「NON-STOICHIOMETRIC」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A tantalum nitride film formed by CVD, etc. in a temperature range of 200-400°C is thermally oxidized by the wet oxidizing method to form an insulation film, i.e., a tantalum oxide film having a laminate structure of a non-stoichiometric composition film, and a stoichiometric composition film having an amorphous structure.例文帳に追加

ウェット酸化法により２００〜４００℃の温度範囲でＣＶＤ法等を用いて成膜した窒化タンタル膜を熱酸化することにより、非化学量論的組成膜とアモルファス構造を有する化学量論的組成膜との積層構造を有する酸化タンタル膜を上記絶縁膜として形成する。 - 特許庁

Decomposition reaction is further progressed by reducing non-stoichiometric metal oxide with hydrogen produced by the decomposition of methane, and hydrogen and carbon dioxide are produced by feeding water vapor to the produced carbon to evade the precipitation of carbon.例文帳に追加

メタンの分解により生成した水素で不定比金属酸化物を還元することで分解反応をさらに進行させ、生成した炭素に水蒸気を供給することで水素と二酸化炭素を生成して炭素の析出を回避する。 - 特許庁

The matrix material for refractory comprises an oxide material composed of a (non)stoichiometric spinel single phase (magnesia-spinel single phase), and contains tetravalent oxides of ≥0.1 mass% and <1 mass% as a solid solution component.例文帳に追加

定比性または不定比性スピネル単相から構成される酸化物材料であって、４価酸化物を固溶成分として、０．１ｍａｓｓ％以上１ｍａｓｓ％未満含有するものを耐火材用マトリックス材に適応する。 - 特許庁

A methan feeding step wherein a methane-containing gas is fed to a catalytic layer consisting of a catalyst for methane decomposition reaction and non-stoichiometric metal oxide, and a water vapor feeding step wherein a water vapor-containing gas is fed are alternately performed.例文帳に追加

メタン分解反応用触媒と不定比金属酸化物とよりなる触媒層にメタンを含むガスを供給するメタン供給工程と、水蒸気を含むガスを供給する水蒸気供給工程とを交互に行う。 - 特許庁

In a stoichiometric mode at non-warming up of an engine and after warming up, the average value cfb-ave of a feedback correcting value is respectively learned as injection quantity deviation (SC6, 14).例文帳に追加

エンジン未暖機時と暖機後のストイキオモードで、それぞれフィードバック補正値cfbの平均値cfb_aveを噴射量偏差として学習する（ＳＣ６，１４）。 - 特許庁

The step of forming the non-magnetic intermediate layer (MgO) includes a step of forming a stoichiometric magnesium oxide film by performing high-frequency sputtering a magnesium oxide target under process gas pressure of 0.0400 to 26.66 Pa.例文帳に追加

非磁性中間層（ＭｇＯ）を成膜する工程は、酸化マグネシウムターゲットを０．０４００Ｐａ以上２６．６６Ｐａ以下の処理ガス圧力下で高周波スパッタすることにより、化学論量の酸化マグネシウム膜を成膜する工程を含む。 - 特許庁

A titanium screen having a coated film of non-stoichiometric compound titanium oxide which is formed by allowing metal titanium fine particles to collide with the titanium screen on impact at high speed in an inactive environment is used for a major component of the filter.例文帳に追加

２. 金属チタン微粒子を、不活性雰囲気で、高速でチタン製金網に衝撃的に衝突させて形成させた非化学量論化合物チタン酸化物が表層に被膜として形成させたチタン製金網をフィルターの主要構成部品として用いる。 - 特許庁

A resistive switching non-volatile memory element 1 is disclosed including a resistive switching metal-oxide layer 3 sandwiched between and in contact with a top electrode 4 and a bottom electrode 2, the resistive switching metal-oxide layer 3 having a substantially isotropic sub-stoichiometric metal-to-oxygen ratio.例文帳に追加

抵抗スイッチング不揮発性メモリ素子１は、上部電極４と下部電極２の間に挟まれて接触し、実質的に等方性で半化学量論的な金属と酸素の比を有する抵抗スイッチング金属酸化物層３を含む。 - 特許庁

On the other hand, different elements or different metal oxides with different valencies are added/solid-soluted into reduced titanium oxide and reduced zirconium oxide, so as to stabilize its structure, and also, the chemical composition thereof is made into a non-stoichiometric composition, so as to strengthen its interaction with infrared rays.例文帳に追加

また一方、還元酸化チタン及び還元酸化ジルコニウムに、原子価の異なる異種元素または異種金属酸化物を添加・固溶せしめて、その構造を安定化させ、かつ、その化学組成を、非化学量論組成にして、赤外線との相互作用を強くする。 - 特許庁

The piezoelectricity/electrostriction ceramic sintered compact comprises a non-lead piezoelectricity/electrostrictive material, wherein a defect has generated in which a ratio of at least one metal component of metal components which compose the non-lead piezoelectricity/electrostrictive material has shifted from a stoichiometric composition by at least 1% in a mole conversion, and a degree of orientation of a c-axis measured by a Lotgering method is at least 30%.例文帳に追加

圧電／電歪セラミックス焼結体は、非鉛圧電／電歪材料から構成されてなり、前記非鉛圧電／電歪材料を構成する金属成分のうちの少なくとも一種の金属成分の比率が化学量論組成からモル換算で１％以上ずれた欠陥を生じたものであるとともに、ロットゲーリング法により測定されるＣ軸の配向度が３０％以上である。 - 特許庁

To provide an inexpensive and practical metal oxide which has sufficient oxygen diffusion ability and oxygen non-stoichiometric property at 500°C or less, is excellent in chemical stability in an high temperature region in the vicinity of 600°C, and has an oxygen storage capability excellent as materials for an exhaust gas purifying catalyst, an oxygen storage material, an oxygen separator, an oxygen remover, an oxygen selector, an oxygen enricher, etc.例文帳に追加

５００℃以下で、充分な酸素拡散能及び酸素不定比性を有し、かつ、６００℃付近の高温域にて化学的安定性に優れ、排ガス浄化触媒、酸素貯蔵材料、酸素分離装置、酸素除去装置、酸素選択装置、酸素富化装置等の材料として優れた酸素貯蔵能を備える、安価で実用的な金属酸化物を提供する。 - 特許庁

A high luminance stress light-emitting material is a substance composed of at least one aluminate salt having a non-stoichiometric composition and having a lattice defect which emits light when the carrier having been excited by a mechanical energy returns to the ground state or a substance containing a rare earth metallic ion or a transition metallic ion as the center ion of the luminescence center in this host substance.例文帳に追加

非化学量論的組成を有するアルミン酸塩の少なくとも１種からなり、かつ機械的エネルギーによって励起されたキャリアーが基底状態に戻る際に発光する格子欠陥をもつ物質、又はこの母体物質中に希土類金属イオンや遷移金属イオンを発光中心の中心イオンとして含む物質からなる高輝度応力発光材料とする。 - 特許庁

The method for producing an oxide single crystal having a non-stoichiometric melt composition comprises a step of crystallizing an oxide single crystal 17 while impressing a DC electric field of ≥50 (kV/m) or an AC electric field of ≥50 (kV/m) effective value while applying ≥1,000 (Oe) magnetic field to a melt 5 being a raw material of the oxide single crystal 17.例文帳に追加

非一致溶融組成を有する酸化物単結晶の製造方法において、酸化物単結晶１７の原料である融液５に対し、５０（ｋＶ／ｍ）以上の直流の電場、又は、実効値が５０（ｋＶ／ｍ）以上の交流の電場と、１０００（Ｏｅ）以上の磁場を印加しながら酸化物単結晶１７の結晶化を行う工程を有する。 - 特許庁

and, as the non-film deposition period, the time required for allowing the composition of the thin film deposited during the film deposition period to reach the stoichiometric one is taken.例文帳に追加

ここで、基板上に薄膜を堆積させる成膜期間と、薄膜を堆積させない非成膜期間を交互に繰り返す成膜・非成膜手段１７を備え、この成膜・非成膜手段は、上記成膜期間として、１回辺りの成膜期間中に形成される膜厚が、自然酸化膜あるいは自然窒化膜の膜厚以下となる時間とし、上記非成膜期間は、上記成膜期間中に形成された薄膜が、化学量論的組成になるまでに要する時間となるようにしている。 - 特許庁