「層間絶縁」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

ポリイミド、ポリアミック酸および層間絶縁膜例文帳に追加

POLYIMIDE, POLYAMIC ACID, AND INTERLAYER INSULATION FILM - 特許庁

層間絶縁接着シ−トおよび多層回路基板例文帳に追加

INTERLAYER INSULATING ADHESIVE SHEET AND MULTILAYER CIRCUIT BOARD - 特許庁

低誘電率層間絶縁膜を形成する方法例文帳に追加

METHOD FOR FORMING LOW PERMITTIVITY INTERLAYER INSULATION FILM - 特許庁

多層プリント配線板用層間絶縁樹脂組成物例文帳に追加

INTERLAMINAR INSULATING RESIN COMPOSITION FOR MULTILAYER PRINTED WIRING BOARD - 特許庁

多層プリント配線板用層間絶縁材例文帳に追加

INTERLAYER INSULATING MATERIAL FOR MULTILAYER PRINTED WIRING BOARDS - 特許庁

多層プリント配線板用層間電気絶縁材料例文帳に追加

INTERLAMINAR INSULATING MATERIAL FOR MULTILAYER PRINTED- WIRING BOARD - 特許庁

半導体層間絶縁膜用有機材料例文帳に追加

ORGANIC MATERIAL FOR SEMICONDUCTOR INTERLAYER INSULATION FILM - 特許庁

半導体装置の層間絶縁膜の形成方法例文帳に追加

FORMATION OF LAYER INSULATION FILM OF SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法例文帳に追加

DRY-ETCHING METHOD OF LOW-PERMITTIVITY INTERLAYER INSULATING FILM - 特許庁

層間絶縁膜のドライエッチング方法及びその装置例文帳に追加

DRY ETCHING METHOD AND APPARATUS OF INTERLAYER INSULATION FILM - 特許庁

半導体装置は、層間絶縁膜１と、層間絶縁膜１内に形成された下部配線５と、層間絶縁膜１上に形成されたライナー膜１１と、ライナー膜１１上に形成された層間絶縁膜１２とを備えている。例文帳に追加

The semiconductor device includes an interlayer insulating film 1, a lower wiring line 5 formed within the interlayer insulating film 1, a liner film 11 formed on the interlayer insulating film 1, and an interlayer insulating film 12 formed on the liner film 11. - 特許庁

半導体素子の層間絶縁膜の形成方法例文帳に追加

FORMATION METHOD FOR INTERLAYER INSULATION FILM OF SEMICONDUCTOR ELEMENT - 特許庁

層間絶縁膜及びその製造方法例文帳に追加

INTERLAYER INSULATION FILM AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

半導体素子の層間絶縁膜形成方法例文帳に追加

METHOD OF FORMING INTERLAYER INSULATION FILM OF SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

低誘電率層間絶縁膜の形成方法例文帳に追加

METHOD OF FORMING LOW DIELECTRIC CONSTANT INTERLAYER DIELECTRIC FILM - 特許庁

硬化性樹脂組成物および層間絶縁膜例文帳に追加

CURING RESIN COMPOSITION AND INTERLAYER INSULATION FILM - 特許庁

低誘電率材料及び層間絶縁膜の製造方法例文帳に追加

LOW DIELECTRIC CONSTANT MATERIAL AND PRODUCTION OF INTERLAMINAR INSULATION FILM - 特許庁

半導体装置１は、半導体基板１０、層間絶縁膜２０（第１の層間絶縁膜）、層間絶縁膜３０（第２の層間絶縁膜）、および配線構造４０を備えている。例文帳に追加

A semiconductor device 1 is equipped with a semiconductor substrate 10, an interlayer insulating film 20 (a first interlayer insulating film), an interlayer insulating film 30 (a second interlayer insulating film), and a wiring structure 40. - 特許庁

層間絶縁膜４０は、例えば窒化シリコンからなる。例文帳に追加

The interlayer insulating film 44 comprises silicon nitride for example. - 特許庁

層間絶縁膜１６は、単層構造の膜である。例文帳に追加

The interlayer insulating film 16 is a film having a single layer structure. - 特許庁

半導体基板上に層間絶縁膜を堆積する。例文帳に追加

An interlayer insulating film 10 is deposited on a semiconductor substrate 1. - 特許庁

半導体用層間絶縁薄膜及びその製法例文帳に追加

INTERLAYER INSULATING THIN FILM FOR SEMICONDUCTOR AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

層間絶縁膜の上に、パッシベーション膜を形成する。例文帳に追加

A passivation film is formed on the interlayer insulating film. - 特許庁

有機層間絶縁膜のエッチング処理方法例文帳に追加

METHOD FOR ETCHING ORGANIC INTERLAYER INSULATING FILM - 特許庁

半導体装置１は、半導体基板１０、層間絶縁膜群２０（第１の層間絶縁膜群）、層間絶縁膜群３０（第２の層間絶縁膜群）、およびシールリング４０（ガードリング）を備えている。例文帳に追加

The semiconductor device 1 includes a semiconductor substrate 10, a group of interlayer insulating films 20 (a first group of interlayer insulating films), a group of interlayer insulating films 30 (a second group of interlayer insulating films), and a seal ring 40 (guard ring). - 特許庁

半導体層間絶縁膜の形成方法例文帳に追加

METHOD FOR FORMING SEMICONDUCTOR INTERLAYER INSULATING FILM - 特許庁

層間絶縁膜の段差測定装置例文帳に追加

DIFFERENCE MEASURING DEVICE FOR INSULATION FILM BETWEEN LAYERS - 特許庁

低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法例文帳に追加

METHOD FOR DRY-ETCHING LOW DIELECTRIC CONSTANT INTERLAYER INSULATING FILM - 特許庁

層間絶縁膜は、第１の層間絶縁膜２０１と、第１の層間絶縁膜２０１上に形成され銅の拡散を防止する性質を有する第２の層間絶縁膜２０２とから構成される。例文帳に追加

A layer insulating film is constituted of a first layer insulating film 201 and a second layer insulating film 202 which is formed on the first layer insulating film 201 and has a character to prevent the diffusion of copper. - 特許庁

低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法例文帳に追加

DRY ETCHING METHOD OF INSULATING FILM BETWEEN LOW DIELECTRIC CONSTANT LAYERS - 特許庁

そして、層間絶縁膜９を形成する。例文帳に追加

Then, an interlayer insulating film 9 is formed. - 特許庁

層間絶縁膜用感放射線性樹脂組成物例文帳に追加

RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR INTERLAYER INSULATING FILM - 特許庁

この後、バリア膜、層間絶縁膜を形成する。例文帳に追加

Then a barrier film and an inter-layer insulating film are formed. - 特許庁

層間絶縁膜のドライエッチング方法例文帳に追加

METHOD OF DRY-ETCHING INTERLAYER INSULATING FILM - 特許庁

次に、層間絶縁膜７を全面に形成する。例文帳に追加

Then, an inter-layer insulating film 7 is formed on the entire surface face. - 特許庁

層間絶縁膜１は、ＳｉＯ_2からなる。例文帳に追加

An interlayer insulating film 1 is formed of SiO_2. - 特許庁

ＴＦＴ液晶ディスプレイ用層間絶縁膜例文帳に追加

INTERLAYER INSULATING FILM FOR TFT LIQUID CRYSTAL DISPLAY - 特許庁

層間絶縁構造およびその形成方法例文帳に追加

INTER-LAYER INSULATING STRUCTURE AND ITS FORMING METHOD - 特許庁

層間絶縁膜製造用の塗布組成物の製造法例文帳に追加

PROCESS FOR PREPARING COATING COMPOSITION FOR MANUFACTURING INTERLAYER INSULATION FILM - 特許庁

半導体層間絶縁膜形成用塗布液保存法例文帳に追加

METHOD OF PRESERVING COATING LIQUID FOR FORMING SEMICONDUCTOR INTERLAYER INSULATING FILM - 特許庁

半導体装置及び層間絶縁層形成方法例文帳に追加

SEMICONDUCTOR DEVICE AND INTER-LAYER INSULATION LAYER FORMING METHOD - 特許庁

難燃性樹脂組成物及び層間絶縁接着剤例文帳に追加

FLAME-RETARDANT RESIN COMPOSITION AND LAYER INSULATION ADHESIVE - 特許庁

層間絶縁膜のドライエッチング方法例文帳に追加

DRY ETCHING METHOD OF INTERLAYER INSULATION FILM - 特許庁

そして、全面に第２の層間絶縁膜を形成する。例文帳に追加

Then a second inter-layer insulation film is formed over the whole surface. - 特許庁

層間絶縁膜の形成方法、及び半導体装置例文帳に追加

FORMATION OF INTERLAYER INSULATING FILM AND SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁