「cleaning process」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a cleaning article to be manufactured in a simple manufacturing process and with high allowance for the accuracy of the mechanical positioning in the manufacturing process.例文帳に追加

製造工程が簡便であり、製造工程における機械的な位置決め精度の許容度が高い清掃用具を提供する。 - 特許庁

PROCESS FOR MODIFYING SILICATE, MODIFIED SILICATE OBTAINED WITH THE SAME PROCESS AND CLEANING AGENT COMPOSITION CONTAINING THE SAME MODIFIED SILICATE例文帳に追加

珪酸塩の改質方法、該方法により得られた改質珪酸塩及び該改質珪酸塩を含有する洗浄剤組成物 - 特許庁

In a step S2 for carrying out a first manufacturing process including a prescribed cleaning treatment process, a chip is fabricated on a wafer to be cleaned.例文帳に追加

ステップＳ２で、所定の洗浄処理工程を含む第１の製造処理を実行して洗浄対象ウェハ上にチップを製造する。 - 特許庁

In the method for manufacturing polarizer, a cleaning process is performed after at least a dyeing process, a crosslinking process and a stretching process are performed on a polyvinyl alcohol film, wherein the cleaning process is performed by using an aqueous solution containing polyvinyl alcohol of 1 to 50 wt.% and iodide compound of 0.5 to 10 wt.%.例文帳に追加

ポリビニルアルコール系フィルムに、染色工程、架橋工程および延伸工程を少なくとも施した後に、洗浄工程を施す偏光子の製造方法において、洗浄工程は、アルコールを１〜５０重量％およびヨウ化化合物を０．５〜１０重量％含有する水溶液により行う。 - 特許庁

To provide a cleaning device capable of surely recovering a residual toner from both of two cleaning brushes with a piece of recovery roll, a process cartridge equipped with the cleaning device, and an image forming apparatus equipped with the cleaning device.例文帳に追加

複写機、ファクシミリ、プリンターなどの電子写真方式で採用される、残留トナー等の残留物を除去するクリーニング装置等に関し、１本の回収ロールで２本のクリーニングブラシ双方から残留トナーを確実に回収する。 - 特許庁

To provide a cleaning device having no bearing part of a cleaning member, then, capable of suppressing such a failure that the movement of the cleaning member is interrupted by the biting of the bearing part, to provide a process cartridge equipped with the cleaning device, and to provide an image forming apparatus.例文帳に追加

クリーニング部材の軸受部を有さず、軸受部のかじりによるクリーニング部材の動きが阻害されることを抑制できるクリーニング装置と、それを備えたプロセスカートリッジ及び画像形成装置の提供を課題とする。 - 特許庁

To provide a cleaning device which prevents uneven scraping and partial wear and avoids faulty cleaning and contamination of a charging roller, a process cartridge, a toner and an image forming apparatus having the cleaning device, etc., and to further provide a cleaning method and an image forming method.例文帳に追加

削りムラ、偏磨耗等を防止し、クリーニング不良、帯電ローラ汚れのないクリーニング装置、プロセスカートリッジ、トナー、及び前記クリーニング装置等を有する画像形成装置、さらに、クリーニング方法、画像形成方法を提供するる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a surface-treated cold-rolled steel plate, by which a cleaning process before an annealing process and/or a cleaning process after the annealing process and before a surface treatment process can be stably performed by immersion cleaning without causing excess foam formation so that a surface treatment failure is not caused on an obtained cold-rolled steel plate.例文帳に追加

焼鈍工程の前の洗浄工程、及び／又は、前記焼鈍工程の後で表面処理工程の前の洗浄工程を、過剰な発泡を伴うことなく安定に、かつ、得られる冷間圧延鋼板に表面処理不良が生じないように、浸漬洗浄により行うことができる、表面処理された冷間圧延鋼板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A cleaning management device 2 includes a detection unit 21 for obtaining in-process lot information about a plurality of in-process lots to be processed at a cleaning device 1 and obtaining device operation information of the cleaning device 1 at the time.例文帳に追加

洗浄管理装置２は、洗浄処理装置１で処理予定の複数の仕掛かりロットについて仕掛かりロット情報を取得するとともに、その時点での洗浄処理装置１の装置稼動情報を取得する検知部２１を備える。 - 特許庁

The manufacturing method of an electronic device includes: (a) a process of forming a Cu layer by plating above a base substrate; (b) a process of cleaning the surface of the Cu layer with an alkali cleaning chemical solution to which an organic acid is added; and (c) after the process (b) a process of chemical mechanical polishing of the Cu layer.例文帳に追加

電子装置の製造方法は、（ａ）下地基板上方に、めっきによりＣｕ層を形成する工程と、（ｂ）Ｃｕ層の表面を、有機酸が添加されたアルカリ性の洗浄薬液により洗浄する工程と、（ｃ）工程（ｂ）の後、Ｃｕ層を化学機械研磨する工程とを有する。 - 特許庁

If the detergent 10 and a prescribed volume of water are mixed (Figure 2 (b) process step), the base material and the cleaning solution component dissolve in the water, and the cleaning solution S can be prepared (Figure 2 (c) process step).例文帳に追加

洗浄剤１０と所定量の水とを混合すると（図２（ｂ）工程）、上記基材および洗浄液成分が水に溶解して、洗浄液Ｓを調製することができる（図２（ｃ）工程）。 - 特許庁

To provide a charging method for semiconductor cleaning apparatus in which charging is conducted on the basis of the amount of removal of foreign matters, in the cleaning process wherein influence on the yield is large in the semiconductor device manufacturing process.例文帳に追加

半導体装置の製造工程において、歩留まりへの影響が大きい洗浄工程における異物の除去量で課金を行う半導体洗浄装置の課金方法を提供する。 - 特許庁

Thereby, cleaning liquid in the case of the cleaning process of the package 19 and dry air in the case of a drying process respectively flow into the surrounding of the package 19 through the notched parts 18 and easily flow out.例文帳に追加

これにより、パッケージ１９の洗浄工程では洗浄液が、乾燥工程ではドライエアが、それぞれ切り欠き１８を経由して、パッケージ１９の周囲に流入し、かつ流出しやすくなる。 - 特許庁

There are provided a process where a cleaning solution 4 is applied to fins 3, 3a of an outdoor machine condenser 10, and a process where a fin section 18 in which the fins applied with the cleaning solution are arranged is covered with a cover 6 from the outside.例文帳に追加

室外機凝縮器１０のフィン３，３ａに洗浄液４を塗布する工程と、洗浄液が塗布されたフィンが並ぶフィン部１８を外側からカバー６で覆う工程とを備える。 - 特許庁

To provide a process cartridge having such structure that toner is prevented from being scattered inside a machine by covering a gap between the housing of a process cartridge and a cleaning device and excessive load is not exerted at the time of releasing the cleaning device.例文帳に追加

プロセスカートリッジ筐体とクリーニング装置との隙間をふさいで機内にトナーが飛散するのを防ぎ、クリーニング装置解除時に余分な負荷を与えない構造のプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a comprehensive polishing and cleaning method of a wafer, which can reduce a cleaning load in a final cleaning process compared to a conventional method and can finish with the cleaned surface of the wafer having a high cleanliness in efficient cleaning processes from the final polishing to the final cleaning.例文帳に追加

従来よりも最終洗浄工程における洗浄負荷を低減できると共に、仕上げ研磨から最終洗浄に亘って効率的な洗浄工程でウエハ表面の高清浄な最終洗浄上がりが可能なウエハの総合研磨洗浄方法の提供。 - 特許庁

A process for generating an ultrasonic wave comprises a step for generating the ultrasonic wave in the cleaning tub while supplying the cleaning liquid thereto, and a step for generating the ultrasonic wave in the cleaning tub in a state that the supply of the cleaning liquid to the cleaning tub is stopped.例文帳に追加

この超音波を発生させる工程は、洗浄槽内へ洗浄液を供給しながら当該洗浄槽内に超音波を発生させる工程と、洗浄槽内への洗浄液の供給を停止した状態で当該洗浄槽内に超音波を発生させる工程と、を含んでいる。 - 特許庁

Then a spray coating process, a spray cleaning process, a blast process, a plating process, an etching process, a process of sticking conductive paste, resist, resin, etc., on an exposed region, etc., are carried out in a state where the chip component bodies 2A are clamped with rubber films of the component body holding grooves.例文帳に追加

そして、部品本体保持溝のゴム膜によってチップ部品本体２Ａが挟持されたまま、スプレーコート処理やスプレー洗浄処理やブラスト処理やめっき処理やエッチング処理や露出領域に対して導電ペースト、レジスト、樹脂などを付着させる処理等を行う。 - 特許庁

To provide a substrate cleaning apparatus capable of preventing electrodeposition from occurring during a substrate cleaning process and observing the substrate status.例文帳に追加

基板洗浄工程中に電析の発生を防止しつつ基板の状態を観察することが可能な基板洗浄装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the substrate processing apparatus, each surface of the dummy substrate received is inverted and then is conveyed to a back-surface cleaning processing unit to perform a back-surface cleaning process.例文帳に追加

基板処理装置では、受け取ったダミー基板を表裏反転してから裏面洗浄処理ユニットに搬送して裏面洗浄処理を実行する。 - 特許庁

To provide a pipeline milker having a function of monitoring fluid processes, capable of investigating the cause of cleaning insufficiency of a pipeline-cleaning process or the like by automatic control.例文帳に追加

自動制御によるパイプライン洗浄作業等の洗浄不良の原因を究明できる流体作業監視機能を備えたパイプラインミルカーを提供する。 - 特許庁

To provide a catalyst for cleaning exhaust gas, which is manufactured by a simple process in a short time at a low cost and to provide a method for manufacturing the catalyst for cleaning exhaust gas.例文帳に追加

製造工程が簡易で、製造時間が短く、製造コストが安価な排気ガス浄化用触媒及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a wheel cleaning device having bactericidal ability in addition to an improved cleaning capability in a simple process.例文帳に追加

洗浄能力が向上すると共に除菌も可能とし、かつ簡便な工程にて車輪洗浄を行うことが可能な車輪洗浄装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning device for an image forming device which keeps the contact state of a cleaning member within a preferable range regardless of the change of the process speed.例文帳に追加

クリーニング部材の接触状態をプロセス速度が変わっても好ましい範囲に保つことができる画像形成装置のクリーニング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning process of ground water which enables cleaning treatment of the ground water contaminated with an organic compound efficiently and at a low cost in a short time.例文帳に追加

有機化合物で汚染された地下水を短期間のうちに効率よく、かつ低コストで浄化処理することが可能な地下水の浄化方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning device, a process cartridge and an image forming apparatus which can stably reduce the occurrence of noise and can obtain improvement in cleaning characteristic.例文帳に追加

安定して騒音の発生を低減でき、またクリーニング特性の向上を図ることが可能なクリーニング装置、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The single wafer substrate cleaning facility is provided with a substrate turnover device for cleaning the backside of the substrate in a process chamber.例文帳に追加

本発明による枚葉式基板洗浄設備は、工程チャンバ内に基板の裏面を洗浄するための基板反転装置が設けられることを特徴とする。 - 特許庁

The method and device are effectively used for such separation of potassium fluorosilicate after the addition of potassium fluoride into an HF cleaning liquid used in the cleaning process of glass.例文帳に追加

ガラスの洗浄工程で使用されるＨＦ洗浄液にフッ化カリウムを添加した後のフルオロ珪酸カリウム等の分離処理に有用である。 - 特許庁

To provide an apparatus for cleaning capable of improving the unevenness of a cleaning process by restraining a gas from resolving into a chemical stored in a chemical vessel.例文帳に追加

薬液槽内に貯留した薬液への気体の溶解を抑制して洗浄処理むらを改善することができる洗浄装置を提供すること。 - 特許庁

The bubbles in the air and liquid cleaning liquid collide with one another during the process in which the cleaning liquid circulates in the first ink supplying tube 34 and the first print head 21.例文帳に追加

気液洗浄液内の気泡は、第一インク供給チューブ３４及び第一プリントヘッド２１を流通する過程で、互いにぶつかり合う。 - 特許庁

The cleaning process is particularly suitable for cleaning of the ground water contaminated with an organic chlorine compounds such as volatile organic compounds, dioxins and PCB.例文帳に追加

とくに、揮発性有機化合物、ダイオキシン類、ＰＣＢ等の有機塩素化合物等に汚染された地下水の浄化に好適な浄化方法である。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method having a cleaning process for reliably cleaning the inside of a trench to the trench bottom with low damage.例文帳に追加

トレンチ内部を低ダメージでトレンチ底部まで確実に洗浄することができる洗浄工程を有する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

An oxygen supply source is injected into soil G after finishing the soil cleaning process cleaning the contaminated soil G by oxidation decomposition.例文帳に追加

酸化分解によって汚染土壌Gを浄化する土壌浄化工程終了後に、土壌Ｇ内に酸素を供給する酸素供給源を注入する。 - 特許庁

To provide a catalyst for cleaning exhaust gas which can be manufactured through a simple process and can keep a high cleaning rate for a long period of time and to provide a manufacturing therefor.例文帳に追加

製造工程が簡易で、高い浄化率を長期間保持することができる排気ガス浄化用触媒及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To heighten the cleaning ability enough in an ultrasonic cleaning process of substrates, using ultrasonic nozzles.例文帳に追加

超音波ノズルを用いた基板の超音波洗浄処理において、洗浄能力を十分に高めることができる基板洗浄方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

In a step S3 for carrying out a second manufacturing process not including the prescribed cleaning treatment process while the other contents of the second process are the same as those of the first process, the chip is fabricated on the wafer not to be cleaned.例文帳に追加

ステップＳ３で、所定の洗浄処理工程を含まず、それ以外の内容は第１の製造処理と同内容の第２の製造処理を実行して、非洗浄対象ウェハ上にチップを製造する。 - 特許庁

In the cleaning process, the inside of reaction furnace 1 is cleaned by removing a thin film deposited in the reaction furnace 1 due to the repetition of the film forming process.例文帳に追加

クリーニング工程では、成膜工程の繰り返しで反応炉１内に堆積した薄膜を除去して反応炉１内をクリーニングする。 - 特許庁

Thereafter, the final cleaning of the liquid crystal display panel is performed by pure water (process F113) and the liquid crystal panel is inspected (process F114).例文帳に追加

その後、純水によって液晶表示パネルの最終洗浄（工程Ｆ１１３）を行い、液晶表示パネルの検査（工程Ｆ１１４）を行う。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus having a function of cleaning toner contamination on the rear face of a transfer material during a transfer process before a fixing process.例文帳に追加

転写時に生じる転写材の裏面トナー汚れを定着処理前に清掃できる機能を有する画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

The process of cleaning the base substrate 10 comprises at least one process of utilizing an alkaline solvent and an acid solvent.例文帳に追加

ベース基板１０を洗浄する工程は、アルカリ性溶剤を利用する工程及び酸性溶剤を利用する工程の少なくとも一方を含む。 - 特許庁

A film forming process of supplying a processing gas into a vacuum processing chamber 2, generating decomposition seeds through a heating catalyst 6, and depositing a deposit on a board 5, an etching process of dry- etching a thin film, and a cleaning process of cleaning the inside of the chamber are carried out.例文帳に追加

真空のプロセスチェンバー２内にプロセスガスを供給し、加熱触媒体６により分解種を生成して、基板５上に堆積物を堆積する成膜プロセス、薄膜をドライエッチングするプロセス又はチェンバー内をクリーニングするプロセスを実施する。 - 特許庁

To provide a label which stays without being peeled in a bottle cleaning process in a process of packing commodity into PET (polyethylene terephthalate) bottles, glass bottles, etc., and can be easily peeled from adherends in a cleaning process by hot water and hot alkaline water after use.例文帳に追加

ＰＥＴボトルやガラスビン等への商品充填工程において、ビン洗浄工程でラベルが剥がれ落ちることなく、更に、使用後の熱水・熱アルカリ水による洗浄工程において、容易に被着物から剥離できるラベルを提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning material which is manufactured at a low manufacturing cost by using waste casting sand as the raw material while dispensing with a firing process and exhibits excellent cleaning action for air or water, and to provide a manufacturing method of the cleaning material.例文帳に追加

廃鋳物砂を原料とし、焼成工程が不要であり、製造コストが低廉で、空気や水に対して優れた浄化作用を奏する浄化材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Moreover, even though it is a portion where only deionized water can be circulated in a normal process, since the cleaning liquid can be circulated in the portion in the farther downstream than the injection point, the cleaning can be carried out with high cleaning factor.例文帳に追加

しかも、通常の処理では純水しか流通させられない箇所であっても注入部より下流には洗浄液を流通させることができるので、清浄度高く洗浄が可能となる。 - 特許庁

An ultrasonic cleaner 10 is equipped with an ultrasonic transducer 13 for generating an ultrasonic wave and a cleaning tank 12 for performing a cleaning process by applying the ultrasonic wave to cleaning water W1.例文帳に追加

超音波洗浄機１０は、超音波を発生させるための超音波振動子１３と、超音波を洗浄水Ｗ１に照射して洗浄処理を行うための洗浄槽１２とを備える。 - 特許庁