例文 (999件) |
0.2を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 2993件
The protruding length of the eave portion 207 is ≥0.2 times as the wavelength of the exposure light.例文帳に追加
庇部207の張り出す長さは露光光の波長の0.2倍以上である。 - 特許庁
Fibers having ≥3 μm length and ≥0.2 μm thickness are used.例文帳に追加
前記繊維として、長さが3μm以上で太さが0.2μm以上のものを使用する。 - 特許庁
The friction coefficient of the aluminum sheet for forming is ≤0.2, and its surface resistance value is ≤10 Ω.例文帳に追加
この成形用アルミニウム板の摩擦係数は0.2以下、表面抵抗値は10Ω以下である。 - 特許庁
The amount of the reduced water content (evaporated water quantity) is preferably controlled to 0.2 to 2.0%.例文帳に追加
前記水分の減少(水分蒸発量)を0.2〜2.0%とするのが望ましい。 - 特許庁
HIGH CORROSION-RESISTANCE TITANIUM ALLOY LARGE IN 0.2%-PROOF STRESS IN ROLLING DIRECTION, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
圧延方向の0.2%耐力が大きい高耐食チタン合金とその製造方法 - 特許庁
The magnetoresistance element is made from a polycrystalline La1-xSrxMnO3 thin film 2 (0.2<x<1).例文帳に追加
多結晶性La_1−xSr_xMnO_3薄膜(但し、0.2<x<1)2から成るようにする。 - 特許庁
Further, a 0.001 to 0.2 mass% higher fatty acid based lubricant may be added thereto.例文帳に追加
更に、高級脂肪酸系潤滑剤を0.001〜0.2質量%加えてもよい。 - 特許庁
Here, the expanded graphite is to be contained by 0.2 to 3.0 mass percent to the red lead.例文帳に追加
ここで、鉛粉に対して、膨張化黒鉛を0.2〜3.0質量%含有させるようにする。 - 特許庁
The most intensive diffraction peaks are observed at 10.5; 18.0; 18.4; 19.4; 21.1; 21.7; 22.9; 23.3; 27.1; 31.6±0.2° by 2θ.例文帳に追加
最も強い回折ピークが、2θで10.5;18.0;18.4;19.4;21.1;21.7;22.9;23.3;27.1;31.6±0.2°に見られる。 - 特許庁
This is because the three distances D2 are about 0.2 mm and less than the distance D1.例文帳に追加
これは、3つの間隔D_2が間隔D_1よりも小さくて0.2mm程度となっているからである。 - 特許庁
Also, the depth of the recessed part constituting the design part 6 is ≥0.2 mm and <0.5 mm.例文帳に追加
また、該意匠部6を構成する凹部の深さは、0.2mm以上0.5mm未満である。 - 特許庁
The molding material 1 with 0.001 to 0.2 MPa elastic threshold stress is used.例文帳に追加
上記成形材料1として弾性限界応力が0.001〜0.2MPaであるものを用いる。 - 特許庁
That is, (1) 5<f_3/f<100, (2) n_d(n)-n_d(p)<0.2 and (3) ν(p)-ν(n)>35.例文帳に追加
(1) 5<f_3/f<100 (2) n_d(n)−n_d(p)<0.2 (3) ν(p)−ν(n)>35 - 特許庁
Saturation magnetic flux density Bs in the soft magnetic composite material is 0.2-0.8 T, and the relative permeability μ is less than 5.5.例文帳に追加
この軟磁性複合材料の飽和磁束密度Bsが0.2〜0.8Tで、比透磁率μが5.5未満である。 - 特許庁
The range of x in the general formula is preferably 0.2≤x≤0.8.例文帳に追加
前記一般式中のxの範囲が、0.2≦x≦0.8であることが好ましい。 - 特許庁
Preferably, the leakage flux is ≤0.2 T, and the range of the sputtering gas pressure is 0.1-0.3 Pa.例文帳に追加
好ましくは、漏洩磁束を0.2T以下とし、スパッタガス圧の範囲を0.1〜0.3Paとする。 - 特許庁
By this method, the thin Co_3Ti sheet of e.g. 0.015 to 0.2 mm thickness can be manufactured.例文帳に追加
この方法によって、例えば厚さ0.015〜0.2mmのCo_3Ti薄板を作製することができる。 - 特許庁
A radius of curvature R of at least one travel fringe 27 is smaller than 0.2 mm.例文帳に追加
本発明では少なくとも一つの移行縁27の曲率半径Rを0.2mmより小さくする。 - 特許庁
This precipitated silicic acid has 0.2 to 5.0 wt.% Al2O3 content and <3.4 wk ratio.例文帳に追加
0.2〜5.0重量%のAl_2O_3含有率及び3.4未満のwk−率有する沈降ケイ酸。 - 特許庁
The content of impurities in aluminum is preferably lower than 0.2 wt.%.例文帳に追加
該アルミニウムの不純物含有量は、0.2%未満であることが好ましい。 - 特許庁
It is preferable that the curvature radius (r) of the curved surface is 0.05 to 0.2 mm.例文帳に追加
前記曲面の曲率半径(r)は0.05〜0.2mmであることが好ましい。 - 特許庁
(2) 0.47<d_2/(d_1+d_2+d_3)<0.58, and (3) 0.2<d_6/d_8<0.46 are met.例文帳に追加
(1) 0.35<d_2/f<1.5 (2) 0.47<d_2/(d_1+d_2+d_3)<0.58 (3) 0.2<d_6/d_8<0.46 - 特許庁
If necessary, phosphorus is pref. added in an amt. of 0.2-3.5 wt.%.例文帳に追加
また、必要に応じて、0.2 重量%≦P ≦3.5 重量%のリンを添加するのが好ましい。 - 特許庁
The silver powder obtained by the method has a grain size distribution ranging from 0.2 to 3 μm.例文帳に追加
この方法により得られる銀粉は、粒径分布が0.2〜3μmの範囲にある。 - 特許庁
The formulae are (1):(acid number)/(hydroxyl number)≥1 and (2):(THF insoluble content (wt.%))/(softening point (°C))≤0.2.例文帳に追加
酸価/水酸基価≧1 ・・・式(1) THF不溶解分(重量%)/軟化点(℃)≦0.2 ・・・式(2) - 特許庁
For example, the thickness D_10 and the thickness D_11 are 1.2 mm and 1.0 mm, and the level difference is 0.2 mm.例文帳に追加
この厚みD_10,D_11は、例えば1.2mm,1.0mmで段差は0.2mmである。 - 特許庁
The frictional coefficient of the rubbing section of the rubbing body 7 to the paper surface is set to be in a range of 0.2 to 1.0.例文帳に追加
摩擦体7の摩擦部の紙面に対する摩擦係数を、0.2〜1.0の範囲に設定する。 - 特許庁
Radius of curvature R of the section of the outer edge part 65a is 0.05 mm or more and 0.2 mm or less.例文帳に追加
外縁部65aの断面の曲率半径Rが0.05mm以上でかつ0.2mm以下である。 - 特許庁
Preferably, the Mg content is 0.4 to 0.8%, and the Ge content is 0.2 to 0.4%.例文帳に追加
好ましくは、Mg:0.4〜0.8at%、Ge:0.2〜0.4at%である。 - 特許庁
The top of the knife edge is roundly chamfered within the range of R 0.2 to R 0.6 mm.例文帳に追加
ナイフエッジの頂部はR0.2〜R0.6mmの範囲内に曲面面取りされている。 - 特許庁
The thickness of this magnetic blade 161 along the rotational direction is between 0.2 mm and 0.4 mm inclusive.例文帳に追加
回転方向に沿う方向の磁性ブレード161の厚さは0.2mm以上0.4mm以下である。 - 特許庁
A difference between the reversing pressure A and the cleavage breaking pressure B is set to be 0.2 to 0.8 MPa.例文帳に追加
反転圧Aと開裂圧Bとの差は0.2〜0.8MPaに設定されている。 - 特許庁
The opening rate of pores 6 of a surface sheet 2 of the treating pad 1 should be 0.2% to 0.5%.例文帳に追加
治療パッド1の表面シート2の孔6の開口率を0.2%以上0.5%以下とする。 - 特許庁
The ratio (atomic ratio) of Ni to Cr (Ni/Cr) in the melt is ≤0.2.例文帳に追加
融液中のNiとCrとの割合(原子比)(Ni/Cr)は0.2以下である。 - 特許庁
When nickel is contained by 0.2 to 12%, reduction mass loss is 0.1 to 1.0%.例文帳に追加
Ni:0.2〜12%を含有する場合には、還元減量が0.1〜1.0%となるものである。 - 特許庁
A ratio B/A of an amplitude B to a period width A of roughness of the sidewall of a wiring groove is set to 0.2 and less.例文帳に追加
配線溝の側壁荒れの振幅Bと周期の幅Aとの比B/Aを0.2以下にする。 - 特許庁
The diamond particles 12 have an average particle diameter of 0.2-5 μm, and are dispersed in the rate of 0.05-10 parts by weight.例文帳に追加
ダイヤモンド粒子12は、平均粒径:0.2〜5μmであり、0.05〜10質量部の割合で分散している。 - 特許庁
The ratio a/b between the OFF time (a) and the ON time (b), is desirably controlled to ≥0.2.例文帳に追加
OFF時間(a)とON時間(b)の比は、a/bが0.2以上であることが望ましい。 - 特許庁
The plane orientation of the GaAs substrate 1 is tilted at ≥0.2° to <0.5° from (100) plane.例文帳に追加
上記GaAs基板1の面方位は、(100)面から0.2度以上0.5度未満かたむいている。 - 特許庁
The thickness of the impurities present on the substrate surface is controlled to ≤0.2 nm.例文帳に追加
基板表面に存在する不純物の厚さを0.2nm以下とすることにより、前記課題を解決する。 - 特許庁
The maximum peak height Rp of a rough curve in the axial directions of the orbital planes 1a, 2a is ≤0.2 μm.例文帳に追加
軌道面1a,2aの軸方向の粗さ曲線の最大山高さRpが0.2μm以下である。 - 特許庁
The ratio (x) of the added Ge is more preferably ≥0.02 and ≤0.2.例文帳に追加
また、上記Geの添加割合Xが0.02以上0.2以下であることが、より好ましい。 - 特許庁
The plate thickness (t) of the cage and a roller diameter ϕ satisfy the relationship of t/ϕ≥0.2, and ϕ≤2.例文帳に追加
保持器の板厚tと、ころ径φは、t/φ≧0.2,φ≦2の関係を満たす。 - 特許庁
A preferable amount of the carbon content is in the range of 0.2 mol% or more and 10 mol% or less.例文帳に追加
炭素の好ましい含有量は、0.2mol%以上10mol%以下の範囲である。 - 特許庁
This edible green tea is characterized by forming it as fine particles having ≤0.2 mm size.例文帳に追加
食用緑茶を0.2mm以下の大きさの細粒に形成した事を特徴とする。 - 特許庁
The formula (1) is represented by d≤0.46a^3-0.91a^2+0.60a+1.01, where a is within the range of 0.2<a<3.例文帳に追加
d≦0.46a^3−0.91a^2+0.60a+1.01……(1) (但し、0.2<a<3) - 特許庁
The length of the bottom side LO is set to 5 to 50 mm and the thickness T is set to 0.2 to 5.0 mm.例文帳に追加
底辺の長さL0は5〜50mm、厚さTは0.2〜5.0mmとした。 - 特許庁
Preferably, the ratio (M/K) of the thickness (M) of the plating layer to the thickness (K) of the hardened layer is controlled to 0.005 to 0.2.例文帳に追加
好ましくは、めっき層の厚さ(M)が硬化層の厚さ(K)との比(M/K)で0.005〜0.2とする。 - 特許庁
The second wiring layer 33 is soldered to the semiconductor device 50, and 0.2% proof stress has a second value.例文帳に追加
第2配線層33は、半導体装置50にはんだ付けされており、0.2%耐力が第2値である。 - 特許庁
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