PLATENを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 4309件
The image reading method includes: a data acquisition step (S306) for acquiring first data with respect to a plurality of originals placed on an original platen; and a control step (S308) of controlling separate reading by each original on the basis of the first data and display of second data calculated by using the first data on a display means in reading of each original.例文帳に追加
画像読み取り方法であって、原稿台上に配置された複数の原稿に関する第１のデータを取得するデータ取得工程（Ｓ３０６）と、前記第１のデータに基づいて原稿毎の読み取りを別々に行うように制御するとともに前記各原稿の読み取りに伴って前記第１のデータを用いて演算した第２のデータを表示手段に表示させるよう制御する制御工程（Ｓ３０８）とを有する。 - 特許庁
A timing correction unit 24 operates the correction amount of ink discharge timing at the present position of the printing head through interpolating operation employing the operated ink discharge timing correction amount in a division including the present position of the printing head and a successive next division upon printing on a printing medium arranged on the platen while the ink discharge timing of the printing head is corrected employing the operated amount of correction.例文帳に追加
タイミング補正部２４は、プラテン上に配置された印刷媒体への印刷に際し、前記算出した、印刷ヘッドの現在位置を含む区間および当該区間に続く次の区間でのインク吐出タイミング補正量を用いて、印刷ヘッドの現在位置におけるインク吐出タイミング補正量を補間演算により算出し、当該算出した補正量を用いて印刷ヘッドのインク吐出タイミングを補正する。 - 特許庁
A disclosed retaining assembly for polishing a silicon wafer comprises a polishing platen which rotates with a polishing pad bonded thereon, a retainer ring which is disposed on the bottom of a polishing head rotating in the same direction and prevents a wafer from being separated during polishing, and a backing film bonded to one side of the retainer ring to support the wafer, wherein the backing film is made of different kinds of material.例文帳に追加
開示されたシリコンウエハ研磨用リテーニングアセンブリは、上面に研磨パッドが付着されて回転する研磨定盤と、同一方向に回転する研磨ヘッド底部に配置され、ウエハが研磨中に離脱することを防止するためのリテーナリングと、リテーナリングの一面に付着されてウエハを支持するバッキングフィルムを備えて成るシリコンウエハ研磨用リテーニングアセンブリにおいて、バッキングフィルムは異種の材質からなることを特徴とする。 - 特許庁
In a document reader having a scanning exposure reading system and a document moving and reading system, a first reference density sheet 151 for a first shading correction by the scanning exposure reading system is provided on a platen glass 11 and a second reference density sheet 152 for a second shading correction in the document moving and reading system is provided on a glass 12 for slit exposure.例文帳に追加
走査露光読み取り方式と、原稿移動読み取り方式とを有する原稿読み取り装置において、原稿台ガラス１１上に、走査露光読み取り方式での第１のシェーディング補正用の第１の基準濃度シート１５１を設けると共に、スリット露光用ガラス１２上に、前記原稿移動読み取り方式での第２のシェーディング補正用の第２の基準濃度シート１５２を設けた原稿読み取り装置。 - 特許庁
When a jam (JAM) occurs in an automatic document feeder 1 or in the image forming apparatus and the operator eliminates the jam by taking out a clogging document or sheet and when reading operation is started again by resetting a bundle of documents from a first document to an original platen of the automatic document feeder, first image information is acquired again and compared with image information stored before the occurrence of the jam.例文帳に追加
自動原稿給送装置１または画像形成装置内でジャム（ＪＡＭ）が発生し、オペレータが紙詰まりした原稿あるいはシートを取り出してジャムを解除するとともに、再度原稿束を最初の原稿から自動原稿給送装置の原稿載置台に再設定して読取り動作が再開された際に、１枚目の画像情報を再度取得してジャム発生前に記憶していた画像情報と比較する。 - 特許庁
A sheet-like recording medium is brought into contact with the pixel of a thermal head by a platen to be thermally recorded and an acceleration test for detecting a predetermined data changes before and after thermal recording is performed to selectively discriminate a thermal head of which the pixel has a predetermined defect and only a thermal head having no predetermined defective pixel is used to produce a thermal head recording apparatus.例文帳に追加
シート状熱記録媒体をプラテンにより前記サーマルヘッドの画素に接触させ、前記シート状熱記録媒体を熱記録して、該熱記録を行う前後における所定の情報変化を検出する加速試験を行うことにより、前記画素が所定の欠陥を有するようなサーマルヘッドを選択的に識別し、前記所定の欠陥画素を有さないサーマルヘッドのみを用いて、サーマルヘッド記録装置を製造することにより前記課題を解決する。 - 特許庁
This manifold assembly for an automation tissue processing system includes a manifold including the fluid conduits of the predetermined pattern extending through it, and the platen that is attached to the manifold and includes the plurality of sample receiving trays, each of which includes the inlet fluid-connecting to at least one fluid conduit of the manifold and the outlet fluid-connecting to at least one fluid conduit.例文帳に追加
自動化組織処理システムのためのマニホルドアセンブリであって、マニホルドであって、これを通じて延びる所定パターンの流体導管を含むマニホルドと、マニホルドに取付けられたプラテンであって、複数のサンプル受容部分を含み、ここで、サンプル受容部分の各々が、マニホルドの少なくとも１つの流体導管と流体連絡する入口、および少なくとも１つの流体導管と流体連絡する出口を含むプラテン、とを備える、マニホルドアセンブリ。 - 特許庁
A pressure to be applied to a wafer W by the abrading holder K is set at 100 g/cm^2-1,500 g/cm^2, and the stripe type group III nitride wafer is polished while a polishing liquid at pH of 1-12 is being supplied, and the abrading holder and the polishing platen are being rotated.例文帳に追加
圧縮率が１％〜１５％のパッドを持つ研磨定盤を用い、複数のストライプ型３族窒化物ウエハをストライプＳの方向が回転方向Ｇと垂直になるように研磨ホルダ−Ｋに放射状に貼付け、研磨ホルダーＫがウエハＷに与える圧力を１００ｇ／ｃｍ^２〜１５００ｇ／ｃｍ^２にして、ｐＨが１〜１２の研磨液を供給しつつ研磨ホルダ−と研磨定盤を回転させながらストライプ型３族窒化物ウエハを研磨する。 - 特許庁
By enabling the irradiation of different type ion beams generated by first and second ion sources 11, 12, a process irradiating a silicon wafer 10 with a polyatomic molecule ion beam for removing a surface oxide film and a process irradiating the silicon wafer 10 with an ion beam of the implanted ions for implanting ions are continuously carried out to the silicon wafer 10 attached to a platen in a chamber 18 without breaking a vacuum atmosphere during them.例文帳に追加
第１および第２のイオン源１１・１２で生成される、異なる種類のイオンビームの照射を可能とすることで、多原子分子のイオンビームをシリコンウェーハ１０に照射して表面の酸化膜を除去する工程と、注入イオンのイオンビームをシリコンウェーハ１０に照射してイオンを注入する工程とを、チャンバ１８内のプラテンに装着されたシリコンウェーハ１０に対し、その間の真空雰囲気を破ること無く連続して行う。 - 特許庁
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