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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > cleaning processに関連した英語例文

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cleaning processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2302



例文

CLEANING BLADE FOR IMAGE FORMING APPARATUS AND PROCESS CARTRIDGE例文帳に追加

画像形成装置用クリーニングブレード及びプロセスカートリッジ - 特許庁

CLEANING APPARATUS, PROCESS CARTRIDGE, AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

クリーニング装置、プロセスカートリッジ並びに画像形成装置 - 特許庁

LUBRICANT APPLICATOR, CLEANING APPARATUS, AND PROCESS CARTRIDGE例文帳に追加

潤滑剤塗布装置、クリーニング装置及びプロセスカートリッジ - 特許庁

Ready-mixed concrete transfer hose and the process of cleaning 例文帳に追加

生コンクリートの輸送ホースおよびその洗浄方法 - 特許庁

例文

HARMFUL SUBSTANCE CLEANING CATALYST AND ITS MANUFACTURING PROCESS例文帳に追加

有害物質浄化触媒及びその製造方法 - 特許庁


例文

The wiring board is manufactured through the following processes: a board preparing process; solder paste supplying process; ball mounting process; reflow process; and cleaning process.例文帳に追加

配線基板は、基板準備工程、はんだペースト供給工程、ボール搭載工程、リフロー工程及び洗浄工程を経て製造される。 - 特許庁

METHOD FOR CLEANING IN PROCESS CHAMBER AND SUBSTRATE TREATING DEVICE例文帳に追加

プロセスチャンバー内のクリーニング方法及び基板処理装置 - 特許庁

CLEANING DEVICE, PROCESS UNIT, AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

クリーニング装置およびプロセスユニットならびに画像形成装置 - 特許庁

In this method of forming a thin film, the semiconductor substrate is first subjected to wet-cleaning in cleaning equipment 1 (process A1) and dried (process A2).例文帳に追加

洗浄装置1内で半導体基板のウェット洗浄を行い(プロセスA1)、次に乾燥させる(プロセスA2)。 - 特許庁

例文

CLEANING DEVICE, IMAGE FORMING DEVICE AND PROCESS CARTRIDGE例文帳に追加

クリーニング装置及び画像形成装置並びにプロセスカートリッジ - 特許庁

例文

IMAGE FORMING APPARATUS, PROCESS CARTRIDGE, AND CLEANING DEVICE THEREFOR例文帳に追加

画像形成装置、プロセスカートリッジ、そのためのクリーニング装置 - 特許庁

CLEANING DEVICE OR PROCESS CARTRIDGE OR IMAGE FORMING DEVICE例文帳に追加

クリーニング装置又はプロセスカートリッジ又は画像形成装置 - 特許庁

APPARATUS FOR CLEANING FIBER SUSPENSION FOR PAPERMAKING PROCESS例文帳に追加

製紙工程用の繊維懸濁液をクリーニングする装置 - 特許庁

THERMAL F2 ETCH PROCESS FOR CLEANING CVD CHAMBER例文帳に追加

CVDチャンバーのクリーニングのためのサーマルF2エッチングプロセス - 特許庁

CLEANING CONTAINER OR PROCESS CARTRIDGE OR IMAGE FORMING DEVICE例文帳に追加

クリーニング容器又はプロセスカートリッジ又は画像形成装置 - 特許庁

CHARGING ROLLER CLEANING MECHANISM, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

帯電ローラクリーニング機構、プロセスカートリッジ、画像形成装置 - 特許庁

CLEANING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

クリーニング装置及びプロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁

CLEANING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

クリーニング装置及びプロセスカートリッジ並びに画像形成装置 - 特許庁

CLEANING METHOD IN PROCESS CHAMBER AND SUBSTRATE PROCESSING EQUIPMENT例文帳に追加

プロセスチャンバー内のクリーニング方法及び基板処理装置 - 特許庁

ROLLER CLEANING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

ローラクリーニング装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁

WAFER CLEANING EQUIPMENT AND PRODUCTION PROCESS OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ウェハ洗浄装置及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

CLEANING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE, AND IMAGE FORMING DEVICE例文帳に追加

クリーニング装置及びプロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁

A scraper 3 is made into a round rod shape, and a process for cleaning the scraper is provided in a self-cleaning process for the brush 2.例文帳に追加

スクレーパー3を丸棒形状とし、ブラシ2の自己洗浄工程にスクレーパーを洗浄する行程を設ける。 - 特許庁

METHOD OF CLEANING PROCESS CHAMBER AND SUBSTRATE TREATMENT EQUIPMENT例文帳に追加

プロセスチャンバー内のクリーニング方法及び基板処理装置 - 特許庁

SOLIDIFIER AND PROCESS FOR CLEANING CONTAMINATED SOIL USING THIS例文帳に追加

固化材及びそれを用いた汚染土壌の浄化方法 - 特許庁

CLEANING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE, IMAGE FORMING APPARATUS AND TONER例文帳に追加

クリーニング装置、プロセスカートリッジ、画像形成装置及びトナー - 特許庁

CLEANING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE, IMAGE FORMING APPARATUS AND TONER例文帳に追加

クリーニング装置、プロセスカートリッジ、画像形成装置およびトナー - 特許庁

SCALE PREVENTING METHOD FOR KRAFT PULP CLEANING AND BLEACHING PROCESS STEP例文帳に追加

クラフトパルプ洗浄漂白工程のスケール防止方法 - 特許庁

CLEANING DEVICE, METHOD FOR PREPARING THE CLEANING DEVICE, IMAGE FORMING APPARATUS AND PROCESS CARTRIDGE例文帳に追加

クリーニング装置、クリーニング装置の製造方法、画像形成装置及びプロセスカートリッジ - 特許庁

To provide a cleaning apparatus capable of removing foreign substances during a cleaning process with improved efficiency.例文帳に追加

洗浄における異物の除去効率の向上した洗浄装置を得ること。 - 特許庁

ROLL CLEANING METHOD AND ROLL CLEANING APPARATUS IN MANUFACTURING PROCESS OF OPTICAL FILM例文帳に追加

光学フィルムの製造方法におけるロールの清掃方法、及びロールの清掃装置 - 特許庁

CLEANING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE USING THE CLEANING DEVICE AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

クリーニング装置及び該クリーニング装置を用いたプロセスカートリッジ並びに画像形成装置 - 特許庁

CLEANING METHOD, CLEANING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE USING THEM, AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

クリーニング方法、クリーニング装置及びこれらを用いるプロセスカートリッジ、画像形成装置 - 特許庁

The cleaning process with the aerosol and the ion implantation process may be repeated more than once.例文帳に追加

エアゾル洗浄工程とイオン注入工程を複数回繰り返してもよい。 - 特許庁

In the first cleaning process for contaminated member, cleaning treatment is estimated from the degree of the leached amount, thereby enabling performing appropriate cleaning according to the degree of contamination for the purpose of optimum cleaning.例文帳に追加

これにより汚れの程度に応じた適切な洗浄を行うことができ、洗浄の最適化を図ることができる。 - 特許庁

A manufacturing method of a thermoelectric material includes: a process of preparing fine particles containing a clathrate compound; a first cleaning process of cleaning the fine particles with acid; a second cleaning process of cleaning the fine particles with pure water after the first cleaning process; and a sinter process of sintering the fine particles after the second cleaning process.例文帳に追加

クラスレート化合物を含む微粒子を調製する工程と、前記微粒子に対して酸洗浄を行う第一洗浄工程と、前記第一洗浄工程後の前記微粒子に対して純水洗浄を行う第二洗浄工程と、前記第二洗浄工程後の前記微粒子を焼結する焼結工程とを有する熱電材料の製造方法である。 - 特許庁

To provide a cleaning method in which cleaning processing time is short and no residual matters are left in a process chamber after cleaning.例文帳に追加

クリーニング処理時間を短く、クリーニング後の残留物が処理室に残らないクリーニング方法を提供する。 - 特許庁

The wafer cleaning process includes the self-cleaning step to remove contaminants from the wafer cleaning brushes.例文帳に追加

ウェハの洗浄工程においては、ウェハ洗浄用ブラシの汚れを除去するため、自己洗浄工程が行われる。 - 特許庁

The substrate cleaning method includes a process to immerse the substrate to be treated in a cleaning liquid stored in a cleaning tub, and a process to generate an ultrasonic wave in the cleaning liquid in the cleaning tub.例文帳に追加

基板洗浄方法は、洗浄槽内に貯留される洗浄液内に被処理基板を浸漬する工程と、前記洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させる工程と、を備えている。 - 特許庁

Further, it is possible to perform a cleaning process using nitrogen gas after the reduction process and before the purge process.例文帳に追加

さらに、還元工程後でパージ工程前に、窒素ガスによる洗浄工程を行うことも可能である。 - 特許庁

Alternatively, the cleaning process comprises, in order to clean an object 3 to be cleaned, concurrently using a cleaning procedure for irradiating a cleaning liquid 1 in a cleaning vessel 2 with electromagnetic waves to perform the cleaning using electromagnetic waves, and another cleaning procedure for applying ultrasonic waves to the cleaning vessel 2 to perform the cleaning using ultrasonic waves.例文帳に追加

また、洗浄液1に対して電磁波を照射して電磁波による洗浄と、洗浄槽2に超音波振動を印加して超音波による洗浄とを併用して被洗浄物3の洗浄を行う。 - 特許庁

CLEANING DEVICE, AND PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING DEVICE EQUIPPED WITH THE CLEANING DEVICE例文帳に追加

クリーニング装置及びこのクリーニング装置を備えるプロセスカートリッジ並びに画像形成装置 - 特許庁

CLEANING DEVICE IMAGE FORMING METHOD, IMAGE FORMING DEVICE AND PROCESS CARTRIDGE USING THE CLEANING DEVICE例文帳に追加

クリーニング器とそれを用いた画像形成方法、画像形成装置及びプロセスカートリッジ - 特許庁

CLEANING MEMBER, CLEANING SYSTEM, ELECTROSTATIC CHARGING DEVICE, TRANSFER EQUIPMENT, PROCESS CARTRIDGE, AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

クリーニング部材、クリーニング装置、帯電装置、転写装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁

CLEANING AGENT FOR CIRCULATIVE COOLING WATER SYSTEM AND CLEANING METHOD IN STEEL MAKING PROCESS例文帳に追加

鉄鋼製造工程における循環冷却水系用洗浄剤及び洗浄方法 - 特許庁

CLEANING BLADE AND CLEANING DEVICE USING THE SAME, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING DEVICE例文帳に追加

クリーニングブレード及びこれを用いたクリーニング装置、プロセスカートリッジ並びに画像形成装置 - 特許庁

METHOD FOR CLEANING SUBSTRATE, PROCESS FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND EQUIPMENT FOR CLEANING SUBSTRATE例文帳に追加

基板清浄方法及び半導体装置の製造方法、並びに基板清浄装置 - 特許庁

To obtain a cleaning device whose cleaning ability is high so as to achieve stable electrification in a next stage charging process.例文帳に追加

クリーニング性が高く、次工程の帯電工程での安定した帯電を行う。 - 特許庁

CLEANING DEVICE FOR CONTACT CHARGING ROLL, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING APPARATUS USING CLEANING DEVICE例文帳に追加

接触帯電ロールのクリーニング装置、これを用いるプロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁

例文

CLEANING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE, TONER, IMAGE FORMING APPARATUS, CLEANING METHOD AND IMAGE FORMING METHOD例文帳に追加

クリーニング装置、プロセスカートリッジ、トナー、画像形成装置及びクリーニング方法、画像形成方法。 - 特許庁




  
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