「PAtterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目)

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PAtterningを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 3921件

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例文

To provide a processing method for patterning a thin film capable of providing a substrate which is less thermally damaged and has high quality at the patterning of the substrate constituted with the thin film of a thickness several μm or below on the substrate.例文帳に追加

基板上に厚さ数μｍ以下の薄膜が構成された基板に対してパターニングを行う際、熱ダメージが少なく品質の高い基板を提供することが可能な薄膜パターニング加工方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist treatment method by which a pattern obtained by a resist composition for first resist pattern formation is formed extreamely finely and highly precisely in a multiple patterning process such as a double patterning process.例文帳に追加

ダブルパターニング法等のマルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a patterning method for forming a predetermined resist pattern uniformly and stably even on a substrate having a hydrophobic surface because of immersion exposure, and to provide a patterning device for use therein.例文帳に追加

液浸露光のために基板表面が疎水性である基板であっても、所定のレジストパターンを均一に安定して形成することができるパターン形成方法およびそれに用いられるパターン形成装置を提供すること。 - 特許庁

A first conductive layer is patterned in preparation for a subsequent patterning step which includes a step of patterning both the first conductive layer and the second conductive layer in both the NVM region and the capacitor region.例文帳に追加

第１導電体層は後のパターニングステップの準備にパターニングされ、これが、ＮＶＭ領域およびキャパシタ領域の両方に第１導電体層および第２導電体層の両方をパターニングするステップを含む。 - 特許庁

例文

To provide a resist treatment method that, in a multi-patterning method such as a double patterning method, can very finely and highly accurately form a pattern obtained by a resist composition for first resist pattern formation.例文帳に追加

例文

An organic EL material, which has been considered impossible to make patterning, is formed and arranged by an ink-jet method to enable arbitrarily patterning an organic luminescent layer having red, green and blue luminous colors on each pixel.例文帳に追加

従来、パターニングができないとされた有機ＥＬ材料をインクジェット方式により形成および配列することで、赤、緑、青の発光色を備える有機発光層を画素毎に任意にパターニングすることが可能となった。 - 特許庁

In the manufacturing method of the optical element with a plurality of metal wire grids provided on a substrate, the metal wire grids are manufactured according to an LSP (Liquid Self-patterning Process).例文帳に追加

本発明は、基板上に複数の金属ワイヤグリッドを備えた光学素子の製造方法であって、前記金属ワイヤグリッドを、ＬＳＰ(Liquid Self-patterning Process)で作製することを特徴とする光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive substrate that allows easy and accurate patterning while allowing the easy and accurate alloying of dissimilar metals after the patterning, a semiconductor element using the same, and methods for manufacturing each of them.例文帳に追加

容易且つ正確にパターニングが行えると共にそのパターニング後に容易且つ正確に異種金属の合金化を行うことができる導電性基板とそれを用いた半導体素子、それらの製造方法を提供する。 - 特許庁

The pixel TFT formed on a pixel region is formed on a substrate by a reverse stagger type TFT of a channel etching type, and patterning of a source region and a drain region and patterning of a pixel electrode are executed using the same photomask.例文帳に追加

画素領域に形成する画素ＴＦＴをチャネルエッチ型の逆スタガ型ＴＦＴで基板上に形成し、ソース領域及びドレイン領域のパターニングと画素電極のパターニングを同じフォトマスクで行う。 - 特許庁

例文

To provide a mask blank in which a halftone mask with high patterning accuracy can be formed by suppressing side etching of a light-shielding layer, and to provide a halftone mask having high patterning accuracy formed from the mask blank.例文帳に追加

遮光層のサイドエッチングを抑制することでパターニング精度の高いハーフトーンマスクを作成することが可能なマスクブランクス及び当該マスクブランクスから形成されるパターニング精度の高いハーフトーンマスクを提供すること - 特許庁

例文

To provide a system and a method for directing a radiation beam to illuminate a patterning array in a direction other than a vertical direction of individually controllable elements used for patterning the radiation beam.例文帳に追加

放射線ビームをパターン化するために使用する個々に制御可能な素子のパターニング・アレイを垂直でない方向に照明するため放射線ビームを向けるのに使用するシステムおよび方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a novel patterning technology capable of inexpensively and easily patterning a piezoelectric film without need of expensive equipment, having excellent pattern shaping accuracy of the film and free from contamination during film formation.例文帳に追加

高価な装置を要することなく低コストに圧電体膜を容易にパターニングすることができ、圧電体膜のパターンの形状精度が良く、成膜時のコンタミネーションの問題がない新規なパターニング技術を提供する。 - 特許庁

To provide a resist processing method by which a pattern obtained by a resist composition for the formation of a first resist pattern is formed in an ultra-fine high-precision state, in a multiple patterning method such as a double patterning method.例文帳に追加

To provide a transparent conductive film which does not erode a supplemental electrode when patterning, disusing a complicated patterning process like photolithographic etching, and a manufacturing method of the same, and to provide an electroluminescent element using the same.例文帳に追加

フォトリソ・エッチングなどの複雑なパターニング工程が不要であり、また、パターニング時に補助電極を侵食しない透明導電性フィルム及びその製造方法、並びにそれを用いたエレクトロルミネッセンス素子を提供する。 - 特許庁

To provide a resist treatment method in which an ultrafine pattern having satisfactory accuracy is formed from a resist composition for the first resist pattern formation in a multi-patterning method such as a double patterning method.例文帳に追加

To realize stabilized and good patterning which prevents a molded article from quickly being pressurized and does not cause the stagnation of the material in patterning the molded article to be discharged from the discharge outlet of an extrusion molding die.例文帳に追加

押出成形用金型の吐出口から吐出される成形品に模様付けする際に、成形品が急速に加圧されるのを防止し、材料の滞りが生じず、安定した良好な模様付けを実現する。 - 特許庁

To provide a new positive photosensitive polyimide composition having a higher dissolution rate contrast than a conventional photosensitive polyimide composition and achieving high-definition patterning even the case of patterning in a thick film.例文帳に追加

溶解速度コントラストが公知の感光性ポリイミド組成物よりも大きく、厚膜のパターニングを行なった場合でも高精細のパターニングが達成できる、新規なポジ型感光性ポリイミド組成物を提供すること。 - 特許庁

As the transparent electrode 14 is formed in layer after forming and patterning of the auxiliary electrode 13 made of metal, the transparent electrode 14 is not affected by the etching liquid at the time of patterning of the auxiliary electrode 13.例文帳に追加

金属製の補助電極１３の成膜・パターニング後に、透明電極１４が成膜されるので、補助電極１３のパターニングの際にエッチング液によって透明電極１４まで侵されるおそれがない。 - 特許庁

To provide a patterning roll increased in the degree of freedom of the setting of a design to be transferred to a molded body and superior in durability, its manufacturing method and a method of manufacturing an inorganic molded body using the patterning roll.例文帳に追加

成形体に転写される意匠の設定の自由度を増大させて、耐久性に優れた模様付けロール及びその製造方法、模様付けロールを用いた無機成形体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of an element contains a plurality of patterning processes patterning a layer structuring an element on a flexible board 10 as well as forming alignment marks 16, 26 simultaneously, and further, a process patterning another layer selecting an alignment mark formed in some process in the above plurality of patterning processes based on the selected alignment mark when another layer structuring the element is patterned.例文帳に追加

可撓性基板１０上に素子を構成する層をパターニングすると同時にアライメントマーク１６，２６を形成するパターニング工程を複数回含み、さらに、前記素子を構成する別の層をパターニングするときに、前記複数回のパターニング工程において形成したアライメントマークのうち、いずれかの工程で形成したアライメントマークを選択し、該選択したアライメントマークに基づいて前記別の層のパターニングを行う工程を含むことを特徴とする素子の製造方法。 - 特許庁

To provide a silicon thin film formation method by the CVD method for eliminating the need for a patterning process after a thin film is formed.例文帳に追加