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basic nitrogenの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 112件
The leukocyte removing filter is characterized by that a graft copolymer, which is obtained by polymerizing a graft chain based on a hydrophobia monomer with a main chain being a copolymer containing a monomer having a nonionic hydrophilic group and a monomer having a basic nitrogen- containing functional group as main components, is present at least on the surface of a filter base material.例文帳に追加
フィルター基材の少なくとも表面に、非イオン性親水基を有するモノマーと塩基性含窒素官能基とを有するモノマーを主成分とする共重合体である主鎖に、疎水性モノマーを主成分とするグラフト鎖を重合させてなるグラフトコポリマーが存在することを特徴とする白血球除去用フィルター。 - 特許庁
This dripproof agent composition comprises an aqueous dispersion which contains (a) an acrylic resin having at least one kind of functional group selected from among carboxyl and hydroxyl groups and containing a basic nitrogen atom, (b) a beads-like inorganic colloid, (c) a surfactant having hydroxyl groups, and (d) a cross-linking agent having at least two epoxy groups.例文帳に追加
防滴剤組成物は、(a)カルボキシル基および水酸基から選択された少なくとも1種の官能基を有し、塩基性窒素原子を含有するアクリル系樹脂、(b)数珠状の無機質コロイド、(c)水酸基を含有する界面活性剤および(d)2個以上のエポキシ基を有する架橋剤を含有する水性分散液よりなる。 - 特許庁
A method for producing a liquid developer comprises a kneading step of kneading a resin having an acidic group and a charge control agent A containing a nitrogen atom to obtain a kneaded product and a pulverizing step of pulverizing the kneaded product in an insulating liquid containing a dispersant having a silicone chain and a basic functional group.例文帳に追加
本発明の液体現像剤の製造方法は、酸性基を有する樹脂と、窒素原子を含有する荷電制御剤Aとを混練して混練物を得る混練工程と、前記混練物を、シリコーン鎖と塩基性官能基とを有する分散剤を含む絶縁性液体中で粉砕する粉砕工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁
The positive photosensitive composition is characterized in containing (A) a compound which generates an acid by irradiation with active rays or a radiation, (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and which decomposes by the effect of an acid to increase the solubility in an alkali developer liquid, and (C) a compound having a nitrogen-containing basic group and an acidic group in the molecule.例文帳に追加
(A)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂及び(C)分子内に含窒素塩基性基及び酸性基を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁
The power storage device comprises a positive electrode, a negative electrode including a composite of a nitrogen-containing organic polymer supporting anions and a Si sheet having a basic skeleton composed of a chain of six-membered rings of silicon atoms, and an ion conducting medium intervening between the positive electrode and the negative electrode and conducting anions, and is charged and discharged by migration of anions.例文帳に追加
蓄電デバイスは、正極と、アニオンを担持する含窒素有機ポリマーとケイ素原子で構成された六員環が複数連なった構造を基本骨格とするSiシートとが複合化した複合体を含む負極と、正極と負極との間に介在しアニオンを伝導するイオン伝導媒体と、を備え、アニオンの移動により充放電するものである。 - 特許庁
A new fluorescent group-containing carbodiimide compound precursor having a halogen or a sulfonic acid group is prepared and used to prepare the new fluorescent group-containing carbodiimide compound having at least one group selected from carboxy group, sulfo group, phosphono group and phosho group substituted with an alkali metal, an alkaline earth metal or a basic group containing nitrogen or phosphorus.例文帳に追加
ハロゲン又はスルホン酸基を有する新規な蛍光性基含有カルボジイミド化合物前駆体を作製し、これを用いてアルカリ金属、アルカリ土類金属、又は、窒素若しくはリンを含有する塩基性基で置換されたカルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基及びホスホ基から選ばれる基を少なくとも1つ有する新規な蛍光性基含有カルボジイミド化合物を作製する。 - 特許庁
There is provided an oligopeptide compound comprising: (a) at least one nitrogen-containing basic group attached to at least one end of the oligopeptide; and (b) two or more heterocyclic monomers, at least one of which is substituted in the heterocyclic part by a branched chain, cyclic or partially cyclic 3-5C alkyl group, or a pharmaceutically acceptable salt or solvate thereof.例文帳に追加
DNAの副溝に結合する、(a)オリゴペプチドの少なくとも一方の端に結合している少なくとも1個の窒素含有塩基性基;および(b)2個以上の複素環式モノマーであって、そのうちの少なくとも1個が複素環部分で分枝鎖、環式または部分環式C_3〜C_5アルキル基で置換されているモノマーを含有するオリゴペプチド化合物または薬剤として許容されるその塩もしくは溶媒和物が提供される。 - 特許庁
To provide an oxygen absorbent which makes a complex comprising a basic nitrogen-containing compound having an oxygen absorption capacity and a transition metal insoluble in water by a simple method, an oxygen absorbent resin composition in which the oxygen absorbent is incorporated into a thermoplastic resin etc., a laminate using it, and a package.例文帳に追加
酸素吸収能力を有する塩基性窒素含有化合物と遷移金属からなる錯体を簡易な手法で非水溶性化した酸素吸収剤、およびそれを熱可塑性樹脂などに配合した酸素吸収性樹脂組成物、ならびにそれを用いた積層体及び包装体を得ることにあり、さらには、これらの包装体をボイルやレトルト処理にも展開が可能な包装体にすることにある。 - 特許庁
The invention relates to the lubricant composition having improved anticorrosion performance comprising an extreme pressure compound comprising a sulfur-containing compound, an antiwear compound comprising a phosphorous-containing compound, an alkylene amine based friction modifying compound, a dispersant compound containing basic nitrogen, and a diluent or base oil as applicable, wherein any of compounds other than the diluent or base oil can be the same or different compounds.例文帳に追加
硫黄含有化合物を含んで成る極圧化合物、燐含有化合物を含んで成る抗摩耗化合物、アルキレンアミン系摩擦調整用化合物、塩基性窒素を含有する分散性化合物および適宜希釈用油または基油を含んで成っていて前記希釈用もしくは基油以外の化合物のいずれかが同じまたは異なる化合物であってもよい向上した防食性能を示す潤滑剤組成物。 - 特許庁
The positive photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin containing acid decomposable alicyclic olefin repeating units with a specified structure, anhydride repeating units with a specified structure and acid decomposable acrylic repeating units with a specified structure and having a dissolution rate in an alkali developing solution increased by the action of the acid and a nitrogen-containing basic compound having no aromatic ring.例文帳に追加
活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定構造の酸分解性脂環オレフィン系繰り返し単位、特定構造の無水物系繰り返し単位、及び特定構造の酸分解性アクリル系繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び芳香族基を有さない含窒素塩基性化合物、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁
The semiconductor wafer polishing composition uses an active silic acid solution obtained by removing alkali from a silic acid alkaline solution, and colloidal silica formed of a nitrogen containing basic compound composed of one kind or more of ethylenediamine, diethylenediamine, imidazole, methyl imidazole, piperidine, morpholine, arginine, and hydrazine as main components, and contains a quaternary ammonium hydroxide, whereby pH at 25°C is prepared to 8.5-11.0.例文帳に追加
珪酸アルカリ水溶液からアルカリを除去して得られた活性珪酸水溶液と、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、イミダゾール、メチルイミダゾール、ピペリジン、モルホリン、アルギニンおよびヒドラジンのいずれか1種類以上である窒素含有塩基性化合物によって製造されるコロイダルシリカを主成分とし、水酸化第4アンモニウムを含有することで、25℃におけるpHが8.5〜11.0に調製されていることを特徴とする半導体ウエハ研磨用組成物。 - 特許庁
In the method of producing the thermoplastic resin having a specified structure, an acylated material provided by acylating hydroxide groups of at least one kind of compound selected from a group consisting of aromatic diol, heterocyclic diol, aromatic hydroxycarboxylic acid and heterocyclic hydroxycarboxylic acid is transesterified with non-aromatic dicarboxylic acid, wherein the acylation and/or the transesterification is performed in the presence of the organic basic compound that is a heterocyclic compound containing at least one nitrogen atom in a molecule.例文帳に追加
芳香族ジオール、複素環ジオール、芳香族ヒドロキシカルボン酸、および複素環ヒドロキシカルボン酸からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物の水酸基を、脂肪族酸無水物でアシル化して得られたアシル化物と、非芳香族ジカルボン酸をエステル交換する、特定構造を有する熱可塑性樹脂の製造方法であって、窒素原子を分子中に1個以上含むヘテロ環化合物である有機塩基化合物の存在下、アシル化および/またはエステル交換を行うことを特徴とする熱可塑性樹脂の製造方法。 - 特許庁
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