「タンタル膜」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

酸化タンタル薄膜の形成方法例文帳に追加

FORMING METHOD OF TANTALUM OXIDE FILM - 特許庁

窒化タンタル膜の形成方法例文帳に追加

METHOD FOR DEPOSITING TANTALUM NITRIDE FILM - 特許庁

タンタル窒化物膜の形成方法例文帳に追加

METHOD FOR DEPOSITING TANTALUM NITRIDE FILM - 特許庁

酸化タンタル膜の熱処理方法例文帳に追加

HEAT TREATING METHOD FOR TANTALUM OXIDE FILM - 特許庁

酸化タンタル薄膜の形成方法例文帳に追加

METHOD OF FORMING TANTALUM OXIDE THIN FILM - 特許庁

５酸化タンタル膜の製造方法例文帳に追加

METHOD OF FORMING TANTALUM PENTOXIDE FILM - 特許庁

αタンタル膜の製造方法、αタンタル膜及びそれを用いた素子例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING α-TANTALUM FILM, α-TANTALUM FILM AND ELEMENT USING THE SAME - 特許庁

酸化タンタル膜形成用組成物および酸化タンタル膜の製造方法例文帳に追加

COMPOSITION FOR FORMING TANTALUM OXIDE FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING TANTALUM OXIDE FILM - 特許庁

酸化タンタル膜形成用組成物および酸化タンタル膜の形成方法例文帳に追加

COMPOSITION FOR FORMING TANTALUM OXIDE FILM AND METHOD FOR FORMING TANTALUM OXIDE FILM - 特許庁

タンタル膜の製造方法、タンタル膜及びそれを用いた素子例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING TANTALUM FILM, TANTALUM FILM AND ELEMENT USING THE SAME - 特許庁

酸化タンタル薄膜及び薄膜積層体例文帳に追加

TANTALUM OXIDE THIN FILM, AND THIN FILM LAYERED PRODUCT - 特許庁

タンタル酸化物膜形成用組成物、タンタル酸化物膜およびその製造方法例文帳に追加

COMPOSITION FOR FORMING TANTALUM OXIDE FILM, TANTALUM OXIDE FILM, AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

インクジェット方式酸化タンタル膜形成用組成物および酸化タンタル膜の形成方法例文帳に追加

COMPOSITION FOR FORMING INK-JET METHOD TANTALUM OXIDE FILM AND METHOD OF FORMING TANTALUM OXIDE FILM - 特許庁

タンタル薄膜およびタンタルを主体とした薄膜並びにそれらの作製方法例文帳に追加

TANTALUM THIN FILM AND THIN FILM CONSISTING MAINLY OF TANTALUM AND THEIR PRODUCTION - 特許庁

炭素基材上に炭化タンタル被覆膜形成工程により炭化タンタル被覆膜を形成する。例文帳に追加

The tantalum carbide coating film is formed on a carbon substrate with a process of forming the tantalum carbide coating film. - 特許庁

本発明によると、基板上に形成された窒化タンタル膜と、窒化タンタル膜上に形成されたタンタル膜と、タンタル膜上に形成されたＡｕ薄膜とを含む多層薄膜を含む素子に関する。例文帳に追加

The element includes a multilayer thin-film comprising a tantalum-nitride film formed on a substrate, a tantalum film formed on the tantalum-nitride film, and an Au thin-film formed on the tantalum film. - 特許庁

タンタル又は窒化タンタル膜は、酸化性プラズマ化学物質を用いて選択的に取り除かれる。例文帳に追加

The tantalum or the tantalum nitride film is selectively removed, using an oxidative plasma chemical substance. - 特許庁

タンタル多孔質膜の製造方法およびタンタル多孔質電極箔の製造方法例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING TANTALUM POROUS MEMBRANE, AND METHOD OF MANUFACTURING TANTALUM POROUS ELECTRODE FOIL - 特許庁

本発明は、タンタル及び窒化タンタル膜を選択的にドライ・エッチングするための方法を説明する。例文帳に追加

A method of selectively dry etch tantalum and a tantalum nitride film is provided. - 特許庁

タンタル化合物、その製造方法、及びタンタル含有薄膜の形成方法例文帳に追加

TANTALUM COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND METHOD FOR FORMING TANTALUM-CONTAINING THIN FILM - 特許庁

タンタル化合物、その製造方法、タンタル含有薄膜、及びその形成方法例文帳に追加

TANTALUM COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, TANTALUM-CONTAINING THIN FILM AND METHOD OF FORMING THE SAME - 特許庁

タンタル化合物、その製造方法およびタンタル含有薄膜の形成方法例文帳に追加

TANTALUM COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND METHOD FOR FORMING TANTALUM-CONTAINING THIN FILM - 特許庁

結晶粒界の少ない炭化タンタル被覆膜を有する炭化タンタル被覆炭素材料を得る。例文帳に追加

To obtain a tantalum carbide-coated carbon material having a tantalum carbide-coated film with less crystal grain boundaries. - 特許庁

剥離しにくい炭化タンタル被覆膜を有する炭化タンタル被覆炭素材料を得る。例文帳に追加

To provide a carbon material coated with tantalum carbide, which has a tantalum carbide coating film that is difficult to exfoliate. - 特許庁

酸化タンタル蒸着材、その製造方法、および酸化タンタル蒸着膜の製造方法例文帳に追加

VAPOR-DEPOSITION MATERIAL OF TANTALUM OXIDE, PRODUCTION METHOD THEREOF, AND METHOD FOR PRODUCING VAPOR-DEPOSITION FILM OF TANTALUM OXIDE - 特許庁

第２タンタル層１３２ｘおよび中間タンタル層１３２ｙは、立方晶系の単相のタンタル膜になっており、比抵抗が低い。例文帳に追加

The second tantalum layer 132x and an intermediate tantalum layer 132y are each a single-phase tantalum film of a cubic system and have a low specific resistance. - 特許庁

タンタルナイトライド膜８上にはキャパシタの誘電体としてのタンタルオキサイド（Ｔａ2Ｏ5）膜１２が形成され、このタンタルオキサイド膜１２上にはタンタルナイトライド膜１４が形成されている。例文帳に追加

On the tantalum nitride film 8, a tantalum oxide(Ta2O5) film 12 is formed as a capacitor dielectric, and a tantalum nitride film 14 is formed on the tantalum oxide film 12. - 特許庁

チタン−タンタル障壁層薄膜及びその形成方法例文帳に追加

TITANIUM-TANTALUM BARRIER THIN FILM AND FORMATION METHOD THEREFOR - 特許庁

タンタル酸化物膜、その製造法および用途例文帳に追加

TANTALUM OXIDE FILM, AND MANUFACTURING METHOD AND APPLICATION THEREOF - 特許庁

窒化タンタル薄膜抵抗体及びその製造方法例文帳に追加

TANTALUM NITRIDE THIN-FILM RESISTOR AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

薄膜形成用高純度タンタル及びその製造方法例文帳に追加

HIGH PURITY TANTALUM FOR THIN FILM FORMATION AND ITS PRODUCTION - 特許庁

タンタル系薄膜及びその製造方法例文帳に追加

TANTALUM THIN FILM AND ITS PRODUCTION - 特許庁

タンタル酸化膜を備えたキャパシタ製造方法例文帳に追加

MANUFACTURE OF CAPACITOR EQUIPPED WITH TANTALUM OXIDE FILM - 特許庁

酸化タンタル膜を用いたキャパシタ構造の製造方法例文帳に追加

MANUFACTURE OF CAPACITOR STRUCTURE EQUIPPED WITH TANTALUM OXIDE FILM - 特許庁

酸化タンタル膜、それを形成する方法および組成物例文帳に追加

TANTALUM OXIDE FILM, FORMING METHOD THEREOF AND COMPOSITION - 特許庁

タンタル−炭素系薄膜およびその形成方法例文帳に追加

TANTALUM-CARBON-BASE THIN FILM AND METHOD FOR DEPOSITING THE SAME - 特許庁

タンタルオキサイド薄膜の作成方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING TANTALUM OXIDE THIN FILM - 特許庁

タンタル酸カリウム微結晶及び薄膜の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING POTASSIUM TANTALATE FINE CRYSTAL AND THIN FILM - 特許庁

タンタル酸化膜を製膜するに際し、タンタルを製膜後、第１の温度で当該タンタル酸化膜を熱処理し、次いで当該第１の温度よりも低い温度である第２の温度で、且つ活性な酸素を含む雰囲気中で、当該タンタル酸化膜を熱処理するタンタル酸化膜の製造方法。例文帳に追加

A tantalum oxide film is produced by depositing a tantalum film 105, heat treating the tantalum film 105 at a first temperature and then further heat treating the tantalum film 105 at a second temperature lower than the first temperature in an atmosphere containing active oxygen. - 特許庁

炭素基材１上に炭化タンタル被覆膜２を形成する炭化タンタル被覆炭素材料の製造方法であり、炭素基材１表面にタンタル被覆膜を形成するタンタル被覆膜形成工程と、タンタル被覆膜を浸炭処理する浸炭処理工程とを含む。例文帳に追加

A method for manufacturing the tantalum carbide-coated carbon material which forms the tantalum carbide-coated film 2 on a carbon substrate 1 includes a process of forming a tantalum carbide-coated film on the surface of the carbon substrate 1, and a process of curbulization treatment for curbulizing the tantalum-covered film. - 特許庁

そして、タンタルナイトライド膜７の膜厚に対するタンタル膜８の膜厚の比は４以上に設定されている。例文帳に追加

The ratio of the thickness of the tantalum film 8 to that of the tantalum nitride film 7 is set to be 4 or over. - 特許庁

タンタル酸化物膜を絶縁膜として有するキャパシタの製造方法例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING CAPACITOR HAVING TANTALUM OXIDE FILM AS INSULATING FILM - 特許庁

タンタル酸化膜を誘電膜とする半導体キャパシタを提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor capacitor with a dielectric film of a tantalum oxide film. - 特許庁

これにより、シリコンを含むタンタル酸化膜１２Ｂは還元作用を受けてタンタルが生成され、生成されたタンタルと前工程の酸化性雰囲気の熱処理により導入されたシリコンとが互いに反応してその一部にタンタルシリサイドを含むタンタル酸化膜１２Ｃを形成する。例文帳に追加

Thus, the film 12B containing the silicon is reduced to generate a tantalum, and a tantalum oxide film 12C containing a tantalum silicide is formed at a part by reacting the generated tantalum with the silicon introduced by the heat treating of the oxidative atmosphere of the previous step. - 特許庁

タンタル含有被膜におけるタンタル含有率を変えるべく、タンタル含有ターゲットを用いたスパッタリングを行う際に、タンタル含有ターゲットと発熱素子との間の距離を変動させる。例文帳に追加

In order to vary the content of the tantalum in the tantalum-containing coating film, a distance between a tantalum-containing target and the heating element is varied when spattering using the tantalum-containing target is carried out. - 特許庁