| 例文 |
cleaning processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2302件
CLEANING BLADE, AND CLEANING APPARATUS, PROCESS CARTRIDGE, AND IMAGE FORMING APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加
クリーニングブレード、並びに、これを用いたクリーニング装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁
The surface treatment method of a compound semiconductor substrate includes a substrate preparing process (S10) and a first cleaning process (S20).例文帳に追加
基板準備工程(S10)と、第1洗浄工程(S20)とを備えている。 - 特許庁
PLATING-CLEANING-PLATING PROCESS FOR MANUFACTURING COPPER WIRING例文帳に追加
銅配線を製造するためのめっき−洗浄−めっきプロセス - 特許庁
APPLICATION DEVICE, PROCESS CARTRIDGE, CLEANING UNIT, AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加
塗布装置、プロセスカートリッジ、クリーニングユニット及び画像形成装置 - 特許庁
METHOD FOR CLEANING EXHAUST GAS BY HEAT STORAGE SYSTEM CATALYST COMBUSTION PROCESS例文帳に追加
蓄熱式触媒燃焼法による排ガス浄化方法 - 特許庁
PHOTORECEPTOR CLEANING MECHANISM, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加
感光体クリーニング機構、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁
SYSTEM AND METHOD FOR CLEANING PROCESS CHAMBER AND VACUUM LINE例文帳に追加
プロセスチャンバと真空ラインをクリーニングするためのシステムと方法 - 特許庁
IMAGE FORMING APPARATUS AND PROCESS CARTRIDGE WITH CLEANING BLADE例文帳に追加
クリーニングブレードを備えた画像形成装置及びプロセスカートリッジ - 特許庁
SUBSTRATE-CLEANING APPARATUS IN PRINTED CIRCUIT BOARD MANUFACTURING PROCESS例文帳に追加
プリント配線板製造工程における基材クリーニング装置 - 特許庁
DETERGENT FOR TOILET AND PROCESS FOR CLEANING FLUSH TOILET BOWL例文帳に追加
トイレ用洗浄剤及び水洗トイレ用便器の洗浄法 - 特許庁
CLEANING ROLLER, CHARGING DEVICE, PROCESS UNIT AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加
クリーニングローラ、帯電装置、プロセスユニット及び画像形成装置 - 特許庁
COMPOSITION AND PROCESS FOR CLEANING ABRASIVE PAD例文帳に追加
研磨パッド洗浄用組成物及び研磨パッド洗浄方法 - 特許庁
NEUTRALIZING APPARATUS FOR WASTE WATER FROM CLEANING AND STERILIZING PROCESS OF DIALYZING APPARATUS例文帳に追加
透析機器の洗浄,消毒廃液の中和処理装置 - 特許庁
The method includes (1) a device manufacturing process 202, (2) a substrate-cleaning process 204, (3) a passivation process (206), and (4) a sealing process 208.例文帳に追加
(1)デバイス作製工程202、(2)基板清浄工程204、(3)不動態化工程206、及び(4)シーリング工程208を含む。 - 特許庁
To provide a cleaning method and a cleaning device capable of reducing the quantity of a solvent to be used in a cleaning process, shortening the time necessary for the cleaning process and miniaturizing the device.例文帳に追加
洗浄工程における溶剤の使用量を削減し、洗浄工程に要する時間を短縮し、しかも装置の小型化が可能な洗浄方法及び洗浄装置を提供する。 - 特許庁
This cleaning process comprises, in order to clean an object 3 to be cleaned, irradiating a cleaning liquid 1 in a cleaning vessel 2 with electromagnetic waves (microwaves).例文帳に追加
洗浄槽2内の洗浄液1に対して電磁波(マイクロ波)を照射して被洗浄物3の洗浄を行う。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING CLEANING MEMBER, CLEANING MEMBER, CLEANING DEVICE, TRANSFER DEVICE, CHARGING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加
クリーニング部材の製造方法、クリーニング部材、クリーニング装置、転写装置、帯電装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁
In addition, when a user loads the delivered cleaning sheet into the printer and depresses a cleaning button, the cleaning process of the thermal head is initiated.例文帳に追加
ユーザーが排出されたクリーニングシートを装填してクリーニングボタンを押下すると、サーマルヘッドのクリーニング処理が開始される。 - 特許庁
A manufacturing method includes a cleaning process, a sputtering process, an electroplating process, an etching process, and an electroless plating process.例文帳に追加
製造方法としては、洗浄工程Wと、スパッタリング工程Sと、電解メッキ工程EPと、エッチング工程Eと、無電解メッキ工程CPとからなる。 - 特許庁
In the method for producing high-purity terephthalic acid, having a slurrying process, dissolution process, reduction process, crystallization process, separation process, cleaning process and drying process, cleaning waste fluid after cleaning discharged in the cleaning process is kept in a state at ≥120°C and ≤200°C and used as a water solvent in the slurrying process to produce high-purity terephthalic acid.例文帳に追加
スラリー化工程、溶解工程、還元工程、晶析工程、分離工程、洗浄工程、及び乾燥工程を有する高純度テレフタル酸の製造方法において、上記洗浄工程で排出される洗浄後の洗浄排液を、120℃以上、200℃以下の状態を維持させて、上記スラリー化工程の水溶媒として使用して、高純度テレフタル酸を製造する。 - 特許庁
A substrate 1 is treated in a first process A for cleaning with organic alkaline treatment liquid, a second process B for cleaning after the first process by means of organic acid treatment liquid and a third process C for cleaning, after the second process by means of ultrasound cleaning fluid oscillated by ultrasonic wave.例文帳に追加
基板1を有機アルカリ性処理液により洗浄する第1の工程Aと、第1の工程後に有機酸性処理液により洗浄する第2の工程Bと、第2の工程後に超音波で励振した超音波洗浄用流体により洗浄する第3の工程Cとによって処理する。 - 特許庁
IMPROVED SYSTEM AND METHOD OF CLEANING IN-PROCESS SENSOR例文帳に追加
インプロセスセンサをクリーニングするための改良型のシステムおよび方法 - 特許庁
METHOD FOR CLEANING SURAFCE OF SILICON WAFER THROUGH LOW PRESSURE-HIGH HYDROGEN FLOW RATE PROCESS例文帳に追加
シリコンウエハ表面の低圧高水素流量クリーニング方法 - 特許庁
CHARGING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE, IMAGE FORMING DEVICE AND CLEANING MEMBER例文帳に追加
帯電装置、プロセスカートリッジ、画像形成装置、およびクリーニング部材 - 特許庁
CLEANING DEVICE, DEVELOPMENT DEVICE, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING DEVICE例文帳に追加
クリーニング装置、現像装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁
CHARGING MEMBER CLEANING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加
帯電部材清掃装置、プロセスカートリッジおよび画像形成装置 - 特許庁
DETECTOR, CLEANING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加
検出装置、クリーニング装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁
ELECTRIFYING MEMBER CLEANING MEMBER, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加
帯電部材清掃部材、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁
CLEANING APPARATUS, CHARGING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加
クリーニング装置、帯電装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁
FOAMED BODY ROLLER, CLEANING ROLLER, PROCESS DEVICE, AND IMAGE FORMING DEVICE例文帳に追加
発泡体ローラ、クリーニングローラ、プロセス装置および画像形成装置 - 特許庁
CLEANING MEMBER, CHARGING APPARATUS, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加
クリーニング部材、帯電装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁
IMAGE FORMING APPARATUS, PROCESS CARTRIDGE, DEVELOPMENT DEVICE AND CLEANING DEVICE例文帳に追加
画像形成装置、プロセスカートリッジ、現像装置、及び、クリーニング装置 - 特許庁
CLEANING FLUID FOR IMMERSION LITHOGRAPHY SYSTEM, AND IMMERSION LITHOGRAPHY PROCESS例文帳に追加
液浸リソグラフィシステム用洗浄液及び液浸リソグラフィ工程 - 特許庁
CLEANING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE, AND ELECTRONIC PHOTOGRAPHIC IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加
クリーニング装置、プロセスカートリッジ、及び、電子写真画像形成装置 - 特許庁
DEVELOPING DEVICE, CLEANING DEVICE, IMAGE FORMING APPARATUS AND PROCESS CARTRIDGE例文帳に追加
現像装置、クリーニング装置、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ - 特許庁
CONDUCTIVE MEMBER, CLEANING UNIT, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加
導電部材、クリーニングユニット、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁
CLEANING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE AND ELECTROPHOTOGRAPHIC IMAGE FORMING DEVICE例文帳に追加
クリーニング装置、プロセスカートリッジ及び電子写真画像形成装置 - 特許庁
CLEANING SYSTEM, PROCESS CARTRIDGE, AND ELECTROPHOTOGRAPHIC IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加
クリーニング装置、プロセスカートリッジ、及び、電子写真画像形成装置 - 特許庁
CLEANING MEMBER, CHARGING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING DEVICE例文帳に追加
クリーニング部材、帯電装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁
CLEANING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE EQUIPPED THEREWITH, AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加
クリーニング装置、これを備えたプロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁
CLEANER, PROCESS CARTRIDGE, IMAGE FORMING APPARATUS AND CLEANING METHOD例文帳に追加
クリーニング装置、プロセスカートリッジ、画像形成装置及びクリーニング方法 - 特許庁
TONER CONTAINER, CLEANING DEVICE, DEVELOPING DEVICE AND PROCESS CARTRIDGE例文帳に追加
トナー容器及びクリーニング装置及び現像器及びプロセスカートリッジ - 特許庁
RECOVERY SHEET, CLEANING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加
回収シート、クリーニング装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁
a process of cleaning sheep wool of vegetable matter 例文帳に追加
羊毛繊維に混在する植物性繊維を除去する工程 - EDR日英対訳辞書
CLEANING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE AND ELECTROPHOTOGRAPHIC IMAGE FORMING DEVICE例文帳に追加
クリーニング装置、プロセスカートリッジ、及び、電子写真画像形成装置 - 特許庁
DEVELOPER RESTRICTING MEMBER, CLEANING BLADE, DEVELOPING DEVICE, CLEANING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE, AND IMAGE FORMING DEVICE例文帳に追加
現像剤規制部材、クリーニングブレード、現像装置、クリーニング装置、プロセスカートリッジおよび画像形成装置 - 特許庁
The cleaning roll 10 is utilized in the cleaning unit, the process cartridge and the image forming apparatus.例文帳に追加
また、当該導電性ロールを利用したクリーニングユニット、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置である。 - 特許庁
IMAGE FORMING APPARATUS, PROCESS CARTRIDGE, AND CLEANING APPARATUS AND CLEANING METHOD FOR ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR例文帳に追加
画像形成装置、プロセスカートリッジ、ならびに電子写真感光体のクリーニング装置及びクリーニング方法 - 特許庁
CLEANING BLADE, IMAGE FORMING APPARATUS, PROCESS CARTRIDGE, CLEANING BLADE SELECTION METHOD, AND IMAGE FORMING METHOD例文帳に追加
クリーニングブレード、画像形成装置、プロセスカートリッジ、クリーニングブレード選定方法、及び、画像形成方法 - 特許庁
The cleaning process (treatment S1) of the silicon boat includes a dilute hydrofluoric acid cleaning process (treatment S1-1) cleaning the surface of the silicon boat with dilute hydrofluoric acid; an etching process (treatment S1-2); combined contaminant removal process (treatment S1-3); and a natural drying process (treatment S1-4).例文帳に追加
シリコンボート洗浄工程(処理S1)は、シリコンボートの表面を希フッ酸で洗浄する希フッ酸洗浄工程(処理S1-1)と、エッチング工程(処理S1-2)と、複合汚染物除去工程(処理S1-3)と、自然乾燥工程(処理S1-4)とを備える。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © National Institute of Information and Communications Technology. All Rights Reserved. |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
