PAtterningを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 3921件
This lithography projection apparatus has an operation cycle including: a projection phase where the projection system projects a patterned beam on a target part of a substrate and the reticle stage 25 supports the patterning means 1; and an exchange phase where the patterning means is exchanged and the connection system positions the patterning means against the reticle stage.例文帳に追加
このリソグラフィ投影装置は、投影システムが、パターン化されたビームを基板のターゲット部分に投影するとともに、レチクル・ステージがパターン化手段を支えている投影フェーズと、パターン化手段を交換するとともに、結合システムがパターン化手段をレチクル・ステージに対して位置決めする交換フェーズとを含むオペレーション・サイクルを有する。 - 特許庁
A double-patterning process is used to integrate the contact plug 162 and the wiring line 168.例文帳に追加
コンタクトプラグ162と配線ライン168とを一体型に形成するためにダブルパターニング工程を用いる。 - 特許庁
To enable to carry out high-speed patterning of a transparent electrode without being accompanied by drainage treatment or the like.例文帳に追加
排液処理などを伴うことなく高速で透明電極のパターニングを行うことを可能にする。 - 特許庁
To provide a conductive film forming method capable of patterning into a prescribed shape precisely.例文帳に追加
所定の形状に精度よくパターニングすることができる導電膜の形成方法を提供することである。 - 特許庁
To provide a semiconductor device having high breakdown strength in which fine patterning and high speed operation of transistors are realized.例文帳に追加
トランジスタの微細化及び高速動作が可能で、且つ高耐圧な半導体装置を提供する。 - 特許庁
The projections 17 formed on the TFT side on the surface of the pixel electrode 12 are formed by patterning a novolac photoresist film.例文帳に追加
第1の突起物の側面の、第1の電極の表面に対する接触角は30°以上である。 - 特許庁
A lithography apparatus comprises an illumination system, patterning means, a substrate table, a projection system, a detector, and a controller.例文帳に追加
照射システムと、パターン化手段と、基板テーブルと、投影システムと、検出器と、制御器とから構成される。 - 特許庁
To provide a lithography device and a method for detecting contamination of a patterning device and removing contaminants.例文帳に追加
パターニングデバイスの汚染を検出し、汚染物質を除去するリソグラフィ装置および方法を提供する。 - 特許庁
To enable the patterning of a light emitting layer of an organic electroluminescent element with high precision without swelling a printing plate.例文帳に追加
印刷版の膨潤がなく、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層の高精細なパターニングを可能とする。 - 特許庁
After patterning is carried out the patterned amorphous silicon films are irradiated with a laser beam in a certain direction so as to turn to poly-crystal silicon films.例文帳に追加
パターニング後に、一方向にレーザ光を照射して結晶化し、多結晶シリコン膜を得る。 - 特許庁
The objective multistage structure, that is, a Fresnel lens is then formed by masking, patterning and etching.例文帳に追加
この後、マスキング、パターニング、およびエッチングの各手法を用いて、前記構造すなわちレンズが形成される。 - 特許庁
SYSTEM AND METHOD FOR PATTERNING MASTER DISK FOR NANOIMPRINTING PATTERNED MAGNETIC RECORDING DISK例文帳に追加
パターン化された磁気記録ディスクをナノインプリントするためのマスタ・ディスクをパターン化するためのシステム及び方法 - 特許庁
To provide lithography equipment constituted such that a pattern is transferred on a substrate from a patterning device.例文帳に追加
パターニング装置から基板上にパターンを転写するように構成されたリソグラフィ装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for forming a pattern for patterning a thin film by an easy low-cost apparatus configuration.例文帳に追加
簡易で低コストな装置構成により薄膜をパターニングできるパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
The patterning of the front electrode layer and the semiconductor layer is executed using a laser emitting infrared ray.例文帳に追加
前側電極層および半導体層のパターン加工が、赤外放射を発するレーザによって行われる。 - 特許庁
In the manufacturing method of optical waveguide, patterning of the core shapes is performed by irradiation with direct laser beams.例文帳に追加
コア形状のパターニングを、直接レーザー光の照射により行う光導波路の製造方法である。 - 特許庁
To provide a method for patterning a front-side electrode layer made of zinc oxide of a photovoltaic module.例文帳に追加
光起電モジュールの酸化亜鉛製の前側電極層をパターン加工するための方法を提供する。 - 特許庁
A light patterning system comprises an illumination system that supplies a beam of radiation having a certain wavelength λ.例文帳に追加
光パターニング・システムは、一定の波長λを有する放射ビームを供給する照明系を備える。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR ORGANIC LIGHT-EMITTING DIODE, SUBSTRATE OF ORGANIC LIGHT-EMITTING DIODE, AND METHOD OF PATTERNING SUBSTRATE例文帳に追加
有機発光ダイオード用感光性樹脂組成物、有機発光ダイオード基板及びそのパターン形成方法 - 特許庁
The halftone phase shift mask 20 is obtained by patterning the halftone phase shift mask blank 10.例文帳に追加
さらに、ハーフトーン型位相シフトマスクブランクス10をパターニング処理してハーフトーン型位相シフトマスク20を得る。 - 特許庁
The present invention includes a circuit board divided from the multiple patterning circuit board and a module that uses this circuit board.例文帳に追加
この多数個取り回路基板から分割された回路基板と、この回路基板を用いたモジュール。 - 特許庁
METHOD OF PATTERNING HARD-TO-ETCH MATERIAL FILM, AND INK JET HEAD USING THE SAME AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
難エッチング材料膜のパターン形成法、また、その膜を用いたインクジェットヘッドおよびその形成法 - 特許庁
METHOD AND MATERIAL FOR PATTERNING OF POLYMERIZABLE, AMORPHOUS MATRIX WITH ELECTRICALLY ACTIVE MATERIAL DISPOSED THEREIN例文帳に追加
電気活性材料が内部に配置された重合性非晶質母材のパターン化方法および材料 - 特許庁
METHOD AND DEVICE OF ORGANIC EL ELEMENT PATTERNING, MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC EL ELEMENT, AND ORGANIC EL ELEMENT例文帳に追加
有機EL素子のパターンニング方法及び装置、有機EL素子の作成方法、並びに、有機EL素子 - 特許庁
FLUORINE-CONTAINING COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING POLYMER, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS USING SAME例文帳に追加
含フッ素化合物、含フッ素高分子化合物、ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
TRANSPARENT ELECTRODE AND ITS PATTERNING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT USING THE SAME例文帳に追加
透明電極及び透明電極のパターニング方法及びそれを用いた半導体素子の製造方法 - 特許庁
The resist film 4 on the side faces 1c, 1d is exposed from the opening 8a to apply patterning to the resist film 4.例文帳に追加
開口8aから側面1c、1d上のレジスト膜4を露光し、レジスト膜4をパターニングする。 - 特許庁
Then, a photoresist film 18 is formed on the insulation film 16, and then the photoresist film 18 is subjected to patterning.例文帳に追加
続いて、絶縁膜16上にフォトレジスト膜18を成膜し、次いでフォトレジスト膜18をパターニングする。 - 特許庁
A microcapsule including an etching agent is disposed in a prescribed position on a surface of a substrate and patterning is performed.例文帳に追加
基板の表面上の所定部位に、エッチング剤を内包するマイクロカプセルを配してパターニングを行った。 - 特許庁
Formation of the contour shape and patterning of the electrode films of desired shapes are carried out by laser machining.例文帳に追加
輪郭形状形成、及び所望の形状の電極膜のパターン形成をレーザー加工によって行う。 - 特許庁
The bank structure 106b is obtained by performing patterning to the 2nd photoresist layer 106a by a back exposure system.例文帳に追加
背面露光方式により、第2フォトレジスト層106aをパターニングしてバンク構造106bにする。 - 特許庁
The lithographic device includes a lighting system adjusting radiation beams and a support supporting a patterning device.例文帳に追加
リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システム、及びパターニングデバイスを支持する支持体を含む。 - 特許庁
METAL OXIDE-CONTAINING FILM-FORMING COMPOSITION, METAL OXIDE-CONTAINING FILM-FORMED SUBSTRATE, AND PATTERNING PROCESS例文帳に追加
金属酸化物含有膜形成用組成物、金属酸化物含有膜形成基板及びパターン形成方法 - 特許庁
The patterning device is configured to pattern the beam of radiation according to a desired pattern.例文帳に追加
パターニングデバイスは、所望のパターンに従って放射線のビームにパターンを形成するように構成される。 - 特許庁
To obtain a method for patterning a resist which is capable of forming the patterns of finer semiconductor integrated circuits.例文帳に追加
さらに微細な半導体集積回路のパターンを形成することができるレジストのパターニング方法を得る。 - 特許庁
An island-like semiconductor film (sub-island) comprising a single island or a plurality of islands is formed by patterning.例文帳に追加
アイランドを単数または複数含む島状の半導体膜(サブアイランド)をパターニングによって形成する。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, PATTERN TRANSFER METHOD, TREATMENT DEVICE FOR PHOTOMASK SUBSTRATE, AND THIN FILM PATTERNING METHOD例文帳に追加
フォトマスクの製造方法、パターン転写方法、フォトマスク基板用処理装置、及び薄膜パターニング方法 - 特許庁
LAMINATE FOR PRINTED WIRING BOARD, PATTERNING METHOD OF MULTILAYER METAL WIRING EMPLOYING IT, AND METAL THIN FILM例文帳に追加
プリント配線板用積層体、それを用いた多層金属配線パターン形成方法及び金属薄膜 - 特許庁
This lithography device comprises a patterning device MA for giving a pattern onto the section of a beam of radiation to form a patterned beam of radiation, a washing unit CU positioned to wash the patterning device MA on that place, and/or a detection unit positioned to detect patterning device contamination on the moment.例文帳に追加
リソグラフィ装置は、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン化された放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを含み、パターニングデバイスをその場で洗浄するように配置構成された洗浄ユニットおよび/またはパターニングデバイスの汚染物をその場で検出するように配置構成された検出ユニットも含む。 - 特許庁
Related to the core, a thin plate of a core material (magnetic body) is bonded to the separate substrate through a junction material, for patterning.例文帳に追加
コアは別基板に接合材を介してコア材(磁性体)の薄板を付着させて、パターニングする。 - 特許庁
A lithography apparatus comprises an illumination system which adjusts a radiation beam, and a support which supports a patterning device.例文帳に追加
リソグラフィ装置が、放射ビームを調整する照明システムと、パターニングデバイスを支持するサポートとを備える。 - 特許庁
Disconnection of wiring is prevented by patterning the wiring on the surface where no tensile stress is applied.例文帳に追加
引っ張り応力のかからない面で配線をパタニングすることで、配線の断線を防ぐことができる。 - 特許庁
The target area may be a transparent area of an aperture diaphragm and/or an operation area of a patterning device.例文帳に追加
目標エリアは絞りの透過領域及び/またはパターニング用デバイスの動作領域であってもよい。 - 特許庁
To precisely and easily determine the lighting condition of a reticle in a lithography step of patterning a substrate.例文帳に追加
基板をパターニングするリソグラフィ工程におけるレチクルの照明条件を高精度かつ容易に決定する。 - 特許庁
The lithography apparatus also includes the bending mechanism structured to add a bending torque to the clamped patterning device, and this bending mechanism has a force/torque actuator structured to cause a clamp force added to the patterning device by the support clamp to act on the clamped patterning device with virtually no reduction of the force.例文帳に追加
リソグラフィ装置はさらに、クランプされたパターニングデバイスに曲げトルクを加えるように構成された曲げ機構を有し、曲げ機構は支持クランプによってパターニングデバイスに加えられたクランプ力を実質的に減少させることなしにクランプされたパターニングデバイスに作用するよう構成された力/トルクアクチュエータを備える。 - 特許庁
To obtain a high sensitivity radiation sensitive composition having such a resolution as to enable very fine patterning.例文帳に追加
非常に微細なパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度な感放射線性組成物を得る。 - 特許庁
The patterning device can form patterned radiation beams by providing a pattern to the cross section of radiation beams.例文帳に追加
パターニングデバイスは、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができる。 - 特許庁
METHOD OF PATTERN TRANSCRIPTION, METHOD OF PATTERNING ON FABRIC, AND SHEET FOR PATTERN TRANSCRIPTION TO BE USED THEREFOR例文帳に追加
パターンの写し取り方法、布地へのパターン付け方法、およびそれに用いられるパターン写し取り用シート - 特許庁
The resonator may be provided at a slit in a shield between the patterning device stage and the projection system to suppress the transfer of acoustical vibration caused by e.g. the movement of the patterning device stage to the projection system.例文帳に追加
共振器は、音響振動(例えばパターニングデバイスステージの動きに起因する)の投影システムへの伝達を抑制するために、パターニングデバイスステージと投影システムとの間のシールド内のスリットに設けることができる。 - 特許庁
To provide an element manufacturing method for easily preparing a processing margin when patterning an element on a flexible substrate and patterning the element with high precision, and to provide a display device manufacturing method using the same.例文帳に追加
可撓性基板上に素子のパターニングを行う場合に加工マージンを容易にとることができ、高精度にパターニングを行うことができる素子の製造方法及びそれを用いた表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
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