「ビスナ」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

少なくとも、フルオレン骨格を有するビスナフトール化合物の酸触媒縮合樹脂（Ａ）、フルオレン骨格を有するビスナフトール化合物（Ｂ）、フラーレン化合物（Ｃ）及び有機溶剤を含有することを特徴とするレジスト下層膜形成用組成物。例文帳に追加

The composition for forming a resist underlayer film contains at least: a resin (A) obtained by the acid-catalyst condensation of a bisnaphthol compound having a fluorene skeleton; a bisnaphthol compound (B) having a fluorene skeleton; a fullerene compound (C); and an organic solvent. - 特許庁

不飽和基含有基置換ビスナジイミド（Ａ）と、分子の両末端にＳｉＨ基を有するポリシロキサン（Ｂ）とをヒドロシリル化反応させる製造方法にてビスナジイミド−ポリシロキサン交互共重合体及びその誘導体にて提供、さらに該交互共重合体を配合することにより電子材料用特に半導体封止用エポキシ樹脂組成物にて提供。例文帳に追加

There are provided a bisnadimide-polysiloxane alternating copolymer produced by the hydrosilylation of (A) an unsaturated-group-containing bisnadimide with (B) a polysiloxane having SiH groups at both molecular ends; a derivative of the copolymer; and an epoxy resin composition for electronic materials, especially for semiconductor sealing, prepared by compounding the alternating copolymer. - 特許庁

リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、ビスナフトール基を有する化合物、およびこのノボラック樹脂を含むことを特徴とするレジスト下層膜材料を提供する。例文帳に追加

The resist underlayer film material which is for a multilayer resist film to be used in lithography, and is characterized by containing at least a compound having a bisnaphthol group and a novolac resin produced therefrom, is provided. - 特許庁

］のアルキレンビスナフトール誘導体およびその塩類、該化合物からなる電荷制御剤および該電荷制御剤を含有する電子写真用トナーを提供する。例文帳に追加

The charge controlling agent and an electrophotographic toner containing the charge controlling agent can be produced by using the compound. - 特許庁

ビスナフトール誘導体と直鎖状のオリゴエチレン部位を有するジクロリドを反応させることにより化３で表わされる大環状化合物を得る。例文帳に追加

The macrocyclic compound of formula 3 is obtained by reaction between a bisnaphthol derivative and a dichloride having a straight-chain oligoethylene moiety. - 特許庁

基体１に接続器収容穴２と差込片収容穴６を設け、該接続器収容穴２に接続器３を収容し、お互いビス、ナット、ボルト、カシメ、溶着等で固設嵌合されて一体形成される。例文帳に追加

Connector housing holes 2 and the plug-in strip housing holes 6 are provided on a basic body 1, and the connectors 3 are fitted in the connector housing holes 2. - 特許庁

本発明は、ビス、ナット等のねじ締め作業を、一般のハンドドライバーと同様の操作で容易にかつ、高能率に行うことができるクイックドライバーを提供する。例文帳に追加

To provide a quick screw driver which can screw the screw and nut by the same operation as a general hand driver easily and efficiently. - 特許庁

痩身用組成物において、ガラナと、コーヒー、マテ、ショウガ、ミント、セイヨウキズタ、アンミビスナガ、ヒバマタ、ニガリから選択される１種または２種以上を併用することにより、痩身効果が相乗的に向上した。例文帳に追加

This composition for slimming the bodies comprises Paullinia cupana, and one or more selected from coffee, Ilex paraguariensis, Zingiber officinale, Mentha piperita L., Hedera helix L., Ammi visnaga, Fucus evanescens and bittern to synergistically improve the slimming effect. - 特許庁

ホウセンカ抽出物又は当該ホウセンカ抽出物の含有成分である式Ｉのビスナフトキノン誘導体を有効成分として含有する美白剤。例文帳に追加

This beautifying and whitening agent contains a balsam extract or a bisnaphtoquinone derivative of formula I, which is a component contained in the balsam extract, as an active ingredient. - 特許庁

いかに労働力の安い他国に作れない商品やサービスを生み出せるか（＝差別化）が勝負であり、日本の将来は他国には真似のできない世界最高品質の商品やサービス（ナンバーワン）、独創的で個性的な商品やサービス（オンリーワン）を常に生み出せるかどうかにかかっている。例文帳に追加

The key point for Japan is now whether it can develop goods or services that countries with cheaper labor cannot produce. This means Japan should differentiate its products from those made by others. Japan's future depends on whether it can continuously develop the world's best-quality (Number One) or unique/distinctive (Only One) goods and services that other countries cannot imitate. - 経済産業省

リソグラフィーで用いられる少なくとも３層を有する多層レジスト膜のレジスト下層膜の形成方法であって、ビスナフトール基を有する化合物を含有するレジスト下層膜材料を基板上にコーティングし、該コーティングしたレジスト下層膜材料を３００℃を超え、６００℃以下の温度で、１０秒〜６００秒間の範囲で熱処理して硬化させることを特徴とするレジスト下層膜形成方法。例文帳に追加

The method of forming the resist underlay film for the multilayer resist film having at least three layers to be used in lithography is characterized by: applying a resist underlay film material containing a compound having a bisnaphthol group on a substrate; and curing the applied resist underlay film by heat-treating at a temperature of >300°C and ≤600°C in a time range from 10 to 600 sec. - 特許庁

新規化合物であるビスナジイミド−ポリシロキサン交互共重合体、その誘導体、及びそれの製造方法の提供、さらにその新規化合物を配合した、機械的強度、密着性、接着性及び耐熱性を損なうことなく低応力化及び熱履歴への耐性の向上した電子材料用特に半導体封止用エポキシ樹脂組成物の提供。例文帳に追加

To provide a bisnadimide-polysiloxane alternating copolymer which is a novel compound; its derivative; a method for producing the same; and an epoxy resin composition which contains the same, exhibits a lowered stress and an improved resistance to heat hysteresis while retaining its inherent mechanical strengths, adhesive properties, and heat resistance, and is used for electronic materials, especially for semiconductor sealing. - 特許庁

リソグラフィーで用いられる少なくとも３層を有する多層レジスト膜のレジスト下層膜の形成方法であって、ビスナフトール基を有する化合物を含有するレジスト下層膜材料を基板上にコーティングし、該コーティングしたレジスト下層膜材料を３００℃を超え、６００℃以下の温度で、１０秒〜６００秒間の範囲で熱処理して硬化させることを特徴とするレジスト下層膜形成方法。例文帳に追加

The method for forming a resist underlayer film of a multilayer resist film having at least three layers used in lithography includes: applying a resist underlayer film material containing a compound having a bisnaphthol group on a substrate; and curing the applied resist underlayer film material by heat treatment at a temperature of >300 to 600°C within a range of 10-600 s. - 特許庁

支持体上の少なくとも一方の表面に、ポリオレフィン樹脂を主成分とし、ルチル型酸化チタンを５％以上含む下層樹脂層と、ポリオレフィン樹脂を主成分とし、ビス−スチルベン系、ビス−ナフタレン系、ビス−チオフェン系から１つ以上選ばれた蛍光増白剤を含む上層樹脂層をいずれも溶融押し出し法により形成する。例文帳に追加

Both of a lower resin layer constituted mainly of a polyolefin resin and containing 5% or more of rutile type titanium oxide and an upper resin layer constituted mainly of the polyolefin resin and containing one or more fluorescent whitening agents selected from bis-stilbene, bis-naphthalene and bis-thiophene ones are formed on at least one surface on the support by a melt extrusion method. - 特許庁