「cleaning process」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

In a drying process, the inner surface of the high-purity gas-filled vessel is dried without performing the pressure test with respect to the high-purity gas-filled vessel after the cleaning process.例文帳に追加

乾燥工程では、洗浄工程の後、高純度ガス充填容器に対する耐圧試験を行うことなく、高純度ガス充填容器の内表面を乾燥させる。 - 特許庁

After the cleaning process, the semiconductor wafer is subjected to a thermal process so that gate oxide films 10 and 12 which has been degraded by electrostatic discharge at pure water rinsing are restored.例文帳に追加

洗浄処理後、半導体ウェハに対して熱処理を施して、純水リンスの際の静電破壊によって劣化したゲート酸化膜１０,１２を回復させる。 - 特許庁

The printer once obtaining the mail (S7) performs a cleaning process (S9), a display (S12) of error process information or printing (S13) or the like according to the contents.例文帳に追加

このメールをプリンタが取得すると（Ｓ７）、その内容に応じて、クリーニング処理（Ｓ９）、またはエラー処理情報の表示（Ｓ１２）もしくは印刷（Ｓ１３）等を実行する。 - 特許庁

The manufacturing method of the wiring board comprises a process of performing electroless plating treatment to a circuit pattern 12 prepared in a base substrate, and a process of cleaning the base substrate 10.例文帳に追加

配線基板の製造方法は、ベース基板１０に設けられた配線パターン１２に無電解めっき処理を行うこと、及び、ベース基板１０を洗浄することを含む。 - 特許庁

On the other hand, during this period, since an image forming process is in a stand-by state, the circulation of the conveying belt 66 for the cleaning process can be a cause of decreasing productivity.例文帳に追加

一方、この間、画像形成処理は待機状態となるため、前記クリーニング処理のための搬送ベルト６６の周回は、生産性を低下させる原因にもなり得る。 - 特許庁

To provide a substrate cleaning device and a cleaning method surely removing different kinds of foreign substances deposited on or precipitated on the surface of an object to be cleaned of a substrate and cleaning during a one-time relative moving process of the substrate.例文帳に追加

基板の被洗浄表面上に付着あるいは析出した種類の異なる異物を基板の一度の相対移動工程中に確実に除去して洗浄できる基板洗浄装置及び洗浄方法を提供する。 - 特許庁

In a substrate cleaning process, clean air the relative humidity and temperature of which are controlled is supplied vertically downward toward the surface of the cleaning solution in the cleaning tank, and air in the draft is discharged in a displacement within a prescribed range.例文帳に追加

基板洗浄装工程では、相対湿度・温度を制御したクリーンエアーを、洗浄槽の洗浄液液面に向けて鉛直方向下向きに供給するとともに、洗浄ドラフト内の空気を所定範囲内の排気量で排気する。 - 特許庁

A method of cleaning for textile products with a continuous laundry machine is provided which comprises adding the composition to a detergent stock tank of the machine and keeping the pH of a cleaning liquid in the cleaning process at 10.0 or lower.例文帳に追加

３）１の洗浄性能強化剤組成物を連続洗濯機の洗剤ストツクタンクに添加し、連続式洗濯機の洗浄工程での洗液ｐＨが１０．０を越えない連続式洗濯機を用いた繊維製品の洗浄方法。 - 特許庁

To provide a cleaning unit that keeps the quality of print images by preventing a cleaning blade from deteriorating due to discharge products generated during charging process performed by a charging device, and to provide an image forming apparatus provided with the cleaning unit.例文帳に追加

帯電装置により帯電する際に発生する放電生成物によるクリーニングブレードの劣化を防止することにより、印刷画像の品位が低下することを抑えるクリーニングユニット及びこれを備えた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

An oxide, existing on the exposed semiconductor surface, is decomposed, and the chamber in the process is excavated by a cleaning pressure so that a cleaning condition for deoxygenization is satisfied, so as to heat the substrate at a cleaning temperature.例文帳に追加

前記露出した半導体表面上に存在する酸化物が分解されて酸素を除去する洗浄条件が成立するように前記工程チャンバ内を洗浄圧力で排気させて前記基板を洗浄温度で加熱する。 - 特許庁

To provide a compact, low-cost cleaning means for preventing matter collected by cleaning from dropping on a grid and a photoreceptor drum in the case of cleaning an electrifying wire, regarding a process unit equipped with the electrifying wire for electrifying the surface of the photoreceptor.例文帳に追加

感光体表面を帯電させる帯電ワイヤを具えたプロセスユニットにおいて、帯電ワイヤを清掃する際に清掃物がグリッドや感光ドラムに落下するのを防止するためのコンパクトで低コストの清掃手段を提供する。 - 特許庁

A fact that cleaning sheets 36 of all the electrostatic chargers 13Y, 13M, 13C and 13K return to a save area B is confirmed by a cleaning member position switch 47 and a cleaning process of a corona discharge member 26 is terminated.例文帳に追加

クリーニング部材ポジションスイッチ４７により、全ての帯電チャージャ１３Ｙ、１３Ｍ、１３Ｃ及び１３Ｋのクリーニングシート３６が退避領域Ｂに戻ったことを確認してコロナ放電部材２６のクリーニング工程を終了する。 - 特許庁

Since the sticker 31 is inexpensive and disposable, an excessive process for cleaning the sticker or the like can be eliminated.例文帳に追加

また、シール３１は安価で使い捨て可能であるので、シールを洗浄するような余分な工程を省くことができる。 - 特許庁

To increase the yield of a semiconductor device by enhancing a dust removing rate in the cleaning process of a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウエハの洗浄工程における異物除去率を向上させ、半導体装置の歩留まりを向上させる。 - 特許庁

To provide a method capable of processing a plurality of wafers without requiring a process of cleaning a processing chamber between wafers.例文帳に追加

各ウエハ間の処理室の清掃工程を必要とせずに、複数のウエハを処理できる方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a grinding apparatus which prevents a cleaning liquid from scattering to the surroundings and sufficiently cleans a held surface of a work prior to a grinding process.例文帳に追加

洗浄液の周囲への飛散を防止しつつ研削加工前のワークの被保持面を十分に洗浄すること。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a semiconductor wafer with hot water under low pressure, in which the need for a drying process is eliminated.例文帳に追加

減圧下において温水で半導体ウェハを洗浄する際に、乾燥工程を不要とする洗浄方法の提供。 - 特許庁

As a result, the washing performance for removing dirt in the minute hole is maintained over the entire cleaning process.例文帳に追加

これにより、洗浄プロセス中全体に亘って、微細な穴の内部の汚れを除去できる洗浄能力が維持される。 - 特許庁

To provide a charging member of superior cleaning properties, and an image forming apparatus and a process cartridge equipped with the charging member.例文帳に追加

クリーニング性に優れた帯電部材、並びに、この帯電部材を備えた画像形成装置及びプロセスカートリッジの提供。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for satisfactorily determining the finish of a cleaning process of an ion exchange resin.例文帳に追加

イオン交換樹脂の洗浄工程の終了を良好に判定することができる方法及び装置を提供する。 - 特許庁

Since the printed resin molding is cooled at the cleaning process, a stable painted resin molding can be obtained.例文帳に追加

また、クーリング工程によって、塗装樹脂成形品を冷却するので、安定した塗装樹脂成形品を得ることができる。 - 特許庁

To form a line and space structure where pattern collapse does not occur in a drying process after liquid cleaning.例文帳に追加

液体洗浄後の乾燥工程においてにパターン倒壊が発生しないラインアンドスペース構造を形成することができる。 - 特許庁

IMAGE CARRIER SURFACE CLEANING UNIT, IMAGE CARRIER SURFACE CLEANER USING THE UNIT, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

像担持体表面クリーニングユニット、それを用いた像担持体表面クリーニング装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁

First, a process for cleaning a silicon nitride film deposited on the internal wall of a chamber and a stage is performed (S201).例文帳に追加

先ず、チャンバの内壁及びステージ上に堆積されたチッ化珪素膜をクリーニングする工程が実施される(Ｓ２０１)。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus that ensures cleaning performance matching an environment in which an image forming process is performed.例文帳に追加

画像形成処理の作業環境に応じたクリーニング性を確保することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an air cleaning device which makes air clean by using an oxidation catalyst, capable of carrying out the process at lower temperature than in conventional devices.例文帳に追加

酸化触媒により浄化を行う空気浄化装置において、従来よりも低温処理を可能にする。 - 特許庁

Then, the mixed gas pressure in the chamber is set as 530-933Pa so as to perform a high-pressure cleaning process.例文帳に追加

また、チャンバー内における前記混合ガスの圧力を５３０〜９３３Ｐａとして行う高圧クリーニング工程を行う。 - 特許庁

Provided, however, as a front process of filling the sealing compound 4, hot water cleaning is implemented by hot water (for example, 100°C).例文帳に追加

但し、シール剤４を充填する前工程として、高温（例えば１００℃) の水による湯洗浄が実施される。 - 特許庁

The manufacturing process is simplified and the cost is reduced because the method does not require a liquid cleaning/separating step.例文帳に追加

本製造法では、洗浄分液工程を行わないことで製造プロセスを簡略化でき、コストの低減が可能となった。 - 特許庁

The element part subjected to the water cleaning process is impregnated with an electrolytic polymerization solution to electrolytically polymerize a second conductive polymer layer.例文帳に追加

水洗工程を経た素子部を電解重合溶液に含浸し、第２の導電性高分子層を電解重合する。 - 特許庁

CLEANING MEMBER AND CHARGER FOR IMAGE FORMING APPARATUS, UNIT AND PROCESS CARTRIDGE FOR IMAGE FORMING APPARATUS, AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

画像形成装置用の清掃部材、帯電装置、画像形成装置用のユニット、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 - 特許庁

After each chamber cleaning process, an electrostatic chuck 32 is subjected to pre-coating by using a dielectric layer 76 such as SiO_2.例文帳に追加

本発明は、各チャンバクリーニングプロセス後に、SiO_2等の誘電体層７６で静電チャック３２のプリコーティングを行うものである。 - 特許庁

Or, preferably the method includes a process of cleaning the porous ceramic filter with a water-soluble organic solvent and/or an inorganic acid.例文帳に追加

又、好ましくは多孔質セラミックフィルターを水溶性有機溶剤及び／又は無機酸で洗浄する工程を含む。 - 特許庁

After this, a cleaning process using brush is applied to it to selectively remove a CNT layer overflowing onto the chromium film 10.例文帳に追加

その後、ブラシによる洗浄工程を実施し、クロム膜１０上にはみ出したＣＮＴ層を選択的に除去する。 - 特許庁

Adhesive strengths of parts corresponding to the dicing trenches 1 of the adhesive layer 8 are selectively reduced before the cleaning process.例文帳に追加

粘着層８のダイシング溝１に対応する部分の粘着力を、洗浄工程前に選択的に低下させる。 - 特許庁

Further, the advantages in the production process and the easiness of cleaning are quite the same as an apparatus made of conventional stainless steel.例文帳に追加

しかも、製造工程における利点や清掃のしやすさは、従来のステンレススチール製のものと何ら変わることがない。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a semiconductor process chamber using molecular fluorine (F2) gas as a principal precursor reagent.例文帳に追加

主たる前駆物質試薬としてのフッ素分子（Ｆ_2）ガスを用いて、半導体プロセスチャンバを洗浄する方法を提供する。 - 特許庁

In the method, the phosphorylated peptide is absorbed by titania, cleaning processes are carried out by using various solvents in order to remove foreign substances, and then an elution process is carried out.例文帳に追加

リン酸化ペプチドをチタニアに吸着後、種々の溶媒で洗浄して夾雑物を除去後、溶出する。 - 特許庁

The method has also a cooling process step of cooling the substrates 1 by applying a cooling liquid to the substrates 1 during the period of at least part of the period when the substrates are moved to a position where the plating cleaning process step is carried out after the plating immersion process step.例文帳に追加

また、メッキ浸漬工程後、メッキ洗浄工程を行う位置まで移動する期間のうち少なくとも一部の期間中に、基板１に冷却液を掛けて、基板１を冷却する冷却工程とを備える。 - 特許庁

The method for producing the low molecular weight chitosan is characterized by comprising (1) a deacetylation process using a strong alkali, while using chitin as a raw material, (2) a cleaning process using endotoxin-free water, and (3) a molecular weight-lowering process using hydrogen peroxide.例文帳に追加

キチンを原料とし、（１）強アルカリを用いた脱アセチル化工程と、（２）エンドトキシンフリー水による洗浄工程と、（３）過酸化水素を用いた低分子量化工程とを経ることにより低分子量キトサンを得る。 - 特許庁

The control part 30 repeats the ink sucking process and the nozzle check process (S2), and ends cleaning if any faulty nozzle disappears by repeating within a predetermined repeating times, or performs the error process (S9) if any faulty nozzle does not disappear.例文帳に追加

制御部３０は、インク吸引工程とノズルチェック工程（Ｓ２）を繰り返し、所定回数以内の繰り返しで不良ノズルがなくなればクリーニングを終了し、なくならなければエラー処理（Ｓ９）を行う。 - 特許庁

The washing wastewater cleaning system is constituted of at least a pretreatment process for primarily treating washing wastewater and a final process for selectively removing divalent ions from the treated water from the pretreatment process.例文帳に追加

少なくとも、洗濯排水を一次処理する前処理工程と、前処理工程を経た処理水から２価イオンを選択的に除去する最終工程とで構成されることを特徴とする洗濯排水の浄化システム。 - 特許庁

To provide a method of fabricating a semiconductor device, capable of preventing permeation to lower layers of a chemical solution employed in the strip process and the cleaning process implemented in the production process of semiconductor devices.例文帳に追加

半導体素子の製造工程で行なわれるストリップ工程及び洗浄工程の際に使用される化学溶液の下部層への浸透を防止することができる半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method is composed of a first process for executing blast treatment, alkali cleaning, or ethanol cleaning on a valve element base material surface corresponding to the sliding surface or on the valve seat base material surface, a second process for executing surfacing, a third process for executing Cr ion bombardment treatment, and a fourth process for forming a CrN film by an ion plating method.例文帳に追加

さらに、本発明の製法は、摺動面に相当する弁体基材表面または弁座基材表面をブラスト処理、アルカリ洗浄またはエタノール洗浄する第１工程、面仕上げをする第２工程、Ｃｒイオンボンバード処理する第３工程、およびイオンプレーティング法によりＣｒＮ被膜を形成する第４工程からなる。 - 特許庁

Using float sheet glass as a glass plate material 5, it is subjected to a disk machining process 6 and an edge machining process 7, strengthened in a chemical process 8, polished in a surface polishing process 9, and subjected to an acid washing process 10a and an alkali-cleaning process 10b, then finally washed in the last washing process 11.例文帳に追加

フロート板ガラスをガラス素板５とし、円盤加工工程６及び端面加工工程７を施した後、化学強化処理工程８で基板強化を行ない、次いで表面研磨工程９で精密研磨を行ない、その後表面洗浄処理工程１０で酸洗浄処理１０ａ及びアルカリ洗浄処理１０ｂを行い、最後に仕上げ洗浄工程１１で仕上げ洗浄処理を行う。 - 特許庁