MOSFETを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 2423件
SIMULATION OF MOSFET AND DEVICE例文帳に追加
MOSFETのシミュレーション方法及び装置 - 特許庁
Moreover, the circuit is provided with a circuit for compensating the output level of p-channel MOSFET 2(CMOS inverters 7, 8, p-channel MOSFET 9 and n-channel MOSFET 10) and the circuit for compensating the output level of n-channel MOSFET 5(n-channel MOSFET 11 and p-channel MOSFET 12).例文帳に追加
更に、上記pチャネルMOSFET2の出力レベル補償回路(CMOSインバータ7、8、pチャネルMOSFET9、及びnチャネルMOSFET10)と、nチャネルMOSFET5の出力レベル補償回路(nチャネルMOSFET11及びpチャネルMOSFET12)を設ける。 - 特許庁
The infrared sensor comprises a MOSFET sensor 3 and a current source MOSFET 5 which is connected to the MOSFET sensor 3 in series between a power source Vdd and a ground GND.例文帳に追加
電源VddとグランドGNDの間にセンサーMOSFET3と電流源MOSFET5が直列に接続されている。 - 特許庁
MOSFET DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THEREOF例文帳に追加
MOSFETデバイスおよびその製造方法 - 特許庁
SEMICONDUCTOR DEVICE WITH VERTICAL MOSFET STRUCTURE例文帳に追加
縦型MOSFET構造の半導体装置 - 特許庁
SEMICONDUCTOR DEVICE EQUIPPED WITH LONGITUDINAL MOSFET例文帳に追加
縦型MOSFETを備えた半導体装置 - 特許庁
The control circuit 106 turns on MOSFET 103 while MOSFET 101 is turned off.例文帳に追加
制御回路106は、MOSFET101をオフした状態で、MOSFET103をオンする。 - 特許庁
LATERAL MOSFET AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加
横型MOSFETおよびその製造方法 - 特許庁
The switching elements (31) each consist of an SiC-MOSFET as a unipolar element employing a wideband gap semiconductor.例文帳に追加
スイッチング素子(31)は、ワイドバンドギャップ半導体が用いられたユニポーラ素子であるSiC-MOSFETからなっている。 - 特許庁
To provide a thin body MOSFET with conducting surface channel extension portions and gate-controlled channel sidewalls.例文帳に追加
導電表面チャネル伸長部分とゲート制御チャネル側壁を有する薄体MOSFETを提供する。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING HYBRID MOSFET DEVICE AND HYBRID MOSFET OBTAINED BY THE METHOD例文帳に追加
ハイブリッドMOSFETデバイスの製造方法およびそれにより得られるハイブリッドMOSFET - 特許庁
A control circuit 3 controls on/off of the high-side MOSFET and the low-side MOSFET.例文帳に追加
制御回路3は、ハイサイドMOSFET及びローサイドMOSFETのオンオフを制御する。 - 特許庁
The signal, inputted to the source of the MOSFET 117 from the terminal 111, is amplified by the MOSFET 117.例文帳に追加
端子111からMOSFET117のソースに入力された信号は、MOSFET117により増幅される。 - 特許庁
CONTROL CIRCUIT OF MOSFET FOR SYNCHRONOUS RECTIFICATION例文帳に追加
同期整流用MOSFETの制御回路 - 特許庁
The MOSFET sensor 3 and the current source MOSFET 5 are the same conductivity type MOSFET, which operates in a subthreshold region.例文帳に追加
センサーMOSFET3及び電流源MOSFET5は同じ導電型のMOSFETからなり、かつサブスレッショルド領域で動作される。 - 特許庁
SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING VERTICAL MOSFET例文帳に追加
縦型MOSFETを有する半導体装置 - 特許庁
The semiconductor device 1a is a MOSFET.例文帳に追加
半導体装置1aはMOSFETである。 - 特許庁
A transistor(TR) 4 is inserted between the drain electrode of the MOSFET 3 and the gate electrode of the MOSFET 1.例文帳に追加
MOSFET3のドレイン電極とMOSFET1のゲート電極との間には、トランジスタ4が介挿されている。 - 特許庁
SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING THIN-LINE MOSFET例文帳に追加
細線状MOSFETを含む半導体装置 - 特許庁
SPIN MOSFET AND RECONFIGURABLE LOGIC CIRCUIT例文帳に追加
スピンMOSFETおよびリコンフィギャラブルロジック回路 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING MOSFET SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
MOSFET型半導体装置の製造方法 - 特許庁
TRENCH POWER MOSFET AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加
トレンチパワーMOSFETおよびその製造方法 - 特許庁
TRENCH TYPE MOSFET AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
トレンチ型MOSFET及びその製造方法 - 特許庁
To demonstrate the performance of a p-type MOSFET to the maximum extent while controlling the leakage current of an n-type MOSFET in a semiconductor device provided with the n-type MOSFET and the p-type MOSFET.例文帳に追加
N型MOSFETおよびP型MOSFETを備える半導体装置において、N型MOSFETのリーク電流を抑制しつつ、P型MOSFETの性能を最大限に発揮させる。 - 特許庁
HIGH-FREQUENCY MOSFET AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加
高周波MOSFET及びその製造方法 - 特許庁
TRENCH TYPE MOSFET AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加
トレンチ型MOSFET及びその製造方法 - 特許庁
ORGANIC MOSFET AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
有機電界効果トランジスタ及びその製造方法 - 特許庁
To provide a lateral trench power MOSFET with a constitution of the insulation characteristics between electrodes being high, the on resistance of the MOSFET is low, and moreover the switching characteristics of the MOSFET are displayed at a high speed.例文帳に追加
横型トレンチパワーMOSFETにおいて、電極間の絶縁性が高く、かつオン抵抗が低く、さらにスイッチング特性が高速であること。 - 特許庁
The source bias circuit part 402 has a MOSFET for bias and source potential of the MOSFET for bias is provided to source potential of the MOSFET for attenuation.例文帳に追加
ソースバイアス回路部402はバイアス用MOSFETを有し、バイアス用MOSFETのソース電位が減衰用MOSFETのソース電位に与えられる。 - 特許庁
DOUBLY DIFFUSED MOSFET AND ITS MANUFACTURE例文帳に追加
二重拡散MOSFET及びその製造方法 - 特許庁
MOSFET AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
MOSFETおよびMOSFETの製造方法 - 特許庁
VERTICAL POWER MOSFET AND ITS MANUFACTURE例文帳に追加
縦型パワーMOSFETおよびその製造方法 - 特許庁
The sub MOSFET 15 turns on when a reverse voltage is applied to the main MOSFET 14.例文帳に追加
副MOSFET15は主MOSFET14に逆方向電圧が印加された時にオンになる。 - 特許庁
The signal amplified by the MOSFET 117 is outputted from a terminal 113, connected to the drain of MOSFET 117.例文帳に追加
MOSFET117により増幅された信号が、MOSFET117のドレインに接続された端子113から出力される。 - 特許庁
The switching elements 130 each consist of an SiC-MOSFET as a unipolar element employing a wideband gap semiconductor.例文帳に追加
スイッチング素子(130)は、ワイドバンドギャップ半導体を用いたユニポーラ素子であるSiC-MOSFETによって構成されている。 - 特許庁
Furthermore, a threshold of the MOSFET for commutation is made higher than a threshold of the MOSFET for rectification.例文帳に追加
更に、転流用MOSFETのしきい値が整流用MOSFETのしきい値より高くする。 - 特許庁
The electrostatic protection device is provided with a MOSFET for a trigger and a MOSFET for high drive performance protection.例文帳に追加
静電保護装置はトリガー用MOSFETと駆動能力高い保護用MOSFETとを備える。 - 特許庁
HETERO INTEGRATION TYPE STRAINED SILICON N-TYPE MOSFET, P-TYPE MOSFET, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
ヘテロ集積型歪みシリコンn型MOSFET及びp型MOSFET及びその製造方法 - 特許庁
The gate terminal of the second MOSFET is applied with the same voltage as that of the gate terminal of the third MOSFET.例文帳に追加
第2MOSFETのゲート端子には、第3MOSFETのゲート端子と同じ電位が印加される。 - 特許庁
The memory cell comprises a spin-torque magnetization reversal layer and a tunnel magnetoresistance effect film on a C-MOSFET.例文帳に追加
C-MOSFET上にスピントルク磁化反転層とトンネル型磁気抵抗効果膜を備えることを特徴とする。 - 特許庁
MOSFET AND PROTECTIVE CIRCUIT DEVICE USING THAT例文帳に追加
MOSFETおよびそれを用いた保護回路装置 - 特許庁
LATERAL POWER MOSFET, AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME例文帳に追加
横型パワーMOSFETおよびその製造方法 - 特許庁
Moreover, the gate electrodes of a P-channel MOSFET and an N-channel MOSFET are formed, by using the source/drain forming mask of the P-channel MOSFET and the source/drain forming mask of the N-channel MOSFET respectively.例文帳に追加
さらに、Pチャネル型MOSFETとNチャネル型MOSFETのゲート電極を、PチャネルMOSFETのソースドレイン形成マスク、NチャネルMOSFETのソースドレイン形成マスクを用いて形成している。 - 特許庁
TRENCH POWER MOSFET AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
トレンチ型パワーMOSFET及びその製造方法 - 特許庁
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