PAtterningを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 3921件
To provide a system and a method that does not limit performance of a dynamic patterning device based upon the restrictions in which generated pattern data are applied to only a static patterning device.例文帳に追加
生成されるパターンデータが、スタティックパターニング装置にのみ適用される制約に基づいてダイナミックパターニング装置の性能を制限しないシステムおよび方法を提供すること。 - 特許庁
METHOD OF PATTERNING NANOWIRE ON SURFACE OF SUBSTRATE USING NEW SACRIFICIAL LAYER MATERIAL例文帳に追加
新規の犠牲層材料を利用した基板の表面でのナノワイヤのパターニング方法 - 特許庁
To qualitatively and/or quantitatively evaluate multiple patterning lithographic processing.例文帳に追加
多重パターニングリソグラフプロセスについての定性的及び/又は定量的な評価を得る。 - 特許庁
To continuously execute mask vapor deposition of a metal layer while performing patterning to a roll-like substrate.例文帳に追加
ロール状の基板にパターニングしながら金属層を継続してマスク蒸着する。 - 特許庁
LITHOGRAPHY DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD USING COMPENSATION SCHEME FOR PATTERNING ARRAY例文帳に追加
パターニング用アレイの補償スキームを使用するリソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - 特許庁
PATTERNING METHOD OF TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM AND TRANSPARENT CONDUCTIVE PATTERN FILM OBTAINED BY THE SAME METHOD例文帳に追加
透明導電膜のパターニング方法及び該方法による透明導電パターン膜 - 特許庁
To provide a donor substrate that can be used for precise patterning of conductive particles.例文帳に追加
導電性粒子の精密パターニングに使われうるドナー基材を提供すること。 - 特許庁
The lithography apparatus has an alignment system for aligning a patterning device with a substrate.例文帳に追加
リソグラフィ装置はパターニングデバイスを基板と位置合わせするアラインメントシステムを備える。 - 特許庁
PATTERNING METHOD, PRODUCING METHOD FOR THIN FILM DEVICE AND PRODUCING METHOD FOR THIN FILM MAGNETIC HEAD例文帳に追加
パターニング方法、薄膜デバイスの製造方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁
After patterning, a conformal insulating layer 23 is formed.例文帳に追加
パターニング後、センサ積層体の側壁33に沿って、共形の絶縁層23を形成する。 - 特許庁
METHOD FOR PATTERNING VEHICLE PROTECTIVE FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING VEHICLE PROTECTIVE FILM例文帳に追加
車両用保護フィルムの型取り方法、及び、車両用保護フィルムの製造方法 - 特許庁
HYDROXY-CONTAINING MONOMER, POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND PATTERNING METHOD例文帳に追加
水酸基を有する単量体、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
MASK FORMING METHOD, PATTERNING METHOD FOR THIN FILM AND MANUFACTURING METHOD OF MICRO DEVICE例文帳に追加
マスク形成方法、パターン化薄膜形成方法およびマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁
POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS USING THE SAME例文帳に追加
高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
CALIBRATION METHOD, LITHOGRAPHY DEVICE, AND PATTERNING DEVICE FOR LITHOGRAPHY DEVICE LIKE THAT例文帳に追加
キャリブレーション方法、リソグラフィ装置、およびそのようなリソグラフィ装置のためのパターニングデバイス - 特許庁
METHOD OF PATTERNING GATE STACK OF NON-VOLATILE MEMORY WITH FORMATION OF CAPACITOR例文帳に追加
キャパシタの形成とともに不揮発性メモリのゲートスタックをパターニングするための方法 - 特許庁
EJECTING METHOD OF DISPENSER FOR HIGH VISCOSITY SUBSTANCE AND PATTERNING METHOD EMPLOYING IT例文帳に追加
高粘度物質用ディスペンサーの吐出方法及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
To provide a liquid phase etching apparatus fast in etching processing speed and capable of fine patterning.例文帳に追加
加工速度が速く微細加工の可能な液相エッチング装置を提供する。 - 特許庁
Next, the patterning of the reflection preventing film is carried out by etching employing fluorine series gas.例文帳に追加
次に、フッ素系ガスを用いたエッチングにより反射防止膜のパターニングを行う。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING MASK PATTERN, METHOD FOR PATTERNING THIN FILM AND METHOD FOR PRODUCING MICRO DEVICE例文帳に追加
マスクパターンの作製方法、薄膜のパターニング方法、及びマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁
A plurality of hollow parts 3 are formed by patterning the high conductivity layer 2.例文帳に追加
そして、高導電層2をパターン形成して複数の中空部3を形成する。 - 特許庁
To provide an improved multi-exposure patterning technology and/or a lithographic apparatus.例文帳に追加
改良された多重露光パターニング技術、及び/またはリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method of forming a fine pattern employing self-aligned double patterning.例文帳に追加
自己整列されたダブルパターニングを採用する微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a stamp for use in a lithographic process such as patterning the surface layer.例文帳に追加
表面層をパターン化する等のリソグラフィプロセスに使用するスタンプを提供する。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING MASK, METHOD FOR FORMING PATTERNING THIN FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING MICRODEVICE例文帳に追加
マスク形成方法、パターン化薄膜形成方法およびマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR FLATTENING/HARDENING INK IN APERTURE OF PATTERNING SUBSTRATE, AND FLATTENING/HARDENING DEVICE例文帳に追加
パターンニング基板の開口部におけるインキ平坦固化方法及び平坦固化装置 - 特許庁
To prevent the decrease in the patterning accuracy when forming unevenness on a surface of a wafer.例文帳に追加
ウェーハの表面に凹凸を形成する際、パターニングの精度の低下を防止する。 - 特許庁
ETCHANT FOR ZINC OXIDE BASED THIN-FILM, AND METHOD FOR PATTERNING ZINC OXIDE BASED THIN-FILM例文帳に追加
酸化亜鉛系薄膜用エッチャント及び酸化亜鉛系薄膜のパターニング方法 - 特許庁
METHOD OF LASER PATTERNING PATTERN-SHAPED THIN FILM OF THIN-FILM SOLAR CELL OR THE LIKE例文帳に追加
薄膜太陽電池等のパタ—ン状薄膜層のレ—ザパタ—ニング方法および装置 - 特許庁
The supporting structures surrounding the first electrodes are formed by patterning the supporting substance layer.例文帳に追加
支持物質層をパターニングして、第1電極を囲む支持構造物を形成する。 - 特許庁
IMMERSION LITHOGRAPHY SYSTEM AND IMMERSION PHOTOLITHOGRAPHY PATTERNING METHOD FOR SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT例文帳に追加
液浸リソグラフィシステムおよび半導体集積回路の液浸フォトリソグラフィパターニング方法 - 特許庁
METHOD OF PATTERNING RESIST, METHOD OF MANUFACTURING INK JET PRINT HEAD, AND PATTERNED RESIST例文帳に追加
レジストのパターニング方法、インクジェットプリントヘッドの製造方法、及びパターニングされたレジスト - 特許庁
METHOD OF FORMING OXIDE FILM PATTERN AND PATTERNING METHOD FOR SEMICONDUCTOR ELEMENT USING IT例文帳に追加
酸化膜パターンの形成方法及びこれを用いた半導体素子のパターニング方法 - 特許庁
To provide a method for patterning carbon nanotubes without damaging them.例文帳に追加
カーボンナノチューブの損傷なしにこれをパターニングすることができる方法を提供する。 - 特許庁
The film 110 is subjected to patterning, thus obtaining a semiconductor layer 111 of a semiconductor device.例文帳に追加
この膜110をパターニングして、半導体装置の半導体層111を得る。 - 特許庁
PATTERNING METHOD, ORGANIC ELECTRIC ELEMENT, ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT, AND ORGANIC SEMICONDUCTOR TRANSISTOR例文帳に追加
パターニング方法、有機電気素子、有機電界発光素子、及び有機半導体トランジスタ - 特許庁
POLYORGANOSILOXANE COMPOUND, RESIN COMPOSITION COMPRISING THE SAME, AND PATTERNING PROCESS OF THESE例文帳に追加
ポリオルガノシロキサン化合物、これを含む樹脂組成物及びこれらのパターン形成方法 - 特許庁
A second Schottky barrier electrode 30b is formed by the patterning method or the like.例文帳に追加
そして、パタニング法等により、第二のショットキー障壁電極30bを形成する。 - 特許庁
By patterning the polycrystal silicon film thereafter, a gate electrode 5 is formed.例文帳に追加
その後、多結晶シリコン膜をパターニングすることにより、ゲート電極5を形成する。 - 特許庁
To perform stable patterning by eliminating a defect of a pinpoint in ink jet coating application.例文帳に追加
インクジェット塗布において、ピンポイントの不良をなくし、安定したパターニングを行う。 - 特許庁
The lithography apparatus patterns a projection beam of radiation by a patterning system.例文帳に追加
本リソグラフィ装置は、パターン形成システムにより放射投影ビームにパターンを付与する。 - 特許庁
POLYMERIZABLE MONOMER COMPOUND, PATTERNING METHOD, AND RESIST COMPOSITION USED IN THE METHOD例文帳に追加
重合性モノマー化合物、パターン形成方法並びにこれに用いるレジスト材料 - 特許庁
The mask 50 is placed tightly on the upper surface of a patterning work 40.例文帳に追加
マスク50は、パターンを形成するワーク40に上面に密着して配置される。 - 特許庁
PATTERNING METHOD OF THIN FILM, ELECTRONIC MATERIAL THIN FILM, AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DISPLAY例文帳に追加
薄膜のパターニング方法、電子材料薄膜、及び有機電界発光表示装置 - 特許庁
To provide a patterning retardation film that can improve an angle of visibility in the direction perpendicular to the patterning direction of the patterning retardation film when a liquid crystal display device and the patterning retardation film are used together to display a three-dimensional video by a polarized glasses mode; and to provide a video display system capable of performing effective shading.例文帳に追加
液晶表示装置とパターニング位相差フィルムを併用して偏光眼鏡方式で3D立体映像を表示するときに、該パターニング位相差フィルムのパターニング方向に直交する方向における視野角を改善することができるパターニング位相差フィルムおよび効果的な遮光ができる構成の映像表示システムを提供する。 - 特許庁
A lithographic apparatus has: a heater that is formed for supplying energy for heating a patterning device to the patterning device and for forming a predetermined thermal distortion pattern of the patterning device; and a controller that is formed for performing optical correction corresponding to the predetermined thermal distortion pattern in the device in order to reduce the influence of the thermal distortion of the patterning device on the pattern.例文帳に追加
パターニングデバイスを加熱するためのエネルギーをパターニングデバイスに供給し、パターニングデバイスの所望の熱ひずみパターンを形成するように構成されたヒータと、パターンに対するパターニングデバイスの熱ひずみの影響を小さくするために、所望の熱ひずみパターンに対応する光学補正を装置内で実施するように構成されたコントローラとを有する。 - 特許庁
A masking layer is subjected to a patterning process so as to mask part of the metallic layer.例文帳に追加
金属層(18)の一部分をマスクするように、マスキング層(20)にパターニングを行う。 - 特許庁
To provide a patterning method and an aligner for patterning in which patterning can be performed on the surface of a basic body coated with photoresist material by exposure with no interference with foreign matters by removing foreign matters, e.g. dust, floating above the basic body, e.g. a substrate.例文帳に追加
基板等の基体の上方に浮遊するゴミ、チリ等の異物を排除して、該異物によって邪魔されることなく基体のフォトレジスト材料塗布面に露光によるパターニング処理を行えるパターン形成方法及びパターン形成のための露光装置を提供する。 - 特許庁
THIN FILM PATTERNING METHOD, METHOD OF MANUFACTURING THIN FILM DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THIN FILM MAGNETIC HEAD例文帳に追加
薄膜パターニング方法、薄膜デバイスの製造方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁
Then, as shown in figure (h), the patterning mask 7 is removed through, for example, wet etching.例文帳に追加
その後、たとえばウエットエッチングにより、図1(h) に示すように、パターニング用マスク7を除去する。 - 特許庁
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