「cleaning process」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

When the contaminated member is cleaned with a cleaning agent, the method for estimating cleaning treatment includes: the first cleaning process for a contaminated member; and an estimation process of estimating the cleaning time or the number of cleaning times of the second or later cleaning processes according to the degree of leached contaminants in the first cleaning process for contaminated member.例文帳に追加

本発明の洗浄処理推定方法は、汚れた部材を洗浄剤で洗浄する際に、第１回の部材洗浄を行う工程と、第１回の部材洗浄工程において、溶出した汚れの程度に対応して第２回以降の洗浄時間又は洗浄回数を推定する推定工程とを含むものであり、第１回の部材洗浄を行う工程において、その溶出量の軽重から洗浄処理を推定する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method capable of preventing substrate damages and circuit pattern collapse by applying a cleaning process fluid nozzle to a specified part of a cleaning target at the time of cleaning a substrate, and achieving a high-definition substrate cleaning process.例文帳に追加

基板洗浄時に、洗浄対象の特定の部位に洗浄処理流体ノズルを当てることで基板へのダメージや回路パターン倒れを防ぎ、高品位な基板洗浄処理を実現できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

In cleaning the petroleum refinery facilities with a cleaning solution containing a cleaning oil, the heavy oil content eluted into the cleaning solution is determined by measuring the absorbency of a visible light of the cleaning solution over time and the end of the cleaning process is judged based on the actual measurements.例文帳に追加

洗浄油を含む洗浄液で石油精製設備を洗浄するに当たり、洗浄液の可視光の吸光度を経時的に測定することにより、洗浄液中に溶出した重質油分量を求め、この結果に基いて洗浄の終了判定を行う。 - 特許庁

Accordingly, cleaning process for removing the liquid crystals can be eliminated.例文帳に追加

このため、シリンダー部６４の液晶を除去するための洗浄工程が不要になる。 - 特許庁

IMAGE FORMING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE, THEREFOR AND CLEANING DEVICE THEREFOR例文帳に追加

画像形成装置、画像形成用プロセスカートリッジ及び画像形成装置用クリーニング装置 - 特許庁

CLEANING ROLL FOR IMAGE FORMING APPARATUS, CHARGING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE, AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

画像形成装置用清掃ロール、帯電装置、プロセスカートリッジおよび画像形成装置 - 特許庁

CLEANING DEVICE AND DRUM UNIT HAVING THE SAME, PROCESS UNIT, AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

クリーニング装置とこれを備えたドラムユニット及びプロセスユニット並びに画像形成装置 - 特許庁

After a first cleaning process for a deposit A attaching to an inner wall surface or the like of a chamber 1 using a first gas, a second cleaning process takes place using a second gas.例文帳に追加

チャンバー１内壁面などの付着した付着物Ａを第１のガスを用いて第１のクリーニング処理を行った後、第２のガスを用いて第２のクリーニング処理する。 - 特許庁

A SiN film attached to the heat resistance nonmetal member in a film forming process is removed in a two-stage cleaning process which uses a mixed gas of F_2 and HF as cleaning gas.例文帳に追加

成膜工程で耐熱性非金属部材に付着したＳｉＮ膜を、クリーニングガスとしてＦ_2とＨＦとの混合ガスを用いた２段階のクリーニング工程で除去する。 - 特許庁

MOUNTING ADJUSTMENT METHOD OF CLEANING MEMBER, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING DEVICE例文帳に追加

クリーニング部材の取り付け調整方法及びプロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁

In the normal cleaning process step S20, the remaining organic carbon and scale are removed.例文帳に追加

次いで、本洗浄工程Ｓ２０では、残りの有機炭素及びスケールを除去する。 - 特許庁

To uniformly clean a material to be treated with a simple structure by continuously performing the treatment of each process constituting a cleaning process in the cleaning of a metallic article.例文帳に追加

金属加工品などの洗浄において、洗浄工程を構成する各工程を連続処理して、簡単な構成で被処理物の均一な洗浄を行えるようにする。 - 特許庁

Then, a predetermined cleaning process takes place so as to remove ruthenium of the barrier film.例文帳に追加

次に、バリア膜のルテニウムを除去するための所定の洗浄処理が施される。 - 特許庁

To provide a method of removing metal contaminants in a substrate cleaning process.例文帳に追加

基板洗浄プロセスにおける金属汚染物質を除去する方法を提供する。 - 特許庁

Then a process of cleaning a silicon substrate surface by dry etching is carried out (S20).例文帳に追加

次いで、シリコン基板表面をドライエッチによりクリーニングする処理を行う（Ｓ２０）。 - 特許庁

To provide a spin cleaning/drying device capable of carrying out a drying process in a short period of time.例文帳に追加

乾燥を短時間になすことができるスピン洗浄・乾燥装置の提供。 - 特許庁

MULTISTAGE CHAMBER CLEANING PROCESS FOR IMPROVING FILM GAP FILLING USING REMOTE PLASMA例文帳に追加

遠隔プラズマを用いて膜ギャップ充填性を高める多段階式のチャンバクリーニングプロセス - 特許庁

In the state where a process chamber of the processing equipment is evacuated, cleaning gas containing TFAA(trifluoroacetic acid) as a cleaning agent is supplied into the process chamber.例文帳に追加

処理装置の処理チャンバ内を真空引きした状態で、前記処理チャンバ内にＴＦＡＡ（トリフルオロ酢酸）をクリーニング剤として含むクリーニングガスを供給する。 - 特許庁

LUBRICANT APPLICATION DEVICE, PROCESS CARTRIDGE, INTERMEDIATE BODY CLEANING UNIT, AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

潤滑剤塗布装置、プロセスカートリッジ、中間体クリーニングユニット及び画像形成装置 - 特許庁

CLEANING PROCESS OF SILICON BOAT, SILICON BOAT, HEAT TREATING METHOD OF SILICON WAFER, AND SILICON WAFER例文帳に追加

シリコンボートの洗浄方法、シリコンボート、シリコンウェハの熱処理方法、及びシリコンウェハ - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR RUST PREVENTION CLEANING PROCESS FOR CONTINUOUSLY VARIABLE TRANSMISSION BELT例文帳に追加

無段変速機用ベルトの防錆洗浄処理装置及び防錆洗浄処理方法 - 特許庁

To provide a cleaning blade which carries out good cleaning without the occurrence of a peeling of the cleaning blade even in long-term use, a cleaning device, an image forming device and a process cartridge.例文帳に追加

長期の使用にあってもクリーニングブレードのめくれが発生することなく、良好なクリーニングを行うことが可能なクリーニングブレード、クリーニング装置、画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

In the mist process, mist of the cleaning liquid is sprayed to the cylinder head having been once dried in the first drying process.例文帳に追加

ミスト工程では、第１乾燥工程で一旦乾燥したシリンダヘッドに対して、洗浄液のミストが吹き付けられる。 - 特許庁

For the production of the exhaust gas cleaning filter, the process of carrying the PM combustion catalyst and the process of carrying the oxidation catalyst are performed.例文帳に追加

排ガス浄化フィルタの製造にあたっては、ＰＭ燃焼触媒担持工程と酸化触媒担持工程とを行なう。 - 特許庁

In a rear surface processing section, a drying process is performed after a cleaning process is performed by supplying processing liquid to a substrate W.例文帳に追加

裏面処理部において、基板Ｗに処理液を供給して洗浄処理を行った後に乾燥処理を行う。 - 特許庁

Consequently, a grinding dust is so prevented from being stuck on the surface of the laminated film 61b in a grinding process as to make a cleaning process unnecessary in an after-process.例文帳に追加

これによって、研削工程において研削屑が積層膜６１ｂの表面に付着するのが防止され、後工程で洗浄工程が不要となる。 - 特許庁

To effectively perform a pre-process of electroless plating and a subsequent rinse process (cleaning process) or the like while preventing re- contamination of the substrate processing surface.例文帳に追加

無電解めっきの前処理や、それに続くリンス処理（洗浄処理）等を、基板処理面の再汚染を防止しつつ、効率よく行うことができるようにする。 - 特許庁

Infrared lamps 8 and ultraviolet lamps 9, which are the light sources for the cleaning process and the oxidation process, are installed in the upper and lower parts of the process chamber 7.例文帳に追加

処理チャンバ７の上方及び下方には、洗浄処理及び酸化処理用の光源である赤外線ランプ８及び紫外線ランプ９が配置されている。 - 特許庁

In addition, the image forming apparatus includes a stopping means for stopping the cleaning by the cleaning means according to a result of the matching process.例文帳に追加

また、画像形成装置は、マッチング処理の結果に応じてクリーニング手段によるクリーニングを停止する停止手段とを備える。 - 特許庁

METHOD OF EXTRACTING AND CLEANING METAL WIRE FILM, METAL WIRE SUBJECTED TO EXTRACTING/CLEANING PROCESS, AND DEVICE HAVING SAME例文帳に追加

金属配線膜の抽出洗浄方法、抽出洗浄処理された金属配線およびこの金属配線を有するデバイス - 特許庁

To provide a cleaning liquid which has excellent solubility without using hydrofluoric acid and which makes a process of the waste cleaning liquid easy.例文帳に追加

フッ化水素酸を使用することなく、溶解性に優れ且つ洗浄廃液の処理も容易な洗浄液を提供する。 - 特許庁

FILTER STRUCTURE FOR CLEANING PROCESS GAS LOADED WITH PARTICLE AND METHOD FOR CLEANING FILTER UNIT OF THE FILTER STRUCTURE例文帳に追加

粒子で負荷されたプロセスガスを洗浄するためのフィルタ構造、およびこのようなフィルタ構造のフィルタユニットを洗浄する方法 - 特許庁

To provide a soybean cleaning method which gets rid of the dirt of soybeans by a dry process using chaff as a polishing material and to provide a soybean cleaning machine.例文帳に追加

大豆の汚れを研磨材として籾殻を用い乾式で落とす大豆清浄方法および大豆清浄機の提供。 - 特許庁

MASK CLEANING LIQUID COMPOSITION USED AT VACUUM VAPOR DEPOSITION PROCESS OF LOW MOLECULE TYPE ORGANIC EL ELEMENT, AND CLEANING METHOD例文帳に追加

低分子型有機ＥＬ素子製造の真空蒸着工程において使用するマスクの洗浄液組成物および洗浄方法 - 特許庁

Thereafter, each surface of the dummy substrate is again inverted and then is conveyed to a surface cleaning processing unit to perform a surface cleaning process.例文帳に追加

その後、再びダミー基板を表裏反転してから表面洗浄処理ユニットに搬送して表面洗浄処理を行う。 - 特許庁

A delivery tank 21, a cleaning mechanism 31, a collection tank 51, and an ultrasonic cleaning tank 61 are arranged in sequence, starting from the process starting part to the process finishing part, and are located between the reserved tank 11 and the transfer cleaning tank 71.例文帳に追加

予備水槽１１と搬送洗浄槽７１の間には始端部から終端部へ順番に送出槽２１、洗浄機構３１、集積槽５１及び超音波洗浄槽６１の各水槽が配列されている。 - 特許庁

The thin-film forming zones 11 are composed of a cleaning process 4 and a thin-film forming process 5, the exposure zone 12 is composed of a resist coating process 6, an exposure process 7, and a development process 8, and the etching zones 13 are composed of an etching process 9 and a resist stripping process 10 respectively.例文帳に追加

薄膜形成ゾーン11は洗浄工程４及び薄膜形成工程５で、露光ゾーン12はレジスト塗布工程６、露光工程７及び現像工程８で、エッチングゾーン13はエッチング工程９及びレジスト剥離工程10でそれぞれ構成されている。 - 特許庁

The method of cleaning the substrate comprises a cleaning process where the synthesized quartz glass substrate is dipped in a cleaning liquid and is irradiated with the ultrasonic wave and a rinse process where the substrate after cleaned is dipped in a pure water and rinse is performed by irradiating the substrate with the ultrasonic wave, and the cleaning process and the rinse process are performed by specifying the sound pressure and total irradiation time of the ultrasonic wave.例文帳に追加

合成石英ガラス基板を洗浄液に浸漬し超音波を照射して洗浄する洗浄工程と、洗浄後の前記基板を純水に浸漬して超音波を照射してすすぎを行うすすぎ工程とを含み、前記洗浄工程及びすすぎ工程を、超音波の音圧と照射総時間とを特定して行う。 - 特許庁

A cleaning process step after precision polishing of a glass substrate is provided with a process step of inserting the glass substrate 2 between rotating scrub pads 1a and 1b and subjecting the glass substrate 2 to scrub cleaning while rotating the glass substrate 2 by supporting rollers 3 between an ultrasonic cleaning process step by a detergent and an ultrasonic cleaning process step by pure water.例文帳に追加

ガラス基板を精密研磨した後の洗浄工程において、洗剤による超音波洗浄工程と、純水による超音波洗浄工程との間に、回転するスクラブパッド１ａ，１ｂの間に、ガラス基板２を挟み込むようにし、支持ローラ３によってガラス基板２を回転しつつスクラブ洗浄を行う工程を設けた。 - 特許庁

The treating method for the fly ash has [1] a process (cleaning process) of eluting the Ca-component of the fly ash in water and [2] a process of recovering the eluted Ca-component into a post-cleaning liquid and recovering a solid component as a cleaning residue subjecting the slurry obtained in the cleaning process to a solid-liquid separation.例文帳に追加

[1] 飛灰をパルプ濃度５〜１００ｇ／Ｌの液中で洗浄することにより、飛灰のＣa分を水に溶出させる工程（洗浄工程）、[2] 前記洗浄工程で得られたスラリーを固液分離することにより、溶出したＣa分を洗浄后液中に回収するとともに、固形分を洗浄残渣として回収する工程、を有する飛灰の処理方法。 - 特許庁

To provide a cleaning device capable of simultaneously satisfying a noise reduction function and a cleaning function, to provide a process cartridge using the cleaning device, and to provide an image forming apparatus.例文帳に追加

騒音低減機能とクリーニング機能を同時に満たすことが可能なクリーニング装置、並びにこれを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することである。 - 特許庁

To provide an electric rice cooker including cleaning function menu, which is stable in duration of boiling and cleaning process at the time of cleaning control operation.例文帳に追加

クリーニングメニュー機能を備えた電気炊飯器であって、クリーニング制御時の沸とう維持時間およびクリーニング工程時間共に安定した電気炊飯器を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali cleaning solution suitable for the cleaning of metallic materials such as aluminum, an aluminum alloy or the like after forming process, and to provide a cleaning method using the solution.例文帳に追加

アルミニウム及びアルミニウム合金等の金属材料の成形加工後の洗浄に適したアルカリ洗浄液及びそれを用いた洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning blade having improved durability and cleanability, a method of easily manufacturing the cleaning blade, an image forming apparatus and a process cartridge using the cleaning blade.例文帳に追加

耐久性とクリーニング性の優れたクリーニングブレードとその簡便な製造方法及びクリーニングブレードを用いた画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning blade capable of improving cleaning performance, without needing lubricants, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus which are equipped with the cleaning blade.例文帳に追加

潤滑剤を不用とし、クリーニング性を向上させることが可能なクリーニングブレード、並びに、斯かるクリーニングブレードを備えたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁