「PAtterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

A patterning resist film 150 is formed thick on a first interlayer insulation film 140 so that it is used not only as a patterning mask but also as a barrier.例文帳に追加

第１層間絶縁膜１４０の上に形成されるパターニング用のレジスト膜１５０を厚く形成することにより、パターニング用のマスクとして利用するだけでなく、隔壁としても利用する。 - 特許庁

To provide a patterning formation method with which each area of a thin film made of specific photochromic compounds can be easily formed through patterning in a storage area of multiple recording.例文帳に追加

特定のフォトクロミック化合物から形成された薄膜の各領域を多重記録の記憶領域に簡便にパターニング形成することができるパターニング形成方法を提供する。 - 特許庁

The device includes a clamp including a support constructed to support the patterning device or the substrate and a temperature control unit constructed to control the temperature of the patterning device or the substrate.例文帳に追加

装置は、パターニングデバイス又は基板を支持するように構成された支持部分、及びパターニングデバイス又は基板の温度を制御するように構成された温度制御部分を含むクランプを備える。 - 特許庁

A substrate glass for a photomask used for patterning the color filter is a large sized substrate glass welded on parts which are to be patterning parts of a color filter pattern with plural synthetic quartz glass substrates.例文帳に追加

カラーフィルタのパターニングに用いるフォトマスクの基板ガラスが、複数の合成石英ガラス基板により、カラーフィルタパターンのパターン部となる部分で溶接されてなる大型基板ガラスである。 - 特許庁

Lithographic apparatus includes a position controller for selectively pressurizing, at least one of sides of a patterning device M to control the position of the patterning device M in its planar direction.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、パターニングデバイスの側面の少なくとも１つに選択的に加圧することによって平面方向でパターニングデバイスの位置を制御するように構成された位置コントローラを含む。 - 特許庁

To provide a composition for treating a photoresist pattern to be used in a double patterning process in photolithographic patterning techniques such as lithography-lithography-etching and self-alignment spacer double patterning, and for a reduction process useful to form a contact hole and a groove.例文帳に追加

フォトリソグラフィパターニング技術、例えば、リソ−リソ−エッチおよび自己整合スペーサーダブルパターニングのようなダブルパターニングプロセスなどに、並びに、コンタクトホールおよび溝形成において有用な縮小プロセスに使用されうるフォトレジストパターンを処理するための組成物およびこの組成物を使用する方法を提供する。 - 特許庁

To facilitate patterning of a floating gate itself and to enable to improve patterning performance and to prevent reduction in wiring yields with respect to patterning of upper layers such as control gate electrode which are formed afterward.例文帳に追加

フローティングゲート電極そのもののパターニングを容易にすると共に、その後に形成されるコントロールゲート電極など上層のパターニングにおいても、パターニング性能の向上及び配線歩留まりの低下を防ぐことができる半導体記憶装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

During the step of removing the coating material from the patterning device, the temperature of the patterning device does not exceed a critical temperature causing damage to the patterning device, while maintaining a plasma etching rate of at least 0.2 μm/min, particularly 0.5 μm/min, particularly 1 μm/min, particularly 2.5 μm/min, particularly 5 μm/min.例文帳に追加

コーティング材料をパターニングデバイスから除去する工程中、パターニングデバイスの温度はパターニングデバイスに損傷を生じさせる臨界温度を超えず、プラズマエッチング速度は少なくとも０．２μｍ／分、特には０．５μｍ／分、特には１μｍ／分、特には２．５μｍ／分、特には５μｍ／分で維持される。 - 特許庁

The electrode arrangement structure of the LCD is equipped with a comb-shaped common electrode 14 formed by patterning a bottom-metal layer, a comb-shaped pixel electrode 26 formed by patterning an inter-metal layer, and a connecting layer 38 formed by patterning a top-metal layer.例文帳に追加

ＬＣＤの電極配列構造は、底部金属層をパターン化することにより形成されたくし型コモン電極１４と、中間金属層をパターン化することにより形成されたくし型画素電極２６と、頂部金属層をパターン化することにより形成された接続層３８とを備える。 - 特許庁

To improve the reliability of the calculation of a double patterning overlay error.例文帳に追加

試験構造を有する基板上のダブルパターニング・オーバレイ誤差の計算の信頼性を改良する。 - 特許庁

To provide a bismuth-based lead-free glass for which the deterioration of patterning accuracy is suppressed.例文帳に追加

パターニング精度の低下が抑制されたビスマス系無鉛ガラスを提供することを課題としている。 - 特許庁

The process decides on the width of an ink supply port by the patterning of the surface of the silicon.例文帳に追加

この製法により、インク供給口の幅は、シリコン表面のパターンニングによって決定される。 - 特許庁

To improve a high-resolution direct patterning technology in which ink is transferred onto a substrate using a nanoscopic chip.例文帳に追加

ナノスコーピックチップを用いてインクが基板に移される高解像直接パターニング技術の改良。 - 特許庁

Curing processing is not necessary, as in the case where a resist is used for a protective layer, and patterning is facilitated.例文帳に追加

レジストを保護層とする場合のように硬化処理を必要とせず、パターニングも簡単である。 - 特許庁

To provide a pattern forming method with which patterning with a high aspect ratio and high precision can be made possible.例文帳に追加

高アスペクト比かつ高精度のパターン加工を可能にするパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A patterning process of the ITO on the lower part electrode 13 can be eliminated.例文帳に追加

本発明によって下部電極１３上のＩＴＯのパタニング工程を無くすことが出来る。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an element with high patterning accuracy having no adverse effect on a substrate.例文帳に追加

基板に悪影響を与えず、また、パターニング精度の高い素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Part of a semiconductor film left on a substrate after patterning is grasped according to a mask.例文帳に追加

半導体膜のうち、パターニング後に基板上に残される部分をマスクに従って把握する。 - 特許庁

The exposure apparatus comprises: an illumination optical system; a patterning device; a substrate table; and a projection optical system.例文帳に追加

露光装置は、照明光学系と、パターニング用デバイスと、基板テーブルと、投影光学系を備える。 - 特許庁

A support structure for positioning an exchangeable object (e.g., patterning device) in a lithographic apparatus is provided.例文帳に追加

リソグラフィ装置内の交換可能な物体（例えば、パターニングデバイス）を位置決めするサポート構造。 - 特許庁

The present invention provides also a patterning method for the monomolecular film using the control method.例文帳に追加

また、本発明は、前記制御方法を用いる単分子膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a single side lamination wiring board exhibiting an excellent patterning precision while suppressing warp.例文帳に追加

反りが少なくてパターン形成精度に優れた片面積層配線基板を提供すること。 - 特許庁

Photolithography is used for patterning a PTZ piezoelectric sintered compact layer 54 on a substrate.例文帳に追加

基板上のＰＺＴ圧電焼結体層５４をパターニングするにあたって、フォトリソグラフィを使用する。 - 特許庁

To provide a patterning method in which occurrence of poor processing of a wafer can be prevented.例文帳に追加

基板への処理不良の発生を防止することが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This device 10 involves at least one sensor element 24 formed with direct patterning method.例文帳に追加

本装置（１０）は、直接描画法によって形成された少なくとも１つのセンサ素子（２４）を含む。 - 特許庁

To enable optical patterning of a thin film, having affinity for a biomaterial under mild reaction conditions.例文帳に追加

温和な反応条件下、生体物質に親和性がある薄膜の光パターニングを可能とする。 - 特許庁

To provide a curable composition for imprint excellent in mold releasability and resistance to repetitive patterning.例文帳に追加

離型性と繰り返しパターニング耐性に優れたインプリント用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR PATTERNING FUNCTIONAL FILM, ELECTROMAGNETIC WAVE IRRADIATOR, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

機能性膜パターン形成装置、機能性膜パターン形成方法、電磁波照射装置、および電子機器 - 特許庁

After this patterning, a polymer brush 516 is produced in a desired area on the surface of the slider.例文帳に追加

このパターニングの後で、スライダー表面の望まれる領域にポリマー・ブラシ５１６が作製される。 - 特許庁

APPARATUS FOR PATTERNING-COATING CONCRETE BOARD AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERNED AND COLORED CONCRETE BOARD例文帳に追加

コンクリート板の模様付け塗装装置、並びに模様及び色彩付きコンクリート板の製造方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD USING PHOTOSENSITIVE TRANSFER MATERIAL, PATTERNING SUBSTRATE, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加

感光性転写材料を用いたパターン形成方法、パターニング基板及び液晶表示装置 - 特許庁

To inexpensively perform accurate patterning without the selection of a coating material by using a simple constitution.例文帳に追加

簡単な構成で、塗布材料を選ばす、精度のよいパターニングを安価に行うことが可能とする。 - 特許庁

As a patterning layer 4, an aluminum vapor deposition layer with a thickness of 600 Å is formed.例文帳に追加

絵付け層４として膜厚６００Åのアルミニウムからなる蒸着層を形成した。 - 特許庁

PATTERNING METHOD AND ORIGINAL MASK FOR PROXIMITY EXPOSURE TO BE USED FOR THE METHOD, AND COLOR FILTER SUBSTRATE例文帳に追加

パターンニング方法とこれに用いられる近接露光用の原版マスク、およびカラーフィルタ基板 - 特許庁

To provide a new pattern forming method by which the number of steps in a double patterning method can be reduced.例文帳に追加

ダブルパターニング法における工程数を低減できる新規なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the patterning process of a TFT array substrate for a liquid crystal display device, the substrate is subjected to division exposure.例文帳に追加

液晶表示装置のＴＦＴアレイ基板のパターニングにおいて、基板は分割露光される。 - 特許庁

PATTERNING METHOD FOR INSULATING LAYER, INSULATING LAYER MANUFACTURED BY THE SAME METHOD AND DISPLAY ELEMENT COMPRISING IT例文帳に追加

絶縁層のパターニング方法、該方法によって製造された絶縁層及びそれを含む表示素子 - 特許庁

The lithography apparatus is constituted such that a pattern is transferred from a patterning device to a substrate.例文帳に追加

パターン化デバイスから基板上にパターンを転写するように構成されたリソグラフィ装置である。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electronic device having high reliability and capable of highly accurate patterning.例文帳に追加

信頼性が高く、高精度なパターニングが可能な電子デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

The portion retained on the substrate after patterning of a semiconductor film is grasped according to a mask.例文帳に追加

半導体膜のうち、パターニング後に基板上に残される部分をマスクに従って把握する。 - 特許庁

METHOD FOR PATTERNING CONDUCTIVE FILM, PROCESS FOR FABRICATING DEVICE, AND PROCESS FOR MANUFACTURING DROPLET EJECTION HEAD例文帳に追加

導電膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法、及び液滴吐出ヘッドの製造方法 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition to which the patterning can be performed and which exhibits adhesiveness even after hardening.例文帳に追加

パターニングが可能で硬化後も粘着性を示す感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The apparatus and method comprise a projection system, a patterning device, a low-pass filter, and a data manipulation device.例文帳に追加

装置及び方法は、投影システム、パターン形成装置、ローパス・フィルタ、及びデータ操作装置を含む。 - 特許庁

To obtain a semiconductor storage device having a layout structure that the patterning of memory cells can be performed in a highly controllable state.例文帳に追加

メモリセルのパターニング制御性が良いレイアウト構造を有する半導体記憶装置を得る。 - 特許庁

A lower layer pattern 12a is formed by patterning the lower layer 12 by using the intermediate layer pattern 13a as a mask.例文帳に追加

この中間層パターンをマスクとして下層がパターニングされ、下層パターン１２ａが形成される。 - 特許庁