状のアルキレン基又はフェニレン基を示し、R^2は炭素数1〜18の直鎖もしくは分枝鎖状のアルキル基を示す)で表されるトリフェニルボラン・アルコキシ基含有アミン錯体化合物、4,5−ジクロロ−2−n−オクチル−3(2H)イソチアゾリン及び/又はビス(ジメチルジチオカルバモイル)エチレンビスジチオカルバミン亜鉛を含有する漁網防汚塗料組成物。例文帳に追加

The fishing net antifouling coating material composition contains triphenylborane-alkoxy group-containing amine complex compound expressed by general formula (1) (in formula, R^1 expresses a 2-8C linear or branched alkylene or phenylene, R^2 expresses a 1-18C linear or branched alkyl), 4,5-dichloro-2-n-octyl-3(2H) isothiazoline and/or zinc bis(dimethyldithiocarbamoyl)ethylene bisdithiocarbamate. - 特許庁

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